【課題】容器に貼付されたラベルの良否がラベラ内で検査できるラベル検査装置を提供する。
【解決手段】自転しながら公転軌道３ａを公転する容器２にラベル７を貼付するラベラ１と、ラベラ１の公転軌道３ａを挟んで対向し、かつラベルの正面方向またはラベルの側面方向に設置された少なくとも一対の撮像手段１２ａ〜１２ｄと、撮像手段１２ａ〜１２ｄが撮像した容器２の画像をから容器２に貼付されたラベル７の特徴点を計測する画像計測演算手段２２と、ラベル７の良否を判定する基準値が設定された良否判定基準値設定手段２３と、画像計測演算手段２２が計測した特徴点と基準値とを比較演算してラベル７の良否を判定する良否判定演算手段２５とから構成したもので、ラベラ１内に撮像手段１２ａ〜１２ｄを設置するだけでよいため、既存のラベラにも容易かつ安価に実施することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は画像処理装置における撮影画面中の計測範囲設定の調整を容易にすることを目的とする。
【解決手段】視野内に搬送された対象物を撮像して２次元画像を得る撮像手段と、２次元画像を画面に表示する表示手段と、得られた２次元画像から対象物の輪郭を表す輪郭線を抽出する形状抽出手段と、輪郭線上の複数の点の位置を抽出する点位置抽出手段と、複数の点から２次元画像上の対象物の搬送方向における輪郭線の位置を代表する代表点の位置を決定する代表位置決定手段と、少なくとも代表点の位置と２次元画像上の対象物の搬送方向において予め設定された計測幅とに基づいて輪郭線を含む計測領域を得られた２次元画像上に設定する計測領域設定手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】クロストークによる検出誤差を軽減し、移動体の高帯域速度変動を高精度に検出することができる変位計測装置を得る。
【解決手段】移動体に設けた光学的に識別可能なマークを照明する第１の発光部と前記マークを介した光を検出する第１の受光部とを備える第１の検出部と、前記第１の検出部に対して前記移動体の移動方向に所定の間隔を隔てて配置され、前記マークを照明する第２の発光部と前記マークを介した光を検出する第２の受光部とを備える第２の検出部と、前記第１の発光部と、前記第２の発光部を時分割で発光させる時分割発光手段と、前記マークのうち同一のマークを前記第１、第２の検出部で各々検出する第１のタイミングと前記第１のタイミングと異なる第２のタイミングを検出する検出手段と、前記検出手段で得られた前記第１のタイミング及び前記第２のタイミングを用いて前記移動体の移動速度を算出する速度算出手段と、を有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、所定の特徴パターンの変形を考慮しつつ測定精度の向上と情報処理量の低減とを図ることができるひずみ測定装置およびひずみ測定方法を提供する。
【解決手段】本発明のひずみ測定装置Ｓａおよび該方法では、試験体ＳＭに外力を作用させる前後における試験体ＳＭの外力作用前画像Ａおよび外力作用後画像Ｂから、パターンのマッチングによって仮伸縮率が求められ、この求めた仮伸縮率を用いて外力作用前画像Ａまたは外力作用後画像Ｂにおけるパターンが変形され、この変形されたパターンに基づいて、試験体ＳＭの外力作用後画像Ｂから、パターンのマッチングによって伸縮率が求められる。 （もっと読む）

【課題】誤った対応付けを低減すると同時に、より様々な被写体の形状に対しても三次元計測を可能とする、よりロバストな三次元計測方法を提供する。
【解決手段】複数種類の符号が二次元に並ぶ投影符号列の各符号に、符号の種類ごとに異なる色または輝度を有する点をシンボルとおして割り当てることで得られた二次元の点列を含む投影パターンを被写体に投影し、投影パターンが投影された被写体を撮像することにより得られた撮像画像を用いて被写体の三次元計測を行う画像情報処理装置は、撮像画像から点列を抽出して撮像パターンを取得し、撮像パターンの各点を対応する符号に変換して撮像符号列を取得する。装置は、複数種類のサンプリング形状から選択された一つのサンプリング形状にしたがって所定数の符号を取得し、取得した符号を並べて情報符号列を生成し、情報符号列と投影符号列の部分とを対応付けることで撮像画像中における投影パターンの投影位置を同定し、三次元計測を行う。 （もっと読む）

【課題】位置合わせ測定の精度を向上する。
【解決手段】１つの実施形態によれば、位置合わせ測定方法では、測定光学系の測定領域内が２次元的に分割された複数の部分領域のそれぞれに位置合わせ測定用マークが位置するように前記位置合わせ測定用マークに対する前記測定領域の相対的な位置を順次にシフトさせながら前記位置合わせ測定用マークの位置合わせずれ量を予め測定して、前記測定光学系の特性ずれに関する装置要因誤差を前記複数の部分領域のそれぞれごとに求め、前記複数の部分領域ごとに求められた前記装置要因誤差に基づいて前記複数の部分領域のうち使用すべき部分領域を決定し、前記決定された前記使用すべき部分領域に前記位置合わせ測定用マークが位置するように前記位置合わせ測定用マークに対する前記測定領域の相対的な位置をシフトさせた状態で前記位置合わせ測定用マークの位置合わせずれ量を測定する。 （もっと読む）

【課題】基準面と、基準面と同一の光路内にある対象面を良好に調整できる、光学系調整方法を提供する。
【解決手段】光学系調整方法は、観察対象の像を投影する投影面、パタンが形成されたマスク、及び、マスクと観察対象との間に設置され観察対象からの光を投影面に向けて反射するハーフミラーを有する光学系のマスクの表面を観察対象の方向から撮像する調整用カメラと、光学系に対する調整用カメラの位置を調整するステージと、投影面の位置を調整する調整手段とを有する調整装置における調整方法であって、投影面が取り付けられる前に、調整用カメラに撮像されたマスクの画像を基に調整用カメラの位置を調整するステップと、投影面が取り付けられた後に、調整用カメラに撮像された投影面の位置を調整するステップと、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】空間符号化法における物体の三次元形状の計測を高速に且つ高精度に行う。
【解決手段】それぞれのエッジの位置が相互に重ならない複数の周波数のスリット光パターンを被写体に投影したときのそれぞれの撮像画像から、スリット光パターンのエッジの部分を特定する。そして、２以上のスリット光パターンの撮像画像において、エッジの部分が重なる場合に、そのエッジに対応する位置の距離算出値の信頼度を低下させる。 （もっと読む）

【課題】溶接ビードの幅方向の位置ずれ量を算出するためのコストを抑えることができる溶接ビードの品質検査方法を提供する。
【解決手段】溶接ビードの品質検査方法は、床小梁との結合部分と端板の溶接ビード側端、溶接ビードの端板との結合部分にそれぞれ影ができるように光を当て、モノクロＵＳＢＣＣＤカメラで撮像する。得られた２つのモノクロ画像データを二値化し、端板の溶接ビード側端に相当する基準線ａ、溶接ビードの床小梁との結合線ｂ、溶接ビードの端板の結合線ｃをそれぞれ設定する。次に、双方の結合線ｂ、ｃの間に中間線ｄを設定し、基準線ａから仮想溶接線ｅを設定する。そして、仮想溶接線ｅの垂直方向Ｙの位置に対する中間線ｄの垂直方向Ｙの位置のずれ量Ｙａを算出する。 （もっと読む）

【課題】表示パネルと光学手段との相対的な位置精度を低コストかつ高速に検出できる、実装精度検査方法及びその検査方法を用いる検査装置を提供する。
【解決手段】検査対象となる表示装置は、複数の画素群が配列された表示パネルと、画素群から複数のＮ（Ｎは２以上の自然数）視点に向けた画像表示を提供するための光学手段と有する。検査装置は、視点毎に異なる画像信号を有する検査パターンを表示装置に出力する画像出力手段と、表示装置から表示された検査画像の境界線分の傾きと位置を抽出する抽出手段とを備え、抽出手段が抽出した傾きと位置に基づいて表示パネルと光学手段との位置精度を検出する。 （もっと読む）

【課題】アライメントマークの検出条件を最適化する。
【解決手段】アライメント検出系を用いてウエハ上に形成されたアライメントマーク（ＥＧＡマーク又はサーチマーク）が複数の照明条件及び結像条件で検出される。しかる後、得られた検出信号を信号処理アルゴリズムを用いて解析処理し、検出信号の波形の形状に関する判定量が求められ（ステップ３０２〜３１０）、その判定量に基づいて複数のマークの検出結果の再現性が評価される（ステップ３１２）。そして、その解析結果に基づいて複数の照明条件及び結像条件が最適化される（ステップ３１４）。これにより、検出結果の再現性を向上するようにアライメントマークの検出条件を最適化することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】所定の繰り返しピッチで連続して生産される部品の画像検査において，その画像検査の実施状態を知ることが可能となる技術を提供する。
【解決手段】画像検査装置１０において，マッチング処理部１４１は，入力された検査画像のフレームから部品を検出し，検出された部品の位置と相関値とを取得する。フレーム間部品対応検出部１５１は，連続する２つのフレーム間で類似する部品の対応を検出する。対応部品位置差分算出部１５２は，対応部品間の検出位置の差分である対応部品位置差分を算出する。対応部品位置差分統計部１５３は，対応部品位置差分を統計した移動量ヒストグラムを作成する。部品移動量推定部１５５は，移動量ヒストグラムから連続するフレーム間での部品の移動量を推定する。画像検査実施状態判定部１５０は，部品の移動量の推定結果から，画像検査が適切に実施されているか否かを判定する。 （もっと読む）

【課題】複数レイヤ試料の２つのレイヤ間のオーバレイ誤差を決定する方法を提供する。
【解決手段】試料の第１レイヤから形成される第１構造および第２レイヤから形成される第２構造をそれぞれ有する複数の周期的ターゲットについて、光学システムを用い、周期的ターゲットのそれぞれについて光学信号が計測される。第１および第２構造の間には既定義されたオフセットが存在する。散乱計測オーバレイ技術を用いて既定義されたオフセットに基づいて周期的ターゲットからの前記計測された光学信号を分析することによって第１および第２構造間のオーバレイ誤差が決定される。本光学システムは、反射計、偏光計、画像化、干渉計、および／または走査角システムのうちの任意の１つ以上を備える。 （もっと読む）

【課題】投影光学系の像面位置を精度高く計測すること。
【解決手段】基板の露光量をラインパターンのレジスト像が解像する露光量以上になる大きさ、換言すれば、ラインパターンのレジスト像のコントラスト値が所定値以上になる大きさに制御する。また、フォーカス位置を変化させた際にパターン倒れが発生しない大きさ以上の線幅を有するラインパターンを使用してベストフォーカス位置を算出する。これにより、デフォーカスによってパターン倒れが発生することを抑制しつつ、算出されるベストフォーカス位置の露光量依存性を無視することができるので、投影光学系の像面位置を精度高く計測することができる。 （もっと読む）

【課題】人手によるミスの排除、処理時間の短縮、精度の向上を図る。
【解決手段】市松模様のチェックパターン４Ａの中心部のマス目に基準マーク４Ｂを設けてキャリブレーションパターン４とする。基準マーク４Ｂが入るようにキャリブレーションパターン４を少なくとも３方向から撮影する。画像処理装置５は、自動的に、撮像されたキャリブレーションパターン４のそれぞれにおいて、任意の四角形を形成するように任意のマス目の交点座標を検出し、この検出された交点座標に基づいて各マス目の交点候補位置を算出し、算出した交点候補位置から各マス目の交点座標を推定し、推定した各マス目の交点座標に基づいて、基準マーク４Ｂの位置を座標基準として、撮像されたキャリブレーションパターン４と実際のキャリブレーションパターン４との間のＨ行列の本行列を算出し、これら算出した本行列からキャリブレーションパラメータを算出する。 （もっと読む）

【課題】 コンベアに投入される多品種のワークを誤りなく識別するための識別装置及び識別方法の提供。
【解決手段】 本発明の識別装置は、ワーク（４Ａ）の表面までの距離を計測する計測装置（８Ａ）と、その計測装置（８Ａ）をワーク（４Ａ）の長手方向に移動させる移動装置（１０Ａ）と、これらを制御する制御装置（１４Ａ）とを有しており、前記ワーク（４Ａ）には所定領域に種類を判別するため浮き出し文字（２２Ａ）が印字されており、前記制御装置（１４Ａ）は、計測装置（８Ａ）を移動装置（１０Ａ）により移動させながらワーク（４Ａ）表面までの距離を計測し、計測装置（８Ａ）で計測されたワーク（４Ａ）の所定領域における浮き出し文字（２２Ａ）による隆起の有無とその位置及び形状を特定し仕様の照合を行って種類・仕様の判断をする制御機能を有する。 （もっと読む）

【課題】オフセット量を正確かつ容易に取得する。
【解決手段】第１の位置情報に基づいて特定される位置Ｏｂ上にビーム照射部が位置するように移動させた後に、照射部をＸ方向（矢印Ａ１，Ａ２の向き）に移動させながらレーザービームを照射させたときのレーザービームの反射光量の変化、およびＹ方向（矢印Ｂ１，Ｂ２の向き）に移動させながら照射させたときの反射光量の変化に基づいてマーク２１の位置Ｍｘ１，Ｍｘ２，Ｍｙ１，Ｍｙ２を取得すると共に、位置Ｍｘ１，Ｍｘ２，Ｍｙ１，Ｍｙ２と、第２の位置情報とに基づいて基板保持機構によって保持されているオフセット量取得用基板におけるマーク２１の位置Ｍｂを特定し、位置Ｍｂ，ＯｂのＸ方向に沿った位置ずれ量Ｘｂ、およびＹ方向に沿った位置ずれ量Ｙｂを、照射部のＸ方向に沿った移動量、およびＹ方向に沿った移動量をそれぞれ補正するためのオフセット量として特定する。 （もっと読む）

【課題】使い勝手の良い長寸法測定装置を提供すること。
【解決手段】長寸法測定装置１は、試料２が載置し、配置位置が固定されている試料台１０と、試料２に形成されたパターンに照明光を照射する照明ユニット２０と、照明光から得られたパターンの像を撮像する撮像ユニット３０と、試料台１０の平面度を調整し試料台１０を支持する平面度調整機構１２と、エアを試料台１０に送気し、試料台１０からエアを吸引する送気吸引部１６と、試料台１０にて浮上している試料２に吸着する吸着機構４０と、撮像ユニット３０をＺ方向に移動させるＺステージ５１と、撮像ユニット３０をＸ方向に移動させるＸステージ５２と、吸着機構４０を介して試料２をＹ方向に移動させるＹステージ５３と、試料２に形成されたパターン上の２点間の距離を測定する干渉測定ユニット６０とを具備している。 （もっと読む）

【課題】電気機器を構成する構造物を精度良く３次元測定することにより、電気機器の組立を簡易にする。
【解決手段】構造部品の外形の寸法基準となる複数の位置にターゲットを設置する工程(Ｓ１０２)と、ターゲットの位置を画像解析することにより構造部品の形成寸法を３次元測定する工程(Ｓ１０３)とを備えている。また、構造部品の形成寸法の３次元測定結果に基づいて付設部品を形成する工程(Ｓ１０４)と、構造部品に付設部品を取付ける工程(Ｓ１０６)とを備えている。ターゲットを設置する工程(Ｓ１０２)は、上記複数の位置のうちターゲットを直接設置することができない設置不能箇所について、構造部品にターゲット設置用治具を取付けることにより上記設置不能箇所に対応した位置にターゲットを設置する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】基板の加工領域の位置に関する位置情報をアライメントマークに関連させて取り出し、アライメントと実際の加工とを切り離して基板を効率的に製造する方法を提供する。
【解決手段】基板（５；４２）は、基板（５；４２）に対して固定されたアライメントマーク（６ａ、６ｂ；１２ａ…ｄ；４４ａ…ｃ）が設けられ、基板（５；４２）を加工する前に、基板（５；４２）の加工領域の位置に関する位置情報がアライメントマーク（６ａ、６ｂ；１２ａ…ｄ；４４ａ…ｃ）に関連させて取り出された場合に、アライメントと実際の加工とを切り離すことによって効率よく製造することができる。この場合に、アライメントは、加工時にアライメントマーク（６ａ、６ｂ；１２ａ…ｄ；４４ａ…ｃ）の位置を１回だけ再測定し、加工領域の位置に関する保存された位置情報を使用することにより行うことができる。 （もっと読む）