基板検査装置
【課題】オフセット量を正確かつ容易に取得する。
【解決手段】第１の位置情報に基づいて特定される位置Ｏｂ上にビーム照射部が位置するように移動させた後に、照射部をＸ方向（矢印Ａ１，Ａ２の向き）に移動させながらレーザービームを照射させたときのレーザービームの反射光量の変化、およびＹ方向（矢印Ｂ１，Ｂ２の向き）に移動させながら照射させたときの反射光量の変化に基づいてマーク２１の位置Ｍｘ１，Ｍｘ２，Ｍｙ１，Ｍｙ２を取得すると共に、位置Ｍｘ１，Ｍｘ２，Ｍｙ１，Ｍｙ２と、第２の位置情報とに基づいて基板保持機構によって保持されているオフセット量取得用基板におけるマーク２１の位置Ｍｂを特定し、位置Ｍｂ，ＯｂのＸ方向に沿った位置ずれ量Ｘｂ、およびＹ方向に沿った位置ずれ量Ｙｂを、照射部のＸ方向に沿った移動量、およびＹ方向に沿った移動量をそれぞれ補正するためのオフセット量として特定する。
【解決手段】第１の位置情報に基づいて特定される位置Ｏｂ上にビーム照射部が位置するように移動させた後に、照射部をＸ方向（矢印Ａ１，Ａ２の向き）に移動させながらレーザービームを照射させたときのレーザービームの反射光量の変化、およびＹ方向（矢印Ｂ１，Ｂ２の向き）に移動させながら照射させたときの反射光量の変化に基づいてマーク２１の位置Ｍｘ１，Ｍｘ２，Ｍｙ１，Ｍｙ２を取得すると共に、位置Ｍｘ１，Ｍｘ２，Ｍｙ１，Ｍｙ２と、第２の位置情報とに基づいて基板保持機構によって保持されているオフセット量取得用基板におけるマーク２１の位置Ｍｂを特定し、位置Ｍｂ，ＯｂのＸ方向に沿った位置ずれ量Ｘｂ、およびＹ方向に沿った位置ずれ量Ｙｂを、照射部のＸ方向に沿った移動量、およびＹ方向に沿った移動量をそれぞれ補正するためのオフセット量として特定する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、検査対象基板に向けてレーザービームを照射するビーム照射部と、検査対象基板を保持する基板保持機構およびビーム照射部の少なくとも一方を移動させる移動機構とを備えて構成された基板検査装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
この種の基板検査装置として、セラミック基板の反り量を光学的に検査可能に構成された反り検査装置（以下、単に「検査装置」ともいう）が特開２００６−３１７４０８号公報に開示されている。この検査装置では、セラミック基板における検査対象箇所の基準面からの高さを光学的に計測することによって、セラミック基板に生じている反りの状態を検査する構成が採用されている。具体的には、この検査装置では、まず、駆動手段のリニアステージ上に設置されているベース板の上に検査対象のセラミック基板をセットする。次いで、セラミック基板上に規定されている複数の検査対象箇所の基準面からの高さをそれぞれ計測する。この後、各検査対象箇所についての計測値の分布に基づいて、セラミック基板に生じている反りの状態が検査される。
【０００３】
この場合、この検査装置では、駆動手段が制御手段の制御に従ってリニアステージ（ベース板上のセラミック基板）を水平方向に移動させることで、固定的に設置されているレーザ変位計の直下に各検査対象箇所を順に位置させる構成が採用されている。また、上記の公開公報には、駆動手段によってセラミック基板を移動させる構成に代えて、セラミック基板に対してレーザ変位計を移動させる構成を採用することができるとの開示が存在する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−３１７４０８号公報（第５−１０頁、第１−４図）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところが、従来の検査装置には、以下の問題点が存在する。すなわち、従来の検査装置では、駆動手段がセラミック基板を水平方向に移動させることでレーザ変位計の直下に各検査対象箇所を順に位置させる構成、または、セラミック基板に対してレーザ変位計を移動させることでレーザ変位計の直下に各検査対象箇所を順に位置させる構成が採用されている。この場合、従来の検査装置では、予め規定された検査対象箇所ではない箇所の高さが計測されたとき（レーザ変位計によるレーザービームの照射位置が位置ずれしたとき）に、セラミック基板に生じている反りの状態を正しく検査するのが困難となる。同様にして、検査処理時にビーム照射部から検査対象基板に向けてレーザービームを照射する構成の他の各種基板検査装置においても、レーザービームの照射位置が、予め規定された位置から位置ずれしたときに、検査対象基板を正しく検査することが困難となる。
【０００６】
一方、従来の検査装置のように、検査処理に際して検査対象基板およびビーム照射部（レーザ変位計）の少なくとも一方を移動させる構成の基板検査装置では、移動機構を構成する部品精度のばらつきや、移動機構の組立て時に生じる部品組付け位置のばらつきなどが生じた状態となっている。したがって、この種の基板検査装置では、装置の組立て作業の完了時、または装置の設置作業の完了時や、検査対象基板に対する検査処理の準備作業時などに、上記のばらつきの状態に応じて移動量を補正するためのオフセット量を取得しておき、取得したオフセット量に応じて、上記の少なくとも一方の移動量を補正する構成が一般的に採用されている。
【０００７】
この場合、このオフセット量の取得に際しては、一例として、図６に示すオフセット量取得用基板２０ｚが使用される。このオフセット量取得用基板２０ｚは、レーザービームの透過率が高い材料で平板状に形成された板材の表面に、板材の形成材料よりもレーザービームの透過率が低い材料（一例として、金などの金属材料）によって円形のビーム照射位置検出用マーク２１ｚ（以下、単に「マーク２１ｚ」ともいう）が形成されている。このマーク２１ｚは、図７，８に示すように、その直径がレーザービームのビームスポット径（両図におけるレーザ照射領域Ａｚの直径）よりも大径となるように形成されている。また、このオフセット量取得用基板２０ｚでは、マーク２１ｚの形成位置が既知となっている。
【０００８】
上記のオフセット量取得用基板２０ｚを使用して、一例として、検査対象基板に対してビーム照射部を移動させる構成の基板検査装置においてオフセット量を取得する際には、まず、検査対象基板を保持する基板保持機構にオフセット量取得用基板２０ｚをセットする。次いで、マーク２１ｚの既知の形成位置上（一例として、マーク２１ｚの中心位置上）に移動機構によってビーム照射部を移動させると共に、ビーム照射部からオフセット量取得用基板２０ｚに向けてレーザービームを照射させる。この際に、上記の部品精度のばらつきや、部品組付け位置のばらつきなどの影響が存在せずに、移動機構がビーム照射部を正確に移動させることが可能な状態（移動量を補正する必要がない状態）となっているときには、図７に示すように、マーク２１ｚの既知の中心位置上に移動させた状態のビーム照射部から照射したレーザービームのレーザ照射領域Ａｚがマーク２１ｚに対して同心状に重なった状態となる。したがって、マーク２１ｚに対するレーザ照射領域Ａｚの位置を目視で確認して同図に示す状態となっているときには、検査処理時における移動量の補正が不要であると判断することができる。
【０００９】
これに対して、上記の部品精度のばらつきや、部品組付け位置のばらつきなどの影響を受けて、移動機構によるビーム照射部の移動位置に位置ずれが生じている状態（移動量の補正が必要な状態）となっているときには、図８に実線で示すように、マーク２１ｚの既知の中心位置上に移動させた状態のビーム照射部から照射したレーザービームのレーザ照射領域Ａｚがマーク２１ｚに対して位置ずれした状態となる。したがって、マーク２１ｚに対するレーザ照射領域Ａｚの位置を目視で確認して同図に示す状態となっているときには、マーク２１ｚに対するレーザ照射領域Ａｚの位置が破線で示す状態となるように移動機構によってビーム照射部を移動させる。この際に、レーザ照射領域Ａｚが実線で示す状態となる位置から破線で示す状態となるまでのビーム照射部の移動量が、検査処理時における移動量の補正に使用するオフセット量として取得される。これにより、取得したオフセット量に応じて移動機構によるビーム照射部の移動量を補正することで、予め規定された位置にレーザービームを照射することが可能となる。
【００１０】
しかしながら、オフセット量取得用基板２０ｚを使用した上記のオフセット量の取得方法では、マーク２１ｚとレーザ照射領域Ａｚとが同心状に一致したかを目視によって確認する必要がある。このため、オフセット量取得処理を実行するオペレータ毎にマーク２１ｚとレーザ照射領域Ａｚとが一致したか否かを判断する判断基準に差異が生じることがあり、この判断基準の差異に起因して正確なオフセット量の取得が困難となっているという問題点がある。また、オフセット量取得用基板２０ｚを使用してオフセット量を取得する基板検査装置では、検査処理時における事故の発生を防止するために、移動機構やビーム照射部が保護カバーによって覆われている。したがって、オフセット量の取得に際しては、マーク２１ｚとレーザ照射領域Ａｚとが一致したか否かを保護カバー越しに確認する必要があるため、マーク２１ｚやレーザ照射領域Ａｚの視認性が低下する結果、両者が一致したか否かを正しく判断すること自体が困難となっているという問題点もある。
【００１１】
本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであり、オフセット量を正確かつ容易に取得し得る基板検査装置を提供することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的を達成すべく、請求項１記載の基板検査装置は、検査対象基板を保持する基板保持機構と、前記検査対象基板に向けてレーザービームを照射するビーム照射部と、前記基板保持機構および前記ビーム照射部の少なくとも一方を第１の移動体として任意のＸ−Ｙ方向に移動させる移動機構と、前記ビーム照射部によって前記レーザービームを照射すべき照射位置を特定可能な照射位置情報を記憶する記憶部と、前記検査対象基板の検査処理時に前記移動機構を制御して前記照射位置情報に基づいて特定される前記ビーム照射位置上に前記ビーム照射部を位置させるように前記第１の移動体を移動させると共に当該ビーム照射部を制御して前記レーザービームを照射させる制御部とを備え、当該制御部が、前記基板保持機構によって保持されたオフセット量取得用基板を対象として、前記第１の移動体を前記検査処理時に前記移動機構によって移動させる際の前記Ｘ方向に沿った移動量および前記Ｙ方向に沿った移動量をそれぞれ補正するためのオフセット量を取得するオフセット量取得処理を実行可能に構成され、前記オフセット量取得用基板には、前記基板保持機構によって保持された状態において前記Ｙ方向と平行になる直線状の第１の辺および前記Ｘ方向と平行になる直線状の第２の辺を有すると共に前記レーザービームの反射光量が周囲とは相違するビーム照射位置検出用マークが形成され、前記記憶部は、前記オフセット量取得用基板が前記基板保持機構によって保持された状態において前記ビーム照射位置検出用マークに対応して予め規定された基準点が位置すべき第１の位置を特定可能な第１の位置情報と、前記基準点に対する前記第１の辺の位置および前記第２の辺の位置をそれぞれ特定可能な第２の位置情報とを記憶し、前記制御部は、前記オフセット量取得処理において、前記第１の位置情報および前記第２の位置情報の予め規定された一方の位置情報に基づいて特定される第１のビーム照射開始位置上に前記ビーム照射部が位置するように前記第１の移動体を前記移動機構によって移動させた後に当該第１の移動体を当該移動機構によって前記Ｘ方向に移動させながら当該ビーム照射部を制御して前記レーザービームを照射させたときの当該レーザービームの反射光量の変化に基づいて前記第１の辺の位置を取得し、かつ、前記予め規定された一方の位置情報に基づいて特定される第２のビーム照射開始位置上に前記ビーム照射部が位置するように前記第１の移動体を前記移動機構によって移動させた後に当該第１の移動体を当該移動機構によって前記Ｙ方向に移動させながら当該ビーム照射部を制御して前記レーザービームを照射させたときの当該レーザービームの反射光量の変化に基づいて前記第２の辺の位置を取得すると共に、取得した前記第１の辺の位置および前記第２の辺の位置と、前記第２の位置情報とに基づいて前記基板保持機構によって保持されている状態の前記オフセット量取得用基板における前記基準点の第２の位置を特定し、特定した当該第２の位置と前記第１の位置との前記Ｘ方向に沿った第１の位置ずれ量を、前記第１の移動体の当該Ｘ方向に沿った移動量を補正するためのオフセット量とし、かつ、当該第２の位置と当該第１の位置との前記Ｙ方向に沿った第２の位置ずれ量を、当該第１の移動体の当該Ｙ方向に沿った移動量を補正するためのオフセット量として特定する。
【００１３】
なお、「レーザービームの反射光量が周囲とは相違するビーム照射位置検出用マーク」には、「レーザービームの透過光量が周囲とは相違するビーム照射位置検出用マーク」がこれに含まれる。また、「レーザービームの反射光量の変化に基づいて第１の辺（第２の辺）の位置を取得する」との処理には、「レーザービームの透過光量の変化に基づいてレーザービームの反射光量の変化を特定して、その結果に基づいて第１の辺（第２の辺）の位置を取得する」との処理、および「レーザービームの反射光量の変化に基づいてレーザービームの透過光量の変化を特定して、その結果に基づいて第１の辺（第２の辺）の位置を取得する」との処理がこれに含まれる。
【００１４】
また、請求項２記載の基板検査装置は、請求項１記載の基板検査装置において、前記オフセット量取得用基板には、前記ビーム照射位置検出用マークとして、互いに平行な一対の前記第１の辺および互いに平行な一対の前記第２の辺を有する平行四辺形状のマークが形成され、前記記憶部は、前記第２の位置情報として、前記一対の第１の辺の位置および前記一対の第２の辺の位置をそれぞれ特定可能な情報を記憶し、前記制御部は、前記オフセット量取得処理において、前記一対の第１の辺の位置および前記一対の第２の辺の位置をそれぞれ取得し、取得した当該各辺の位置と前記第２の位置情報とに基づいて前記第２の位置を特定する。
【００１５】
さらに、請求項３記載の基板検査装置は、請求項１または２記載の基板検査装置において、前記検査対象基板を撮像して撮像情報を出力するカメラを備え、前記移動機構は、前記基板保持機構および前記カメラの少なくとも一方を第２の移動体として前記任意のＸ−Ｙ方向に移動可能に構成され、前記オフセット量取得用基板には、前記基板保持機構によって保持された当該オフセット量取得用基板の前記Ｘ方向に沿った第３の位置ずれ量および前記Ｙ方向に沿った第４の位置ずれ量を特定するための位置ずれ量特定用マークが形成され、前記記憶部は、前記オフセット量取得用基板が前記基板保持機構によって正常に保持された状態において前記位置ずれ量特定用マークが位置すべき第３の位置を特定可能な第３の位置情報を記憶し、前記制御部は、前記オフセット量取得処理において、前記第３の位置情報に基づいて特定される前記位置ずれ量特定用マークの形成位置上に前記カメラが位置するように前記第２の移動体を前記移動機構によって移動させた後に当該カメラを制御して当該位置ずれ量特定用マークを撮像させると共に、当該カメラから出力された前記撮像情報を画像解析処理して、当該画像解析処理の結果と前記第３の位置情報とに基づいて前記第３の位置ずれ量および前記第４の位置ずれ量を特定し、特定した当該第３の位置ずれ量および当該第４の位置ずれ量に応じて、前記第１のビーム照射開始位置上に前記ビーム照射部が位置するように前記第１の移動体を移動させる際の移動量、および前記第２のビーム照射開始位置上に当該ビーム照射部が位置するように当該第１の移動体を移動させる際の移動量をそれぞれ補正する。
【００１６】
さらに、請求項４記載の基板検査装置は、請求項１または２記載の基板検査装置において、前記検査対象基板を撮像して撮像情報を出力するカメラを備え、前記移動機構は、前記基板保持機構および前記カメラの少なくとも一方を第２の移動体として前記任意のＸ−Ｙ方向に移動可能に構成され、前記オフセット量取得用基板には、前記基板保持機構によって保持された当該オフセット量取得用基板の前記Ｘ方向に沿った第３の位置ずれ量および前記Ｙ方向に沿った第４の位置ずれ量を特定するための位置ずれ量特定用マークが形成され、前記記憶部は、前記オフセット量取得用基板が前記基板保持機構によって正常に保持された状態において前記位置ずれ量特定用マークが位置すべき第３の位置を特定可能な第３の位置情報を記憶し、前記制御部は、前記オフセット量取得処理において、前記第３の位置情報に基づいて特定される前記位置ずれ量特定用マークの形成位置上に前記カメラが位置するように前記第２の移動体を前記移動機構によって移動させた後に当該カメラを制御して当該位置ずれ量特定用マークを撮像させると共に、当該カメラから出力された前記撮像情報を画像解析処理して、当該画像解析処理の結果と前記第３の位置情報とに基づいて前記第３の位置ずれ量および前記第４の位置ずれ量を特定し、特定した当該第３の位置ずれ量および当該第４の位置ずれ量を前記第１の位置ずれ量および前記第２の位置ずれ量にそれぞれ加算して前記オフセット量を特定する。
【００１７】
また、請求項５記載の基板検査装置は、請求項３または４記載の基板検査装置において、前記制御部は、前記オフセット量取得処理において、前記ビーム照射位置検出用マークを前記位置ずれ量特定用マークとして使用して前記第３の位置ずれ量および前記第４の位置ずれ量を特定する。
【００１８】
さらに、請求項６記載の基板検査装置は、請求項１から５のいずれかに記載の基板検査装置において、前記制御部は、前記オフセット量取得処理において、前記第１の位置情報に基づいて特定される前記基準点を前記第１のビーム照射開始位置および前記第２のビーム照射開始位置として前記第１の辺の位置および前記第２の辺の位置を取得する。
【発明の効果】
【００１９】
請求項１記載の基板検査装置では、制御部が、オフセット量取得処理において、第１の位置情報および第２の位置情報の予め規定された一方の位置情報に基づいて特定される第１のビーム照射開始位置上にビーム照射部が位置するように第１の移動体を移動機構によって移動させた後に第１の移動体を移動機構によってＸ方向に移動させながらビーム照射部を制御してレーザービームを照射させたときのレーザービームの反射光量の変化に基づいてビーム照射位置検出用マークの第１の辺の位置を取得し、かつ、予め規定された一方の位置情報に基づいて特定される第２のビーム照射開始位置上にビーム照射部が位置するように第１の移動体を移動機構によって移動させた後に第１の移動体を移動機構によってＹ方向に移動させながらビーム照射部を制御してレーザービームを照射させたときのレーザービームの反射光量の変化に基づいてビーム照射位置検出用マークの第２の辺の位置を取得すると共に、取得した第１の辺の位置および第２の辺の位置と、第２の位置情報とに基づいて基板保持機構によって保持されている状態のオフセット量取得用基板における基準点の第２の位置を特定し、特定した第２の位置と第１の位置とのＸ方向に沿った第１の位置ずれ量を、第１の移動体のＸ方向に沿った移動量を補正するためのオフセット量とし、かつ、第２の位置と第１の位置とのＹ方向に沿った第２の位置ずれ量を、第１の移動体のＹ方向に沿った移動量を補正するためのオフセット量として特定する。
【００２０】
したがって、請求項１記載の基板検査装置によれば、オフセット量取得処理時にマーク２１ｚとレーザ照射領域Ａｚとが同心状に一致したかを目視によって判断する必要がある従来の検査装置とは異なり、保護カバー越しにビーム照射位置検出用マークと、オフセット量取得用基板に対して照射したレーザービームの照射領域とが同心状に一致したかを確認する必要がないだけではなく、ビーム照射部からのレーザービームの反射光量の変化に基づいて特定される基準点の第２の位置と、第１の位置情報に基づいて特定される基準点の第１の位置とのＸ方向に沿った第１の位置ずれ量およびＹ方向に沿った第２の位置ずれ量に基づいてオフセット量が自動的に取得されるため、オペレータの判断基準の差異に起因して、取得されるオフセット量に差異が生じる事態を回避して、正確かつ容易にオフセット量を取得することができる。したがって、この基板検査装置によれば、検査対象基板の検査処理時に、オフセット量取得処理によって取得したオフセット量に基づいて、第１の移動体を正確に移動させることができるため、検査対象基板を正確に検査することができる。
【００２１】
また、請求項２記載の基板検査装置によれば、制御部が、オフセット量取得処理において、互いに平行な一対の第１の辺および互いに平行な一対の第２の辺を有する平行四辺形状のビーム照射位置検出用マークが形成されたオフセット量取得用基板を使用して、一対の第１の辺の位置および一対の第２の辺の位置をそれぞれ取得し、取得した各辺の位置と第２の位置情報とに基づいて第２の位置を特定することにより、第１の辺や第２の辺がそれぞれ１つだけのビーム照射位置検出用マークが形成されたオフセット量取得用基板を使用してオフセット量を取得する構成と比較して、基準点の第２の位置を正確に特定することができるため、一層正確なオフセット量を取得することができる。
【００２２】
さらに、請求項３記載の基板検査装置では、制御部が、オフセット量取得処理において、第３の位置情報に基づいて特定される位置ずれ量特定用マークの形成位置上にカメラが位置するように第２の移動体を移動機構によって移動させた後にカメラを制御して位置ずれ量特定用マークを撮像させると共に、カメラから出力された撮像情報を画像解析処理して、画像解析処理の結果と第３の位置情報とに基づいて第３の位置ずれ量および第４の位置ずれ量を特定し、特定した第３の位置ずれ量および第４の位置ずれ量に応じて、第１のビーム照射開始位置上にビーム照射部が位置するように第１の移動体を移動させる際の移動量、および第２のビーム照射開始位置上にビーム照射部が位置するように第１の移動体を移動させる際の移動量をそれぞれ補正する。
【００２３】
さらに、請求項４記載の基板検査装置では、制御部が、オフセット量取得処理において、第３の位置情報に基づいて特定される位置ずれ量特定用マークの形成位置上にカメラが位置するように第２の移動体を移動機構によって移動させた後にカメラを制御して位置ずれ量特定用マークを撮像させると共に、カメラから出力された撮像情報を画像解析処理して、画像解析処理の結果と第３の位置情報とに基づいて第３の位置ずれ量および第４の位置ずれ量を特定し、特定した第３の位置ずれ量および第４の位置ずれ量を第１の位置ずれ量および第２の位置ずれ量にそれぞれ加算してオフセット量を特定する。
【００２４】
したがって、請求項３または４記載の基板検査装置によれば、基板保持機構によるオフセット量取得用基板の保持位置に位置ずれが生じていたとしても、この位置ずれの影響を排除して、正確なオフセット量を取得することができる。
【００２５】
また、請求項５記載の基板検査装置によれば、制御部が、オフセット量取得処理において、ビーム照射位置検出用マークを位置ずれ量特定用マークとして使用して第３の位置ずれ量および第４の位置ずれ量を特定することにより、ビーム照射位置検出用マークおよび位置ずれ量特定用マークを別個に形成したオフセット量取得用基板を使用してオフセット量を取得する構成と比較して、オフセット量取得用基板の製造コストを低減することができるだけでなく、第１の位置を特定するための第１の位置情報や、第３の位置を特定するための第３の位置情報の生成が容易となるため、オフセット量取得処理を実行可能な環境を用意するための負担を十分に軽減することができる。
【００２６】
さらに、請求項６記載の基板検査装置によれば、制御部が、オフセット量取得処理において、第１の位置情報に基づいて特定される基準点を第１のビーム照射開始位置および第２のビーム照射開始位置として第１の辺の位置および第２の辺の位置を取得することにより、基準点、第１のビーム照射開始位置および第２のビーム照射開始位置をそれぞれ別個に規定した場合と比較して、オフセット量取得処理を実行可能な環境を用意するための負担を一層軽減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】基板検査装置１の構成を示す構成図である。
【図２】オフセット量取得用基板２０の平面図である。
【図３】基板保持機構２によるオフセット量取得用基板２０の保持位置の位置ずれに起因するビーム照射位置検出用マーク２１の位置ずれについて説明するための説明図である。
【図４】Ｘ−Ｙ移動機構３ａ，３ｂによるレーザ変位計５の移動位置の位置ずれについて説明するための説明図である。
【図５】他の実施の形態に係るオフセット量取得用基板２０Ａの平面図である。
【図６】従来のオフセット量取得用基板２０ｚの平面図である。
【図７】オフセット量取得用基板２０ｚを使用したオフセット量の取得方法について説明するための説明図である。
【図８】オフセット量取得用基板２０ｚを使用したオフセット量の取得方法について説明するための他の説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、基板検査装置の実施の形態について、添付図面を参照して説明する。
【００２９】
図１に示す基板検査装置１は、検査対象基板の一例であるプリント基板（図示せず）の良否を電気的に検査可能に構成された装置であって、基板保持機構２、Ｘ−Ｙ移動機構３ａ，３ｂ、カメラ４、レーザ変位計５、上下動機構６ａ，６ｂ、検査用プローブ７ａ，７ｂ、測定部８、制御部９および記憶部１０を備えて構成されている。基板保持機構２は、制御部９からの制御信号Ｓ１に従って、上記のプリント基板やオフセット量取得用基板２０（図２参照）を保持する。Ｘ−Ｙ移動機構３ａ，３ｂは、「移動機構」の一例であって、Ｘ−Ｙ移動機構３ａが、制御部９からの制御信号Ｓ２に従って、カメラ４および上下動機構６ａ（検査用プローブ７ａ）を任意のＸ−Ｙ方向に移動させ、Ｘ−Ｙ移動機構３ｂが、制御部９からの制御信号Ｓ２に従って、レーザ変位計５および上下動機構６ｂ（検査用プローブ７ｂ）を任意のＸ−Ｙ方向に移動させる（「基板保持機構およびカメラの少なくとも一方である第１の移動体」が「カメラ」で、「基板保持機構およびビーム照射部の少なくとも一方である第２の移動体」が「ビーム照射部」の構成の例）。
【００３０】
カメラ４は、制御部９からの制御信号Ｓ３に従い、基板保持機構２によって保持されている検査対象基板やオフセット量取得用基板２０を撮像し、その撮像情報Ｄ１を制御部９に出力する。この場合、この基板検査装置１では、検査処理に際して基板保持機構２によって保持されている検査対象基板を撮像して撮像情報Ｄ１を画像解析処理することにより、基板保持機構２による検査対象基板の保持位置のずれ量を取得して、取得したずれ量に応じて検査用プローブ７ａ，７ｂによるプロービング位置を微調整する構成が採用されている。レーザ変位計５は、「ビーム照射部」の一例であって、制御部９からの制御信号Ｓ４に従い、基板保持機構２によって保持されている検査対象基板やオフセット量取得用基板２０に向けてレーザービームを照射して、その反射光量を測定し、測定結果を反射光量情報Ｄ２として制御部９に出力する。この場合、この基板検査装置１では、検査処理に際して基板保持機構２によって保持されている検査対象基板の表面の高さをレーザ変位計５によって計測し、計測結果に応じて、検査用プローブ７ａ，７ｂによるプロービング高さを微調整する構成が採用されている。
【００３１】
上下動機構６ａ，６ｂは、制御部９からの制御信号Ｓ５に従って、Ｘ−Ｙ移動機構３ａ，３ｂに対して検査用プローブ７ａ，７ｂをＺ軸方向（基板保持機構２に対する接離方向）に移動させて検査用プローブ７ａ，７ｂを検査対象基板にプロービングさせる。この場合、この基板検査装置１では、Ｘ−Ｙ移動機構３ａに取り付けられた上下動機構６ａに検査用プローブ７ａが取り付けられると共に、Ｘ−Ｙ移動機構３ｂに取り付けられた上下動機構６ｂに検査用プローブ７ｂが取り付けられている。検査用プローブ７ａ，７ｂは、測定部８に対して電気的に接続されたコンタクトプローブであって、一例として、伸縮型のピンプローブで構成されている。測定部８は、制御部９からの制御信号Ｓ６に従って検査対象基板についての電気的パラメータを測定する測定処理を実行する。具体的には、測定部８は、検査対象基板に形成された導体パターン（図示せず）に上記の検査用プローブ７ａ，７ｂをプロービングさせた状態において、検査用プローブ７ａ，７ｂを介して導体パターンについての電気的パラメータを測定し、その測定結果を測定結果情報Ｄ３として制御部９に出力する。
【００３２】
制御部９は、基板検査装置１を総括的に制御する。具体的には、制御部９は、基板保持機構２を制御して（制御信号Ｓ１を出力して）、検査対象基板やオフセット量取得用基板２０を保持させる。また、制御部９は、Ｘ−Ｙ移動機構３ａ，３ｂを制御して（制御信号Ｓ２を出力して）、カメラ４、レーザ変位計５および上下動機構６ａ，６ｂ（検査用プローブ７ａ，７ｂ）を任意のＸ−Ｙ方向に移動させる。さらに、制御部９は、カメラ４を制御して（制御信号Ｓ３を出力して）、検査対象基板やオフセット量取得用基板２０を撮像させると共に、レーザ変位計５を制御して（制御信号Ｓ４を出力して）、検査対象基板やオフセット量取得用基板２０に向けてレーザービームを照射させる。また、制御部９は、上下動機構６ａ，６ｂを制御して（制御信号Ｓ５を出力して）、検査対象基板に検査用プローブ７ａ，７ｂをプロービングさせると共に、測定部８を制御して（制御信号Ｓ５を出力して）、検査対象基板についての測定処理を実行させる。さらに、制御部９は、測定部８から出力された測定結果情報Ｄ３と検査用基準情報とに基づき、検査対象基板の良否を検査する。
【００３３】
また、制御部９は、図２に示すオフセット量取得用基板２０を使用して、Ｘ−Ｙ移動機構３ｂによってレーザ変位計５を移動させる際のＸ方向に沿った移動量およびＹ方向に沿った移動量をそれぞれ補正するためのオフセット量を取得するオフセット量取得処理を実行する。この場合、図２に示すように、オフセット量取得用基板２０は、レーザービームの透過率が高い材料で平板状に形成された板材の表面に、板材の形成材料よりもレーザービームの透過率が低い材料（一例として、金などの金属材料）によって２つのビーム照射位置検出用マーク２１（以下、単に「マーク２１」ともいう）が形成されている（「レーザービームの反射光量が周囲とは相違するビーム照射位置検出用マーク」の一例）。
【００３４】
このマーク２１は、オフセット量取得用基板２０を基板保持機構２によって保持した状態においてＹ方向（一例として、同図における上下方向）と平行になる互いに平行な直線状の一対の第１の辺（この例では、左辺および右辺）と、Ｘ方向（一例として、同図における左右方向）と平行になる互いに平行な直線状の一対の第２の辺（この例では、上辺および下辺）とを有する矩形状（「平行四辺形状」の一例）に形成されている。また、マーク２１は、その一辺の長さがレーザービームのビームスポット径の２倍程度の大きさに形成されると共に、オフセット量取得用基板２０上における形成位置が既知となっている。なお、この基板検査装置１では、上記のマーク２１を「ビーム照射位置検出用マーク」および「位置ずれ量特定用マーク」として兼用する構成が採用されている。
【００３５】
記憶部１０は、制御部９の動作プログラムや、検査対象基板の検査処理時に使用する情報、およびオフセット量取得用基板２０を使用したオフセット量取得処理時に使用する情報を記憶する。具体的には、記憶部１０は、検査処理時に使用する情報として、検査対象基板の検査処理時にカメラ４によって撮像すべき位置を特定可能な撮像位置情報、レーザ変位計５によってレーザービームを照射すべき照射位置を特定可能な照射位置情報、および検査用プローブ７ａ，７ｂをプロービングさせるべきプロービング位置を特定可能なプロービング位置情報や、良品の基板から取得した検査用基準情報等で構成された基板検査情報を記憶する。
【００３６】
また、記憶部１０は、オフセット量取得処理時に使用する情報として、オフセット量取得用基板２０が基板保持機構２によって保持された状態においてマーク２１の中心（「ビーム照射位置検出用マークに対応して予め規定された基準点」の一例）が位置すべき位置（第１の位置：一例として、図４に示す中心位置Ｏｂ）を特定可能な位置情報（第１の位置情報）、マーク２１の中心に対する上記の両第１の辺の位置およびマーク２１の中心に対する上記の両第２の辺の位置をそれぞれ特定可能な位置情報（第２の位置情報）、およびオフセット量取得用基板２０が基板保持機構２によって正常に保持されている状態（位置ずれなどが生じることのないように基板保持機構２によって保持された状態）においてマーク２１が位置すべき位置（第３の位置：一例として、図３に示す中心位置Ｏａ）を特定可能な位置情報（第３の位置情報）をそれぞれ記録した基準位置情報Ｄ０を記憶する。
【００３７】
この基板検査装置１では、基板検査装置１の組立て作業が完了したとき、または、基板検査装置１の設置作業が完了したときや、検査対象基板についての検査処理を開始する前の準備作業時などに、上記のオフセット量取得処理を実行することができるように構成されている。このオフセット量取得処理に際しては、まず、基板保持機構２の基板保持位置にオフセット量取得用基板２０を載置した状態において、図示しない操作部を操作して、オフセット量取得処理の開始を指示する。この際には、制御部９が制御信号Ｓ１を出力することによって基板保持機構２にオフセット量取得用基板２０を保持させる。次いで、制御部９は、Ｘ−Ｙ移動機構３ａに制御信号Ｓ２を出力することにより、基準位置情報Ｄ０における上記の「第３の位置情報」に基づいて特定される２つのマーク２１のうちの一方（一例として、図２に示す両マーク２１のうちの左下のマーク２１）の形成位置上にカメラ４を移動させる。次いで、制御部９は、カメラ４に制御信号Ｓ３を出力することにより、その位置においてオフセット量取得用基板２０を撮像させる。これに応じて、カメラ４が撮像情報Ｄ１を出力する。
【００３８】
この際に、基板保持機構２によるオフセット量取得用基板２０の保持位置に位置ずれが生じている場合（基板保持機構２によってオフセット量取得用基板２０が正しい保持位置に保持されていない場合）には、図３に示すように、オフセット量取得用基板２０を正常に保持した状態においてマーク２１が位置すべき位置（第３の位置：カメラ４の直下に位置している位置：この例では、中心位置Ｏａ）とは相違する位置にマーク２１の中心位置Ｍａが位置した状態となる。したがって、制御部９は、まず、カメラ４から出力された撮像情報Ｄ１を画像解析処理することにより、基板保持機構２によって保持されているオフセット量取得用基板２０のマーク２１における中心位置Ｍａ（現実の中心位置）を特定する。次いで、制御部９は、特定した中心位置Ｍａ（「画像解析処理の結果」の一例）と、上記の「第３の位置情報」に基づいて特定される中心位置Ｏａ（この例では、カメラ４によって撮像された撮像範囲の中心）とのＸ方向に沿った位置ずれ量Ｘａ、およびＹ方向に沿った位置ずれ量Ｙａをそれぞれ特定する。
【００３９】
次いで、制御部９は、２つのマーク２１のうちの他方（この例では、図２に示す両マーク２１のうちの右上のマーク２１）についても、上記の処理と同様の処理を実行して中心位置Ｍａと中心位置ＯａとのＸ方向に沿った位置ずれ量Ｘａ、およびＹ方向に沿った位置ずれ量Ｙａをそれぞれ特定する。続いて、制御部９は、両マーク２１について特定した位置ずれ量Ｘａおよび位置ずれ量Ｙａに基づき、基板保持機構２によるオフセット量取得用基板２０の保持位置のＸ方向に沿ったずれ量（「第３の位置ずれ量」の一例）、およびＹ方向に沿ったずれ量（「第４の位置ずれ量」の一例）をそれぞれ特定し、特定した結果をオフセット量情報ＤＯａとして記憶部１０に記憶させる。なお、上記の例とは相違するが、オフセット量取得用基板２０が基板保持機構２によって正常な保持位置に保持されている場合（基板保持機構２によるオフセット量取得用基板２０の保持位置に位置ずれが生じていない場合）には、両マーク２１の上記の中心位置Ｍａが中心位置Ｏａと一致した状態となる。したがって、このような状態のときには、制御部９は、一例として、「補正量＝０」のオフセット量情報ＤＯａを生成して記憶部１０に記憶させる。
【００４０】
次いで、制御部９は、Ｘ−Ｙ移動機構３ｂに制御信号Ｓ２を出力することにより、基準位置情報Ｄ０に基づいて特定されるマーク２１の中心位置（「第１の位置情報および第２の位置情報の予め規定された一方に基づいて特定される第１のビーム照射開始位置」の一例）上にレーザ変位計５が位置するように移動させる。この際に、制御部９は、上記のオフセット量情報ＤＯａに基づいてＸ−Ｙ移動機構３ｂによるレーザ変位計５の移動量を補正する（「第３の位置ずれ量および第４の位置ずれ量に応じて移動量を補正する」との処理の一例）。これにより、基板保持機構２によるオフセット量取得用基板２０の保持位置に位置ずれが生じていた場合であっても、その影響が排除される。なお、この際には、一例として、図４に示す中心位置Ｏｂ上にレーザ変位計５が移動させられる。
【００４１】
続いて、制御部９は、Ｘ−Ｙ移動機構３ｂに制御信号Ｓ２を出力することにより、レーザ変位計５を矢印Ａ１の向き（Ｘ軸のプラス（右）方向）に移動させつつ、レーザ変位計５に制御信号Ｓ４を出力することによってオフセット量取得用基板２０に向けてレーザービームを照射させる（「第１の移動体を移動機構によってＸ方向に移動させながらビーム照射部を制御してレーザービームを照射させる」との処理の一例）。この際には、レーザ変位計５が、照射したレザービームの反射光量を測定して反射光量情報Ｄ２を出力し、制御部９が、レーザ変位計５から出力された反射光量情報Ｄ２を記憶部１０に記憶させる。次いで、制御部９は、Ｘ−Ｙ移動機構３ｂに制御信号Ｓ２を出力することにより、基準位置情報Ｄ０に基づいて特定されるマーク２１の中心位置Ｏｂ（「第１のビーム照射開始位置」の一例）上にレーザ変位計５が位置するように移動させた後にレーザ変位計５を矢印Ａ２の向き（Ｘ軸のマイナス（左）方向）に移動させつつ、レーザ変位計５に制御信号Ｓ４を出力することによってオフセット量取得用基板２０に向けてレーザービームを照射させ（「第１の移動体を移動機構によってＸ方向に移動させながらビーム照射部を制御してレーザービームを照射させる」との処理の他の一例）、レーザ変位計５から出力された反射光量情報Ｄ２を記憶部１０に記憶させる。
【００４２】
同様にして、制御部９は、Ｘ−Ｙ移動機構３ｂに制御信号Ｓ２を出力することにより、マーク２１の中心位置Ｏｂ（「第２のビーム照射開始位置」の一例）上にレーザ変位計５が位置するように移動させた後にレーザ変位計５を矢印Ｂ１の向き（Ｙ軸のプラス（上）方向）に移動させつつ、レーザ変位計５に制御信号Ｓ４を出力することによってオフセット量取得用基板２０に向けてレーザービームを照射させ（「第１の移動体を移動機構によってＹ方向に移動させながらビーム照射部を制御してレーザービームを照射させる」との処理の一例）、レーザ変位計５から出力された反射光量情報Ｄ２を記憶部１０に記憶させる。続いて、制御部９は、Ｘ−Ｙ移動機構３ｂに制御信号Ｓ２を出力することにより、マーク２１の中心位置Ｏｂ（「第２のビーム照射開始位置」の一例）上にレーザ変位計５が位置するように移動させた後にレーザ変位計５を矢印Ｂ２の向き（Ｙ軸のマイナス（下）方向）に移動させつつ、レーザ変位計５に制御信号Ｓ４を出力することによってオフセット量取得用基板２０に向けてレーザービームを照射させ（「第１の移動体を移動機構によってＹ方向に移動させながらビーム照射部を制御してレーザービームを照射させる」との処理の他の一例）、レーザ変位計５から出力された反射光量情報Ｄ２を記憶部１０に記憶させる。
【００４３】
次いで、制御部９は、記憶部１０に記憶させた各反射光量情報Ｄ２に基づき、基板保持機構２によって保持されているオフセット量取得用基板２０のマーク２１における両第１の辺の位置、および両第２の辺の位置をそれぞれ特定する。この場合、マーク２１上にレーザービームが照射されているときには、マーク２１の周囲にレーザービームが照射されているときよりもその反射光量が多くなる。したがって、Ｘ−Ｙ移動機構３ｂによってレーザ変位計５を矢印Ａ１，Ａ２の向きに移動させながら測定された反射光量情報Ｄ２の変化に基づき、Ｙ方向に沿った両第１の辺の端部位置Ｍｘ１，Ｍｘ２を特定することができる。同様にして、Ｘ−Ｙ移動機構３ｂによってレーザ変位計５を矢印Ｂ１，Ｂ２の向きに移動させながら測定された反射光量情報Ｄ２の変化に基づき、Ｘ方向に沿った両第２の辺の端部位置Ｍｙ１，Ｍｙ２を特定することができる。
【００４４】
続いて、制御部９は、特定した端部位置Ｍｘ１，Ｍｘ２および端部位置Ｍｙ１，Ｍｙ２と、基準位置情報Ｄ０における上記の「第２の位置情報（マーク２１の中心に対する上記の両第１の辺の位置およびマーク２１の中心に対する上記の両第２の辺の位置をそれぞれ特定可能な位置情報）」とに基づいて、基板保持機構２によって保持されているオフセット量取得用基板２０における現実の中心位置Ｍｂ（第２の位置）を特定する。この場合、Ｘ−Ｙ移動機構３ｂを構成する部品精度のばらつき、Ｘ−Ｙ移動機構３ｂの組立て時に生じる部品組付け位置のばらつき、およびＸ−Ｙ移動機構３ｂに対するレーザ変位計５の取付け位置のばらつきなどに起因して、Ｘ−Ｙ移動機構３ｂによるレーザ変位計５の移動量を補正する必要が生じている状態では、図４に示すように、基準位置情報Ｄ０に基づいてマーク２１の中心位置に移動させたレーザ変位計５が、現実の中心位置Ｍｂ上から位置ずれした中心位置Ｏｂ上に移動させられる。
【００４５】
したがって、中心位置Ｏｂと中心位置ＭａとのＸ方向に沿った位置ずれ量Ｘｂ（第１の位置ずれ量）、および中心位置Ｏｂと中心位置ＭａとのＹ方向に沿った位置ずれ量Ｙｂ（第２の位置ずれ量）を演算することにより、検査処理に際してＸ−Ｙ移動機構３ｂによってレーザ変位計５を移動させる際のＸ方向に沿った移動量を補正するオフセット量、および検査処理に際してＸ−Ｙ移動機構３ｂによってレーザ変位計５を移動させる際のＹ方向に沿った移動量を補正するオフセット量を取得することができる。具体的には、制御部９は、上記の位置ずれ量ＸｂをＸ方向に沿った移動量を補正するオフセット量とし、上記の位置ずれ量ＹｂをＹ方向に沿った移動量を補正するオフセット量として演算して、その演算結果をオフセット量情報ＤＯｂとして記憶部１０に記憶させる。
【００４６】
なお、この基板検査装置１では、実際には、制御部９が、２つのマーク２１についての上記の位置ずれ量Ｘｂ，Ｙｂをそれぞれ演算し、演算結果を平均化して上記のオフセット量情報ＤＯｂを生成するが、発明についての理解を容易とするために２つ目のマーク２１についての処理や、平均化の処理に関する説明を省略する。また、上記の例とは相違するが、Ｘ−Ｙ移動機構３ｂによってレーザ変位計５を正確に移動させることができる状態（Ｘ−Ｙ移動機構３ｂによるレーザ変位計５の移動量を補正する必要がない状態）のときには、前述したオフセット量情報ＤＯａに応じたレーザ変位計５の移動量の補正によって、上記の中心位置Ｍｂが中心位置Ｏｂと一致する。したがって、この際には、制御部９は、一例として、「補正量＝０」のオフセット量情報ＤＯｂを生成して記憶部１０に記憶させる。以上により、オフセット量取得用基板２０を使用したオフセット量取得処理が完了する。
【００４７】
一方、検査対象基板の検査処理に際しては、制御部９がオフセット量情報ＤＯｂに応じてＸ−Ｙ移動機構３ｂによるレーザ変位計５の移動量を補正する。これにより、検査対象基板の表面の高さを測定すべき規定位置にレーザービームが照射される結果、レーザ変位計５によって検査対象基板の表面の高さを正確に計測することができる。したがって、計測結果に応じて検査用プローブ７ａ，７ｂによるプロービング高さを正確に微調整することができるため、検査対象基板の傷付きや検査用プローブ７ａ，７ｂの破損が好適に回避することができる。
【００４８】
このように、この基板検査装置１では、制御部９が、オフセット量取得処理において、基準位置情報Ｄ０に基づいて特定される中心位置Ｏｂ上にレーザ変位計５が位置するようにレーザ変位計５をＸ−Ｙ移動機構３ｂによって移動させた後にレーザ変位計５をＸ−Ｙ移動機構３ｂによってＸ方向に移動させながらレーザ変位計５からレーザービームを照射させたときのレーザービームの反射光量の変化に基づいてビーム照射位置検出用マーク２１の第１の辺の端部位置Ｍｘ１，Ｍｘ２を取得し、かつ、基準位置情報Ｄ０に基づいて特定される中心位置Ｏｂ上にレーザ変位計５が位置するようにレーザ変位計５をＸ−Ｙ移動機構３ｂによって移動させた後にレーザ変位計５をＸ−Ｙ移動機構３ｂによってＹ方向に移動させながらレーザ変位計５からレーザービームを照射させたときのレーザービームの反射光量の変化に基づいてマーク２１の第２の辺の端部位置Ｍｙ１，Ｍｙ２を取得すると共に、取得した端部位置Ｍｘ１，Ｍｘ２，Ｍｙ１，Ｍｙ２と基準位置情報Ｄ０とに基づいて、基板保持機構２によって保持されている状態のオフセット量取得用基板２０における中心位置Ｍｂを特定し、特定した中心位置Ｍｂと中心位置ＯｂとのＸ方向に沿った位置ずれ量Ｘｂを、基板保持機構２によるレーザ変位計５のＸ方向に沿った移動量を補正するためのオフセット量とし、かつ、中心位置Ｍｂと中心位置ＯｂとのＹ方向に沿った位置ずれ量Ｙｂを、基板保持機構２によるレーザ変位計５のＹ方向に沿った移動量を補正するためのオフセット量として特定する。
【００４９】
したがって、この基板検査装置１によれば、オフセット量取得処理時にマーク２１ｚとレーザ照射領域Ａｚとが同心状に一致したかを目視によって判断する必要がある従来の検査装置とは異なり、保護カバー越しにマーク２１と、オフセット量取得用基板２０に対して照射したレーザービームの照射領域とが同心状に一致したかを確認する必要がないだけではなく、レーザ変位計５からのレーザービームの反射光量の変化に基づいて特定される中心位置Ｍｂと、基準位置情報Ｄ０に基づいて特定される中心位置Ｏｂとの位置ずれ量Ｘｂ，Ｙｂに基づいてオフセット量情報ＤＯｂが自動的に取得されるため、オペレータの判断基準の差異に起因して、取得されるオフセット量に差異が生じる事態を回避して、正確かつ容易にオフセット量を取得することができる。したがって、この基板検査装置１によれば、検査対象基板の検査処理時に、オフセット量取得処理によって取得したオフセット量情報ＤＯｂに基づいて、レーザ変位計５を正確に移動させることができるため、検査対象基板を正確に検査することができる。
【００５０】
また、この基板検査装置１によれば、制御部９が、オフセット量取得処理において、互いに平行な一対の第１の辺および互いに平行な一対の第２の辺を有する平行四辺形状（この例では、矩形状）のビーム照射位置検出用マーク２１が形成されたオフセット量取得用基板２０を使用して、上記の一対の第１の辺の端部位置Ｍｘ１，Ｍｘ２および一対の第２の辺の端部位置Ｍｙ１，Ｍｙ２をそれぞれ取得し、取得した各辺の端部位置Ｍｘ１，Ｍｘ２，Ｍｙ１，Ｍｙ２と基準位置情報Ｄ０とに基づいて中心位置Ｍｂを特定することにより、「第１の辺」や「第２の辺」がそれぞれ１つだけのビーム照射位置検出用マークが形成されたオフセット量取得用基板（図示せず）を使用してオフセット量を取得する構成と比較して、中心位置Ｍｂを正確に特定することができるため、一層正確なオフセット量情報ＤＯｂを取得することができる。
【００５１】
さらに、この基板検査装置１では、制御部９が、オフセット量取得処理において、基準位置情報Ｄ０に基づいて特定されるマーク２１の形成位置上（この例では、中心位置Ｏａ上）にカメラ４が位置するようにＸ−Ｙ移動機構３ａによってカメラ４を移動させた後にカメラ４を制御してマーク２１を撮像させると共に、カメラ４から出力された撮像情報Ｄ１を画像解析処理して、画像解析処理の結果と基準位置情報Ｄ０とに基づいて位置ずれ量Ｘａ，Ｙａを特定し、特定した位置ずれ量Ｘａ，Ｙａに応じて、上記の中心位置Ｏｂ上にレーザ変位計５が位置するようにレーザ変位計５を移動させる際の移動量を補正することにより、基板保持機構２によるオフセット量取得用基板２０の保持位置に位置ずれが生じていたとしても、この位置ずれの影響を排除して、正確なオフセット量情報ＤＯｂを取得することができる。
【００５２】
また、この基板検査装置１によれば、制御部９が、オフセット量取得処理において、「ビーム照射位置検出用マーク」を「位置ずれ量特定用マーク」として（マーク２１を兼用して）使用して位置ずれ量Ｘａ，Ｙａを特定することにより、「ビーム照射位置検出用マーク」および「位置ずれ量特定用マーク」を別個に形成したオフセット量取得用基板（図示せず）を使用してオフセット量を取得する構成と比較して、オフセット量取得用基板２０の製造コストを低減することができるだけでなく、「第１の位置」や「第３の位置」を特定するための基準位置情報Ｄ０の生成が容易となるため、オフセット量取得処理を実行可能な環境を用意するための負担を十分に軽減することができる。
【００５３】
さらに、この基板検査装置１によれば、制御部９が、オフセット量取得処理において、「第１の位置情報に基づいて特定される基準点」に相当する中心位置Ｏｂを「第１のビーム照射開始位置」および「第２のビーム照射開始位置」として第１の辺の端部位置Ｍｘ１，Ｍｘ２および第２の辺の端部位置Ｍｙ１，Ｍｙ２を取得することにより、「基準点」、「第１のビーム照射開始位置」および「第２のビーム照射開始位置」をそれぞれ別個に規定した場合と比較して、オフセット量取得処理を実行可能な環境を用意するための負担を一層軽減することができる。
【００５４】
なお、基板検査装置の構成は、上記の構成に限定されない。例えば、オフセット量取得処理に際して、カメラ４から出力された撮像情報Ｄ１の画像解析処理の結果と基準位置情報Ｄ０とに基づいて位置ずれ量Ｘａ，Ｙａ（図３参照）を特定し、特定した位置ずれ量Ｘａ，Ｙａに応じて（位置ずれ量Ｘａ，Ｙａに基づいて生成したオフセット量情報ＤＯａに応じて）、上記の中心位置Ｏｂ上にレーザ変位計５が位置するようにレーザ変位計５を移動させる際の移動量を補正する構成の基板検査装置１を例に挙げて説明したが、基板検査装置の構成はこれに限定されない。具体的には、マーク２１の第１の辺の位置（上記の例示における端部位置Ｍｘ１，Ｍｘ２）や第２の辺の位置（上記の例示における端部位置Ｍｙ１，Ｍｙ２）を特定する際のレーザ変位計５の移動時において上記のオフセット量情報ＤＯａに応じた移動量の補正を行わずに端部位置Ｍｘ１，Ｍｘ２，Ｍｙ１，Ｍｙ２を特定して中心位置Ｍｂを特定し、特定した中心位置Ｍｂと中心位置ＯｂとのＸ方向に沿った位置ずれ量ＸｂおよびＹ方向に沿った位置ずれ量Ｙｂに対して、オフセット量情報ＤＯａによって特定される位置ずれ量Ｘａおよび位置ずれ量Ｙａをそれぞれ加算してオフセット量を特定する構成を採用することができる。
【００５５】
このような構成を採用することにより、上記の基板検査装置１と同様にして、基板保持機構２によるオフセット量取得用基板２０の保持位置に位置ずれが生じていたとしても、この位置ずれの影響を排除して、正確なオフセット量情報ＤＯｂを取得することができる。
【００５６】
また、オフセット量取得処理に際して、カメラ４によってマーク２１を撮像し、その撮像情報Ｄ１を画像解析処理することによって基板保持機構２によるオフセット量取得用基板２０の保持位置のずれ量を取得する例について説明したが、オフセット量取得用基板２０が基板保持機構２によって正しい位置に保持されるようにオフセット量取得用基板２０をセットする（上記の例時における中心位置Ｍａ，Ｏａが一致する状態にセットする）ことを条件として、カメラ４によるマーク２１を撮像する処理、および、その撮像情報Ｄ１を画像解析処理してオフセット量取得用基板２０の保持位置のずれ量を取得する処理を不要とすることができる。
【００５７】
また、レーザービームの透過率が高い材料で平板状に形成された板材の表面に、板材の形成材料よりもレーザービームの透過率が低い材料によってマーク２１が形成されたオフセット量取得用基板２０を使用してオフセット量を取得する例について説明したが、オフセット量取得処理時に使用するオフセット量取得用基板は、これに限定されず、図５に示すように、レーザービームの反射光量が周囲よりも低い（レーザービームの透過光量が周囲よりも高い）ビーム照射位置検出用マーク２１ａ（「ビーム照射位置検出用マーク」および「位置ずれ量特定用マーク」の他の一例：以下、単に「マーク２１ａ」ともいう）が形成されたオフセット量取得用基板２０Ａを使用してオフセット量を取得する構成を採用することもできる。このオフセット量取得用基板２０Ａは、レーザービームの透過率が低い材料（一例として、金などの金属材料）がマーク２１ａとすべき矩形状の領域の周囲にめっきされることによって矩形状のマーク２１ａが形成されている。したがって、マーク２１が形成されているオフセット量取得用基板２０を使用した上記のオフセット量取得処理と同様にして、カメラ４から出力された撮像情報Ｄ１を画像解析処理することで、例えば、その中心位置を特定することができ、レーザ変位計５からのレーザービームの反射光量の変化に基づいて、各辺の位置を特定することができる。
【００５８】
さらに、２つのマーク２１が形成されたオフセット量取得用基板２０を使用してオフセット量を取得する例について説明したが、１つのマーク２１（または、１つのマーク２１ａ）が形成されたオフセット量取得用基板（図示せず）を使用してオフセット量を取得する構成を採用することができる。具体的には、カメラ４から出力された撮像情報Ｄ１に基づいて（撮像情報Ｄ１を画像解析して）、基板保持機構２によるオフセット量取得用基板の保持位置のずれ量を取得する際には、１つのマーク２１（またはマーク２１ａ）についての上記の位置ずれ量Ｘａ，Ｙａと、そのマーク２１（またはマーク２１ａ）の傾き（図３に示す回転角θ）とを特定することで、オフセット量取得用基板の保持位置のＸ方向に沿ったずれ量およびＹ方向に沿ったずれ量をそれぞれ特定することができる。
【００５９】
また、矩形状のマーク２１（またはマーク２１ａ）が形成されたオフセット量取得用基板２０（またはオフセット量取得用基板２０Ａ）を使用してオフセット量を取得する例について説明したが、「ビーム照射位置検出用マーク」の形状は矩形状に限定されない。具体的には、マーク２１（またはマーク２１ａ）における左辺および右辺のいずれか一方に相当する一辺（第１の辺）と、マーク２１（またはマーク２１ａ）における上辺および下辺のいずれか一方に相当する一辺（第２の辺）とを有している限り、任意の形状のビーム照射位置検出用マークを形成したオフセット量取得用基板を使用してオフセット量を取得することができる。
【００６０】
この場合、「基準点に対する第１の辺の位置および基準点に対する第２の辺の位置をそれぞれ特定可能な第２の位置情報」が制御部９に記憶されているため、上記の例における端部位置Ｍｘ１，Ｍｘ２のいずれか一方と、端部位置Ｍｙ１，Ｍｙ２のいずれか一方とを特定し、特定した２つの端部位置と、「第２の位置情報」とに基づいて、「基準点」についての「第２の位置」を特定することができる。また、基板保持機構２によるオフセット量取得用基板２０の保持位置のずれ量を取得する場合においても、カメラ４による撮像の結果（撮像情報Ｄ１）を画像解析することによって基板保持機構２によるオフセット量取得用基板の保持位置のずれ量を特定することができるため、上記の例における端部位置Ｍｘ１，Ｍｘ２のいずれか一方と、端部位置Ｍｙ１，Ｍｙ２のいずれか一方とを特定し、特定した２つの端部位置と、「第２の位置情報」と、画像解析処理の結果に基づいて特定した「オフセット量取得用基板の保持位置のずれ量」とに基づいて、「基準点」についての「第２の位置」を特定することができる。したがって、例えば矩形状のマーク２１（またはマーク２１ａ）が形成されたオフセット量取得用基板２０（またはオフセット量取得用基板２０Ａ）を使用する場合においても、上記の例における端部位置Ｍｘ１，Ｍｘ２のいずれか一方と、端部位置Ｍｙ１，Ｍｙ２のいずれか一方とを特定するだけで、上記の中心位置Ｏｂを特定することができる。
【００６１】
さらに、「ビーム照射位置検出用マーク」と「位置ずれ量特定用マーク」とを兼用する例について説明したが、これらを別個独立して形成したオフセット量取得用基板（図示せず）を使用してオフセット量を取得する構成を採用することができる。この場合、「位置ずれ量特定用マーク」については、２つ以上形成する場合には、円形や楕円形などの任意の形状（直線状の辺を有さない形状）とすることができるが、「位置ずれ量特定用マーク」１つだけ形成する場合には、１つの「位置ずれ量特定用マーク」を撮像した撮像情報Ｄ１を画像解析処理して、そのオフセット量取得用基板の傾きの状態（図３に示す回転角θに対応する角度）を特定可能とするために、少なくとも一つの直線状の辺を有する形状とするのが好ましい。
【００６２】
また、基板保持機構２によるオフセット量取得用基板２０の保持位置のずれ量を特定可能なオフセット量情報ＤＯａ（図３に示す位置ずれ量Ｘａ，Ｙａを特定可能な情報）を自動的に取得する構成の基板検査装置１を例に挙げて説明したが、オフセット量情報ＤＯａに対応する情報の取得に関しては、手動で実行する構成を採用することもできる。具体的には、図３に示すように、基準位置情報Ｄ０に基づいて特定される中心位置Ｏａにカメラ４を移動させた状態においてマーク２１の中心位置Ｍａがカメラ４による撮像領域の中心から位置ずれしていたときに、マーク２１の中心位置Ｍａがカメラ４による撮像領域の中心に位置するように、カメラ４の位置をオペレータの指示操作によって移動させ、その際の移動量（すなわち、上記の位置ずれ量Ｘａ，Ｙａに対応する移動量）に基づいてオフセット量情報ＤＯａを生成する構成を採用することもできる。
【００６３】
さらに、「基板保持機構およびカメラの少なくとも一方としての第２の移動体」の一例であるカメラ４をＸ−Ｙ移動機構３ａによって移動させると共に、「基板保持機構およびビーム照射部の少なくとも一方としての第１の移動体」の一例であるレーザ変位計５をＸ−Ｙ移動機構３ｂによって移動させる構成を例に挙げて説明したが、「移動機構」の構成は、これに限定されず、カメラ４を固定的に配置した状態において基板保持機構２（「第２の移動体」の他の一例）を任意のＸ−Ｙ方向に移動させる構成（図示せず）や、レーザ変位計５を固定的に配置した状態において基板保持機構２（「第１の移動体」の他の一例）を任意のＸ−Ｙ方向に移動させる構成（図示せず）を採用することができる。また、カメラ４および基板保持機構２の双方（「第２の移動体」のさらに他の一例）をＸ−Ｙ方向に移動させる構成（図示せず）や、レーザ変位計５および基板保持機構２の双方（「第１の移動体」のさらに他の一例）をＸ−Ｙ方向に移動させる構成（図示せず）を採用することもできる。
【００６４】
加えて、上下動機構６ａ，６ｂによって検査用プローブ７ａ，７ｂを上下動させて検査対象基板を電気的に検査する構成の基板検査装置１を例に挙げて説明したが、「基板検査装置」の構成は、これに限定されず、上下動機構６ａ，６ｂや検査用プローブ７ａ，７ｂ等を備えることなく、カメラ４によって検査対象基板を撮像してその撮像情報Ｄ１を画像解析処理することで検査対象基板の良否を検査する構成の基板検査装置や、従来の反り検査装置のように、レーザ変位計によって検査対象基板の各部の高さ等を測定して検査対象基板の良否を検査する構成の基板検査装置においても、上記のオフセット量測定処理を好適に実施することができる。
【符号の説明】
【００６５】
１ 基板検査装置
２ 基板保持機構
３ａ，３ｂ Ｘ−Ｙ移動機構
４ カメラ
５ レーザ変位計
９ 制御部
１０ 記憶部
２０，２０Ａ オフセット量取得用基板
２１，２１ａ ビーム照射位置検出用マーク
Ｄ０ 基準位置情報
Ｄ１ 撮像情報
Ｄ２ 反射光量情報
Ｄ３ 測定結果情報
ＤＯａ，ＤＯｂ オフセット量情報
Ｍａ，Ｍｂ，Ｏａ，Ｏｂ 中心位置
Ｍｘ１，Ｍｘ２，Ｍｙ１，Ｍｙ２ 端部位置
Ｓ１〜Ｓ６ 制御信号Ｓ１〜Ｓ６
Ｘａ，Ｘｂ，Ｙａ，Ｙｂ 位置ずれ量
【技術分野】
【０００１】
本発明は、検査対象基板に向けてレーザービームを照射するビーム照射部と、検査対象基板を保持する基板保持機構およびビーム照射部の少なくとも一方を移動させる移動機構とを備えて構成された基板検査装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
この種の基板検査装置として、セラミック基板の反り量を光学的に検査可能に構成された反り検査装置（以下、単に「検査装置」ともいう）が特開２００６−３１７４０８号公報に開示されている。この検査装置では、セラミック基板における検査対象箇所の基準面からの高さを光学的に計測することによって、セラミック基板に生じている反りの状態を検査する構成が採用されている。具体的には、この検査装置では、まず、駆動手段のリニアステージ上に設置されているベース板の上に検査対象のセラミック基板をセットする。次いで、セラミック基板上に規定されている複数の検査対象箇所の基準面からの高さをそれぞれ計測する。この後、各検査対象箇所についての計測値の分布に基づいて、セラミック基板に生じている反りの状態が検査される。
【０００３】
この場合、この検査装置では、駆動手段が制御手段の制御に従ってリニアステージ（ベース板上のセラミック基板）を水平方向に移動させることで、固定的に設置されているレーザ変位計の直下に各検査対象箇所を順に位置させる構成が採用されている。また、上記の公開公報には、駆動手段によってセラミック基板を移動させる構成に代えて、セラミック基板に対してレーザ変位計を移動させる構成を採用することができるとの開示が存在する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−３１７４０８号公報（第５−１０頁、第１−４図）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところが、従来の検査装置には、以下の問題点が存在する。すなわち、従来の検査装置では、駆動手段がセラミック基板を水平方向に移動させることでレーザ変位計の直下に各検査対象箇所を順に位置させる構成、または、セラミック基板に対してレーザ変位計を移動させることでレーザ変位計の直下に各検査対象箇所を順に位置させる構成が採用されている。この場合、従来の検査装置では、予め規定された検査対象箇所ではない箇所の高さが計測されたとき（レーザ変位計によるレーザービームの照射位置が位置ずれしたとき）に、セラミック基板に生じている反りの状態を正しく検査するのが困難となる。同様にして、検査処理時にビーム照射部から検査対象基板に向けてレーザービームを照射する構成の他の各種基板検査装置においても、レーザービームの照射位置が、予め規定された位置から位置ずれしたときに、検査対象基板を正しく検査することが困難となる。
【０００６】
一方、従来の検査装置のように、検査処理に際して検査対象基板およびビーム照射部（レーザ変位計）の少なくとも一方を移動させる構成の基板検査装置では、移動機構を構成する部品精度のばらつきや、移動機構の組立て時に生じる部品組付け位置のばらつきなどが生じた状態となっている。したがって、この種の基板検査装置では、装置の組立て作業の完了時、または装置の設置作業の完了時や、検査対象基板に対する検査処理の準備作業時などに、上記のばらつきの状態に応じて移動量を補正するためのオフセット量を取得しておき、取得したオフセット量に応じて、上記の少なくとも一方の移動量を補正する構成が一般的に採用されている。
【０００７】
この場合、このオフセット量の取得に際しては、一例として、図６に示すオフセット量取得用基板２０ｚが使用される。このオフセット量取得用基板２０ｚは、レーザービームの透過率が高い材料で平板状に形成された板材の表面に、板材の形成材料よりもレーザービームの透過率が低い材料（一例として、金などの金属材料）によって円形のビーム照射位置検出用マーク２１ｚ（以下、単に「マーク２１ｚ」ともいう）が形成されている。このマーク２１ｚは、図７，８に示すように、その直径がレーザービームのビームスポット径（両図におけるレーザ照射領域Ａｚの直径）よりも大径となるように形成されている。また、このオフセット量取得用基板２０ｚでは、マーク２１ｚの形成位置が既知となっている。
【０００８】
上記のオフセット量取得用基板２０ｚを使用して、一例として、検査対象基板に対してビーム照射部を移動させる構成の基板検査装置においてオフセット量を取得する際には、まず、検査対象基板を保持する基板保持機構にオフセット量取得用基板２０ｚをセットする。次いで、マーク２１ｚの既知の形成位置上（一例として、マーク２１ｚの中心位置上）に移動機構によってビーム照射部を移動させると共に、ビーム照射部からオフセット量取得用基板２０ｚに向けてレーザービームを照射させる。この際に、上記の部品精度のばらつきや、部品組付け位置のばらつきなどの影響が存在せずに、移動機構がビーム照射部を正確に移動させることが可能な状態（移動量を補正する必要がない状態）となっているときには、図７に示すように、マーク２１ｚの既知の中心位置上に移動させた状態のビーム照射部から照射したレーザービームのレーザ照射領域Ａｚがマーク２１ｚに対して同心状に重なった状態となる。したがって、マーク２１ｚに対するレーザ照射領域Ａｚの位置を目視で確認して同図に示す状態となっているときには、検査処理時における移動量の補正が不要であると判断することができる。
【０００９】
これに対して、上記の部品精度のばらつきや、部品組付け位置のばらつきなどの影響を受けて、移動機構によるビーム照射部の移動位置に位置ずれが生じている状態（移動量の補正が必要な状態）となっているときには、図８に実線で示すように、マーク２１ｚの既知の中心位置上に移動させた状態のビーム照射部から照射したレーザービームのレーザ照射領域Ａｚがマーク２１ｚに対して位置ずれした状態となる。したがって、マーク２１ｚに対するレーザ照射領域Ａｚの位置を目視で確認して同図に示す状態となっているときには、マーク２１ｚに対するレーザ照射領域Ａｚの位置が破線で示す状態となるように移動機構によってビーム照射部を移動させる。この際に、レーザ照射領域Ａｚが実線で示す状態となる位置から破線で示す状態となるまでのビーム照射部の移動量が、検査処理時における移動量の補正に使用するオフセット量として取得される。これにより、取得したオフセット量に応じて移動機構によるビーム照射部の移動量を補正することで、予め規定された位置にレーザービームを照射することが可能となる。
【００１０】
しかしながら、オフセット量取得用基板２０ｚを使用した上記のオフセット量の取得方法では、マーク２１ｚとレーザ照射領域Ａｚとが同心状に一致したかを目視によって確認する必要がある。このため、オフセット量取得処理を実行するオペレータ毎にマーク２１ｚとレーザ照射領域Ａｚとが一致したか否かを判断する判断基準に差異が生じることがあり、この判断基準の差異に起因して正確なオフセット量の取得が困難となっているという問題点がある。また、オフセット量取得用基板２０ｚを使用してオフセット量を取得する基板検査装置では、検査処理時における事故の発生を防止するために、移動機構やビーム照射部が保護カバーによって覆われている。したがって、オフセット量の取得に際しては、マーク２１ｚとレーザ照射領域Ａｚとが一致したか否かを保護カバー越しに確認する必要があるため、マーク２１ｚやレーザ照射領域Ａｚの視認性が低下する結果、両者が一致したか否かを正しく判断すること自体が困難となっているという問題点もある。
【００１１】
本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであり、オフセット量を正確かつ容易に取得し得る基板検査装置を提供することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的を達成すべく、請求項１記載の基板検査装置は、検査対象基板を保持する基板保持機構と、前記検査対象基板に向けてレーザービームを照射するビーム照射部と、前記基板保持機構および前記ビーム照射部の少なくとも一方を第１の移動体として任意のＸ−Ｙ方向に移動させる移動機構と、前記ビーム照射部によって前記レーザービームを照射すべき照射位置を特定可能な照射位置情報を記憶する記憶部と、前記検査対象基板の検査処理時に前記移動機構を制御して前記照射位置情報に基づいて特定される前記ビーム照射位置上に前記ビーム照射部を位置させるように前記第１の移動体を移動させると共に当該ビーム照射部を制御して前記レーザービームを照射させる制御部とを備え、当該制御部が、前記基板保持機構によって保持されたオフセット量取得用基板を対象として、前記第１の移動体を前記検査処理時に前記移動機構によって移動させる際の前記Ｘ方向に沿った移動量および前記Ｙ方向に沿った移動量をそれぞれ補正するためのオフセット量を取得するオフセット量取得処理を実行可能に構成され、前記オフセット量取得用基板には、前記基板保持機構によって保持された状態において前記Ｙ方向と平行になる直線状の第１の辺および前記Ｘ方向と平行になる直線状の第２の辺を有すると共に前記レーザービームの反射光量が周囲とは相違するビーム照射位置検出用マークが形成され、前記記憶部は、前記オフセット量取得用基板が前記基板保持機構によって保持された状態において前記ビーム照射位置検出用マークに対応して予め規定された基準点が位置すべき第１の位置を特定可能な第１の位置情報と、前記基準点に対する前記第１の辺の位置および前記第２の辺の位置をそれぞれ特定可能な第２の位置情報とを記憶し、前記制御部は、前記オフセット量取得処理において、前記第１の位置情報および前記第２の位置情報の予め規定された一方の位置情報に基づいて特定される第１のビーム照射開始位置上に前記ビーム照射部が位置するように前記第１の移動体を前記移動機構によって移動させた後に当該第１の移動体を当該移動機構によって前記Ｘ方向に移動させながら当該ビーム照射部を制御して前記レーザービームを照射させたときの当該レーザービームの反射光量の変化に基づいて前記第１の辺の位置を取得し、かつ、前記予め規定された一方の位置情報に基づいて特定される第２のビーム照射開始位置上に前記ビーム照射部が位置するように前記第１の移動体を前記移動機構によって移動させた後に当該第１の移動体を当該移動機構によって前記Ｙ方向に移動させながら当該ビーム照射部を制御して前記レーザービームを照射させたときの当該レーザービームの反射光量の変化に基づいて前記第２の辺の位置を取得すると共に、取得した前記第１の辺の位置および前記第２の辺の位置と、前記第２の位置情報とに基づいて前記基板保持機構によって保持されている状態の前記オフセット量取得用基板における前記基準点の第２の位置を特定し、特定した当該第２の位置と前記第１の位置との前記Ｘ方向に沿った第１の位置ずれ量を、前記第１の移動体の当該Ｘ方向に沿った移動量を補正するためのオフセット量とし、かつ、当該第２の位置と当該第１の位置との前記Ｙ方向に沿った第２の位置ずれ量を、当該第１の移動体の当該Ｙ方向に沿った移動量を補正するためのオフセット量として特定する。
【００１３】
なお、「レーザービームの反射光量が周囲とは相違するビーム照射位置検出用マーク」には、「レーザービームの透過光量が周囲とは相違するビーム照射位置検出用マーク」がこれに含まれる。また、「レーザービームの反射光量の変化に基づいて第１の辺（第２の辺）の位置を取得する」との処理には、「レーザービームの透過光量の変化に基づいてレーザービームの反射光量の変化を特定して、その結果に基づいて第１の辺（第２の辺）の位置を取得する」との処理、および「レーザービームの反射光量の変化に基づいてレーザービームの透過光量の変化を特定して、その結果に基づいて第１の辺（第２の辺）の位置を取得する」との処理がこれに含まれる。
【００１４】
また、請求項２記載の基板検査装置は、請求項１記載の基板検査装置において、前記オフセット量取得用基板には、前記ビーム照射位置検出用マークとして、互いに平行な一対の前記第１の辺および互いに平行な一対の前記第２の辺を有する平行四辺形状のマークが形成され、前記記憶部は、前記第２の位置情報として、前記一対の第１の辺の位置および前記一対の第２の辺の位置をそれぞれ特定可能な情報を記憶し、前記制御部は、前記オフセット量取得処理において、前記一対の第１の辺の位置および前記一対の第２の辺の位置をそれぞれ取得し、取得した当該各辺の位置と前記第２の位置情報とに基づいて前記第２の位置を特定する。
【００１５】
さらに、請求項３記載の基板検査装置は、請求項１または２記載の基板検査装置において、前記検査対象基板を撮像して撮像情報を出力するカメラを備え、前記移動機構は、前記基板保持機構および前記カメラの少なくとも一方を第２の移動体として前記任意のＸ−Ｙ方向に移動可能に構成され、前記オフセット量取得用基板には、前記基板保持機構によって保持された当該オフセット量取得用基板の前記Ｘ方向に沿った第３の位置ずれ量および前記Ｙ方向に沿った第４の位置ずれ量を特定するための位置ずれ量特定用マークが形成され、前記記憶部は、前記オフセット量取得用基板が前記基板保持機構によって正常に保持された状態において前記位置ずれ量特定用マークが位置すべき第３の位置を特定可能な第３の位置情報を記憶し、前記制御部は、前記オフセット量取得処理において、前記第３の位置情報に基づいて特定される前記位置ずれ量特定用マークの形成位置上に前記カメラが位置するように前記第２の移動体を前記移動機構によって移動させた後に当該カメラを制御して当該位置ずれ量特定用マークを撮像させると共に、当該カメラから出力された前記撮像情報を画像解析処理して、当該画像解析処理の結果と前記第３の位置情報とに基づいて前記第３の位置ずれ量および前記第４の位置ずれ量を特定し、特定した当該第３の位置ずれ量および当該第４の位置ずれ量に応じて、前記第１のビーム照射開始位置上に前記ビーム照射部が位置するように前記第１の移動体を移動させる際の移動量、および前記第２のビーム照射開始位置上に当該ビーム照射部が位置するように当該第１の移動体を移動させる際の移動量をそれぞれ補正する。
【００１６】
さらに、請求項４記載の基板検査装置は、請求項１または２記載の基板検査装置において、前記検査対象基板を撮像して撮像情報を出力するカメラを備え、前記移動機構は、前記基板保持機構および前記カメラの少なくとも一方を第２の移動体として前記任意のＸ−Ｙ方向に移動可能に構成され、前記オフセット量取得用基板には、前記基板保持機構によって保持された当該オフセット量取得用基板の前記Ｘ方向に沿った第３の位置ずれ量および前記Ｙ方向に沿った第４の位置ずれ量を特定するための位置ずれ量特定用マークが形成され、前記記憶部は、前記オフセット量取得用基板が前記基板保持機構によって正常に保持された状態において前記位置ずれ量特定用マークが位置すべき第３の位置を特定可能な第３の位置情報を記憶し、前記制御部は、前記オフセット量取得処理において、前記第３の位置情報に基づいて特定される前記位置ずれ量特定用マークの形成位置上に前記カメラが位置するように前記第２の移動体を前記移動機構によって移動させた後に当該カメラを制御して当該位置ずれ量特定用マークを撮像させると共に、当該カメラから出力された前記撮像情報を画像解析処理して、当該画像解析処理の結果と前記第３の位置情報とに基づいて前記第３の位置ずれ量および前記第４の位置ずれ量を特定し、特定した当該第３の位置ずれ量および当該第４の位置ずれ量を前記第１の位置ずれ量および前記第２の位置ずれ量にそれぞれ加算して前記オフセット量を特定する。
【００１７】
また、請求項５記載の基板検査装置は、請求項３または４記載の基板検査装置において、前記制御部は、前記オフセット量取得処理において、前記ビーム照射位置検出用マークを前記位置ずれ量特定用マークとして使用して前記第３の位置ずれ量および前記第４の位置ずれ量を特定する。
【００１８】
さらに、請求項６記載の基板検査装置は、請求項１から５のいずれかに記載の基板検査装置において、前記制御部は、前記オフセット量取得処理において、前記第１の位置情報に基づいて特定される前記基準点を前記第１のビーム照射開始位置および前記第２のビーム照射開始位置として前記第１の辺の位置および前記第２の辺の位置を取得する。
【発明の効果】
【００１９】
請求項１記載の基板検査装置では、制御部が、オフセット量取得処理において、第１の位置情報および第２の位置情報の予め規定された一方の位置情報に基づいて特定される第１のビーム照射開始位置上にビーム照射部が位置するように第１の移動体を移動機構によって移動させた後に第１の移動体を移動機構によってＸ方向に移動させながらビーム照射部を制御してレーザービームを照射させたときのレーザービームの反射光量の変化に基づいてビーム照射位置検出用マークの第１の辺の位置を取得し、かつ、予め規定された一方の位置情報に基づいて特定される第２のビーム照射開始位置上にビーム照射部が位置するように第１の移動体を移動機構によって移動させた後に第１の移動体を移動機構によってＹ方向に移動させながらビーム照射部を制御してレーザービームを照射させたときのレーザービームの反射光量の変化に基づいてビーム照射位置検出用マークの第２の辺の位置を取得すると共に、取得した第１の辺の位置および第２の辺の位置と、第２の位置情報とに基づいて基板保持機構によって保持されている状態のオフセット量取得用基板における基準点の第２の位置を特定し、特定した第２の位置と第１の位置とのＸ方向に沿った第１の位置ずれ量を、第１の移動体のＸ方向に沿った移動量を補正するためのオフセット量とし、かつ、第２の位置と第１の位置とのＹ方向に沿った第２の位置ずれ量を、第１の移動体のＹ方向に沿った移動量を補正するためのオフセット量として特定する。
【００２０】
したがって、請求項１記載の基板検査装置によれば、オフセット量取得処理時にマーク２１ｚとレーザ照射領域Ａｚとが同心状に一致したかを目視によって判断する必要がある従来の検査装置とは異なり、保護カバー越しにビーム照射位置検出用マークと、オフセット量取得用基板に対して照射したレーザービームの照射領域とが同心状に一致したかを確認する必要がないだけではなく、ビーム照射部からのレーザービームの反射光量の変化に基づいて特定される基準点の第２の位置と、第１の位置情報に基づいて特定される基準点の第１の位置とのＸ方向に沿った第１の位置ずれ量およびＹ方向に沿った第２の位置ずれ量に基づいてオフセット量が自動的に取得されるため、オペレータの判断基準の差異に起因して、取得されるオフセット量に差異が生じる事態を回避して、正確かつ容易にオフセット量を取得することができる。したがって、この基板検査装置によれば、検査対象基板の検査処理時に、オフセット量取得処理によって取得したオフセット量に基づいて、第１の移動体を正確に移動させることができるため、検査対象基板を正確に検査することができる。
【００２１】
また、請求項２記載の基板検査装置によれば、制御部が、オフセット量取得処理において、互いに平行な一対の第１の辺および互いに平行な一対の第２の辺を有する平行四辺形状のビーム照射位置検出用マークが形成されたオフセット量取得用基板を使用して、一対の第１の辺の位置および一対の第２の辺の位置をそれぞれ取得し、取得した各辺の位置と第２の位置情報とに基づいて第２の位置を特定することにより、第１の辺や第２の辺がそれぞれ１つだけのビーム照射位置検出用マークが形成されたオフセット量取得用基板を使用してオフセット量を取得する構成と比較して、基準点の第２の位置を正確に特定することができるため、一層正確なオフセット量を取得することができる。
【００２２】
さらに、請求項３記載の基板検査装置では、制御部が、オフセット量取得処理において、第３の位置情報に基づいて特定される位置ずれ量特定用マークの形成位置上にカメラが位置するように第２の移動体を移動機構によって移動させた後にカメラを制御して位置ずれ量特定用マークを撮像させると共に、カメラから出力された撮像情報を画像解析処理して、画像解析処理の結果と第３の位置情報とに基づいて第３の位置ずれ量および第４の位置ずれ量を特定し、特定した第３の位置ずれ量および第４の位置ずれ量に応じて、第１のビーム照射開始位置上にビーム照射部が位置するように第１の移動体を移動させる際の移動量、および第２のビーム照射開始位置上にビーム照射部が位置するように第１の移動体を移動させる際の移動量をそれぞれ補正する。
【００２３】
さらに、請求項４記載の基板検査装置では、制御部が、オフセット量取得処理において、第３の位置情報に基づいて特定される位置ずれ量特定用マークの形成位置上にカメラが位置するように第２の移動体を移動機構によって移動させた後にカメラを制御して位置ずれ量特定用マークを撮像させると共に、カメラから出力された撮像情報を画像解析処理して、画像解析処理の結果と第３の位置情報とに基づいて第３の位置ずれ量および第４の位置ずれ量を特定し、特定した第３の位置ずれ量および第４の位置ずれ量を第１の位置ずれ量および第２の位置ずれ量にそれぞれ加算してオフセット量を特定する。
【００２４】
したがって、請求項３または４記載の基板検査装置によれば、基板保持機構によるオフセット量取得用基板の保持位置に位置ずれが生じていたとしても、この位置ずれの影響を排除して、正確なオフセット量を取得することができる。
【００２５】
また、請求項５記載の基板検査装置によれば、制御部が、オフセット量取得処理において、ビーム照射位置検出用マークを位置ずれ量特定用マークとして使用して第３の位置ずれ量および第４の位置ずれ量を特定することにより、ビーム照射位置検出用マークおよび位置ずれ量特定用マークを別個に形成したオフセット量取得用基板を使用してオフセット量を取得する構成と比較して、オフセット量取得用基板の製造コストを低減することができるだけでなく、第１の位置を特定するための第１の位置情報や、第３の位置を特定するための第３の位置情報の生成が容易となるため、オフセット量取得処理を実行可能な環境を用意するための負担を十分に軽減することができる。
【００２６】
さらに、請求項６記載の基板検査装置によれば、制御部が、オフセット量取得処理において、第１の位置情報に基づいて特定される基準点を第１のビーム照射開始位置および第２のビーム照射開始位置として第１の辺の位置および第２の辺の位置を取得することにより、基準点、第１のビーム照射開始位置および第２のビーム照射開始位置をそれぞれ別個に規定した場合と比較して、オフセット量取得処理を実行可能な環境を用意するための負担を一層軽減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】基板検査装置１の構成を示す構成図である。
【図２】オフセット量取得用基板２０の平面図である。
【図３】基板保持機構２によるオフセット量取得用基板２０の保持位置の位置ずれに起因するビーム照射位置検出用マーク２１の位置ずれについて説明するための説明図である。
【図４】Ｘ−Ｙ移動機構３ａ，３ｂによるレーザ変位計５の移動位置の位置ずれについて説明するための説明図である。
【図５】他の実施の形態に係るオフセット量取得用基板２０Ａの平面図である。
【図６】従来のオフセット量取得用基板２０ｚの平面図である。
【図７】オフセット量取得用基板２０ｚを使用したオフセット量の取得方法について説明するための説明図である。
【図８】オフセット量取得用基板２０ｚを使用したオフセット量の取得方法について説明するための他の説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、基板検査装置の実施の形態について、添付図面を参照して説明する。
【００２９】
図１に示す基板検査装置１は、検査対象基板の一例であるプリント基板（図示せず）の良否を電気的に検査可能に構成された装置であって、基板保持機構２、Ｘ−Ｙ移動機構３ａ，３ｂ、カメラ４、レーザ変位計５、上下動機構６ａ，６ｂ、検査用プローブ７ａ，７ｂ、測定部８、制御部９および記憶部１０を備えて構成されている。基板保持機構２は、制御部９からの制御信号Ｓ１に従って、上記のプリント基板やオフセット量取得用基板２０（図２参照）を保持する。Ｘ−Ｙ移動機構３ａ，３ｂは、「移動機構」の一例であって、Ｘ−Ｙ移動機構３ａが、制御部９からの制御信号Ｓ２に従って、カメラ４および上下動機構６ａ（検査用プローブ７ａ）を任意のＸ−Ｙ方向に移動させ、Ｘ−Ｙ移動機構３ｂが、制御部９からの制御信号Ｓ２に従って、レーザ変位計５および上下動機構６ｂ（検査用プローブ７ｂ）を任意のＸ−Ｙ方向に移動させる（「基板保持機構およびカメラの少なくとも一方である第１の移動体」が「カメラ」で、「基板保持機構およびビーム照射部の少なくとも一方である第２の移動体」が「ビーム照射部」の構成の例）。
【００３０】
カメラ４は、制御部９からの制御信号Ｓ３に従い、基板保持機構２によって保持されている検査対象基板やオフセット量取得用基板２０を撮像し、その撮像情報Ｄ１を制御部９に出力する。この場合、この基板検査装置１では、検査処理に際して基板保持機構２によって保持されている検査対象基板を撮像して撮像情報Ｄ１を画像解析処理することにより、基板保持機構２による検査対象基板の保持位置のずれ量を取得して、取得したずれ量に応じて検査用プローブ７ａ，７ｂによるプロービング位置を微調整する構成が採用されている。レーザ変位計５は、「ビーム照射部」の一例であって、制御部９からの制御信号Ｓ４に従い、基板保持機構２によって保持されている検査対象基板やオフセット量取得用基板２０に向けてレーザービームを照射して、その反射光量を測定し、測定結果を反射光量情報Ｄ２として制御部９に出力する。この場合、この基板検査装置１では、検査処理に際して基板保持機構２によって保持されている検査対象基板の表面の高さをレーザ変位計５によって計測し、計測結果に応じて、検査用プローブ７ａ，７ｂによるプロービング高さを微調整する構成が採用されている。
【００３１】
上下動機構６ａ，６ｂは、制御部９からの制御信号Ｓ５に従って、Ｘ−Ｙ移動機構３ａ，３ｂに対して検査用プローブ７ａ，７ｂをＺ軸方向（基板保持機構２に対する接離方向）に移動させて検査用プローブ７ａ，７ｂを検査対象基板にプロービングさせる。この場合、この基板検査装置１では、Ｘ−Ｙ移動機構３ａに取り付けられた上下動機構６ａに検査用プローブ７ａが取り付けられると共に、Ｘ−Ｙ移動機構３ｂに取り付けられた上下動機構６ｂに検査用プローブ７ｂが取り付けられている。検査用プローブ７ａ，７ｂは、測定部８に対して電気的に接続されたコンタクトプローブであって、一例として、伸縮型のピンプローブで構成されている。測定部８は、制御部９からの制御信号Ｓ６に従って検査対象基板についての電気的パラメータを測定する測定処理を実行する。具体的には、測定部８は、検査対象基板に形成された導体パターン（図示せず）に上記の検査用プローブ７ａ，７ｂをプロービングさせた状態において、検査用プローブ７ａ，７ｂを介して導体パターンについての電気的パラメータを測定し、その測定結果を測定結果情報Ｄ３として制御部９に出力する。
【００３２】
制御部９は、基板検査装置１を総括的に制御する。具体的には、制御部９は、基板保持機構２を制御して（制御信号Ｓ１を出力して）、検査対象基板やオフセット量取得用基板２０を保持させる。また、制御部９は、Ｘ−Ｙ移動機構３ａ，３ｂを制御して（制御信号Ｓ２を出力して）、カメラ４、レーザ変位計５および上下動機構６ａ，６ｂ（検査用プローブ７ａ，７ｂ）を任意のＸ−Ｙ方向に移動させる。さらに、制御部９は、カメラ４を制御して（制御信号Ｓ３を出力して）、検査対象基板やオフセット量取得用基板２０を撮像させると共に、レーザ変位計５を制御して（制御信号Ｓ４を出力して）、検査対象基板やオフセット量取得用基板２０に向けてレーザービームを照射させる。また、制御部９は、上下動機構６ａ，６ｂを制御して（制御信号Ｓ５を出力して）、検査対象基板に検査用プローブ７ａ，７ｂをプロービングさせると共に、測定部８を制御して（制御信号Ｓ５を出力して）、検査対象基板についての測定処理を実行させる。さらに、制御部９は、測定部８から出力された測定結果情報Ｄ３と検査用基準情報とに基づき、検査対象基板の良否を検査する。
【００３３】
また、制御部９は、図２に示すオフセット量取得用基板２０を使用して、Ｘ−Ｙ移動機構３ｂによってレーザ変位計５を移動させる際のＸ方向に沿った移動量およびＹ方向に沿った移動量をそれぞれ補正するためのオフセット量を取得するオフセット量取得処理を実行する。この場合、図２に示すように、オフセット量取得用基板２０は、レーザービームの透過率が高い材料で平板状に形成された板材の表面に、板材の形成材料よりもレーザービームの透過率が低い材料（一例として、金などの金属材料）によって２つのビーム照射位置検出用マーク２１（以下、単に「マーク２１」ともいう）が形成されている（「レーザービームの反射光量が周囲とは相違するビーム照射位置検出用マーク」の一例）。
【００３４】
このマーク２１は、オフセット量取得用基板２０を基板保持機構２によって保持した状態においてＹ方向（一例として、同図における上下方向）と平行になる互いに平行な直線状の一対の第１の辺（この例では、左辺および右辺）と、Ｘ方向（一例として、同図における左右方向）と平行になる互いに平行な直線状の一対の第２の辺（この例では、上辺および下辺）とを有する矩形状（「平行四辺形状」の一例）に形成されている。また、マーク２１は、その一辺の長さがレーザービームのビームスポット径の２倍程度の大きさに形成されると共に、オフセット量取得用基板２０上における形成位置が既知となっている。なお、この基板検査装置１では、上記のマーク２１を「ビーム照射位置検出用マーク」および「位置ずれ量特定用マーク」として兼用する構成が採用されている。
【００３５】
記憶部１０は、制御部９の動作プログラムや、検査対象基板の検査処理時に使用する情報、およびオフセット量取得用基板２０を使用したオフセット量取得処理時に使用する情報を記憶する。具体的には、記憶部１０は、検査処理時に使用する情報として、検査対象基板の検査処理時にカメラ４によって撮像すべき位置を特定可能な撮像位置情報、レーザ変位計５によってレーザービームを照射すべき照射位置を特定可能な照射位置情報、および検査用プローブ７ａ，７ｂをプロービングさせるべきプロービング位置を特定可能なプロービング位置情報や、良品の基板から取得した検査用基準情報等で構成された基板検査情報を記憶する。
【００３６】
また、記憶部１０は、オフセット量取得処理時に使用する情報として、オフセット量取得用基板２０が基板保持機構２によって保持された状態においてマーク２１の中心（「ビーム照射位置検出用マークに対応して予め規定された基準点」の一例）が位置すべき位置（第１の位置：一例として、図４に示す中心位置Ｏｂ）を特定可能な位置情報（第１の位置情報）、マーク２１の中心に対する上記の両第１の辺の位置およびマーク２１の中心に対する上記の両第２の辺の位置をそれぞれ特定可能な位置情報（第２の位置情報）、およびオフセット量取得用基板２０が基板保持機構２によって正常に保持されている状態（位置ずれなどが生じることのないように基板保持機構２によって保持された状態）においてマーク２１が位置すべき位置（第３の位置：一例として、図３に示す中心位置Ｏａ）を特定可能な位置情報（第３の位置情報）をそれぞれ記録した基準位置情報Ｄ０を記憶する。
【００３７】
この基板検査装置１では、基板検査装置１の組立て作業が完了したとき、または、基板検査装置１の設置作業が完了したときや、検査対象基板についての検査処理を開始する前の準備作業時などに、上記のオフセット量取得処理を実行することができるように構成されている。このオフセット量取得処理に際しては、まず、基板保持機構２の基板保持位置にオフセット量取得用基板２０を載置した状態において、図示しない操作部を操作して、オフセット量取得処理の開始を指示する。この際には、制御部９が制御信号Ｓ１を出力することによって基板保持機構２にオフセット量取得用基板２０を保持させる。次いで、制御部９は、Ｘ−Ｙ移動機構３ａに制御信号Ｓ２を出力することにより、基準位置情報Ｄ０における上記の「第３の位置情報」に基づいて特定される２つのマーク２１のうちの一方（一例として、図２に示す両マーク２１のうちの左下のマーク２１）の形成位置上にカメラ４を移動させる。次いで、制御部９は、カメラ４に制御信号Ｓ３を出力することにより、その位置においてオフセット量取得用基板２０を撮像させる。これに応じて、カメラ４が撮像情報Ｄ１を出力する。
【００３８】
この際に、基板保持機構２によるオフセット量取得用基板２０の保持位置に位置ずれが生じている場合（基板保持機構２によってオフセット量取得用基板２０が正しい保持位置に保持されていない場合）には、図３に示すように、オフセット量取得用基板２０を正常に保持した状態においてマーク２１が位置すべき位置（第３の位置：カメラ４の直下に位置している位置：この例では、中心位置Ｏａ）とは相違する位置にマーク２１の中心位置Ｍａが位置した状態となる。したがって、制御部９は、まず、カメラ４から出力された撮像情報Ｄ１を画像解析処理することにより、基板保持機構２によって保持されているオフセット量取得用基板２０のマーク２１における中心位置Ｍａ（現実の中心位置）を特定する。次いで、制御部９は、特定した中心位置Ｍａ（「画像解析処理の結果」の一例）と、上記の「第３の位置情報」に基づいて特定される中心位置Ｏａ（この例では、カメラ４によって撮像された撮像範囲の中心）とのＸ方向に沿った位置ずれ量Ｘａ、およびＹ方向に沿った位置ずれ量Ｙａをそれぞれ特定する。
【００３９】
次いで、制御部９は、２つのマーク２１のうちの他方（この例では、図２に示す両マーク２１のうちの右上のマーク２１）についても、上記の処理と同様の処理を実行して中心位置Ｍａと中心位置ＯａとのＸ方向に沿った位置ずれ量Ｘａ、およびＹ方向に沿った位置ずれ量Ｙａをそれぞれ特定する。続いて、制御部９は、両マーク２１について特定した位置ずれ量Ｘａおよび位置ずれ量Ｙａに基づき、基板保持機構２によるオフセット量取得用基板２０の保持位置のＸ方向に沿ったずれ量（「第３の位置ずれ量」の一例）、およびＹ方向に沿ったずれ量（「第４の位置ずれ量」の一例）をそれぞれ特定し、特定した結果をオフセット量情報ＤＯａとして記憶部１０に記憶させる。なお、上記の例とは相違するが、オフセット量取得用基板２０が基板保持機構２によって正常な保持位置に保持されている場合（基板保持機構２によるオフセット量取得用基板２０の保持位置に位置ずれが生じていない場合）には、両マーク２１の上記の中心位置Ｍａが中心位置Ｏａと一致した状態となる。したがって、このような状態のときには、制御部９は、一例として、「補正量＝０」のオフセット量情報ＤＯａを生成して記憶部１０に記憶させる。
【００４０】
次いで、制御部９は、Ｘ−Ｙ移動機構３ｂに制御信号Ｓ２を出力することにより、基準位置情報Ｄ０に基づいて特定されるマーク２１の中心位置（「第１の位置情報および第２の位置情報の予め規定された一方に基づいて特定される第１のビーム照射開始位置」の一例）上にレーザ変位計５が位置するように移動させる。この際に、制御部９は、上記のオフセット量情報ＤＯａに基づいてＸ−Ｙ移動機構３ｂによるレーザ変位計５の移動量を補正する（「第３の位置ずれ量および第４の位置ずれ量に応じて移動量を補正する」との処理の一例）。これにより、基板保持機構２によるオフセット量取得用基板２０の保持位置に位置ずれが生じていた場合であっても、その影響が排除される。なお、この際には、一例として、図４に示す中心位置Ｏｂ上にレーザ変位計５が移動させられる。
【００４１】
続いて、制御部９は、Ｘ−Ｙ移動機構３ｂに制御信号Ｓ２を出力することにより、レーザ変位計５を矢印Ａ１の向き（Ｘ軸のプラス（右）方向）に移動させつつ、レーザ変位計５に制御信号Ｓ４を出力することによってオフセット量取得用基板２０に向けてレーザービームを照射させる（「第１の移動体を移動機構によってＸ方向に移動させながらビーム照射部を制御してレーザービームを照射させる」との処理の一例）。この際には、レーザ変位計５が、照射したレザービームの反射光量を測定して反射光量情報Ｄ２を出力し、制御部９が、レーザ変位計５から出力された反射光量情報Ｄ２を記憶部１０に記憶させる。次いで、制御部９は、Ｘ−Ｙ移動機構３ｂに制御信号Ｓ２を出力することにより、基準位置情報Ｄ０に基づいて特定されるマーク２１の中心位置Ｏｂ（「第１のビーム照射開始位置」の一例）上にレーザ変位計５が位置するように移動させた後にレーザ変位計５を矢印Ａ２の向き（Ｘ軸のマイナス（左）方向）に移動させつつ、レーザ変位計５に制御信号Ｓ４を出力することによってオフセット量取得用基板２０に向けてレーザービームを照射させ（「第１の移動体を移動機構によってＸ方向に移動させながらビーム照射部を制御してレーザービームを照射させる」との処理の他の一例）、レーザ変位計５から出力された反射光量情報Ｄ２を記憶部１０に記憶させる。
【００４２】
同様にして、制御部９は、Ｘ−Ｙ移動機構３ｂに制御信号Ｓ２を出力することにより、マーク２１の中心位置Ｏｂ（「第２のビーム照射開始位置」の一例）上にレーザ変位計５が位置するように移動させた後にレーザ変位計５を矢印Ｂ１の向き（Ｙ軸のプラス（上）方向）に移動させつつ、レーザ変位計５に制御信号Ｓ４を出力することによってオフセット量取得用基板２０に向けてレーザービームを照射させ（「第１の移動体を移動機構によってＹ方向に移動させながらビーム照射部を制御してレーザービームを照射させる」との処理の一例）、レーザ変位計５から出力された反射光量情報Ｄ２を記憶部１０に記憶させる。続いて、制御部９は、Ｘ−Ｙ移動機構３ｂに制御信号Ｓ２を出力することにより、マーク２１の中心位置Ｏｂ（「第２のビーム照射開始位置」の一例）上にレーザ変位計５が位置するように移動させた後にレーザ変位計５を矢印Ｂ２の向き（Ｙ軸のマイナス（下）方向）に移動させつつ、レーザ変位計５に制御信号Ｓ４を出力することによってオフセット量取得用基板２０に向けてレーザービームを照射させ（「第１の移動体を移動機構によってＹ方向に移動させながらビーム照射部を制御してレーザービームを照射させる」との処理の他の一例）、レーザ変位計５から出力された反射光量情報Ｄ２を記憶部１０に記憶させる。
【００４３】
次いで、制御部９は、記憶部１０に記憶させた各反射光量情報Ｄ２に基づき、基板保持機構２によって保持されているオフセット量取得用基板２０のマーク２１における両第１の辺の位置、および両第２の辺の位置をそれぞれ特定する。この場合、マーク２１上にレーザービームが照射されているときには、マーク２１の周囲にレーザービームが照射されているときよりもその反射光量が多くなる。したがって、Ｘ−Ｙ移動機構３ｂによってレーザ変位計５を矢印Ａ１，Ａ２の向きに移動させながら測定された反射光量情報Ｄ２の変化に基づき、Ｙ方向に沿った両第１の辺の端部位置Ｍｘ１，Ｍｘ２を特定することができる。同様にして、Ｘ−Ｙ移動機構３ｂによってレーザ変位計５を矢印Ｂ１，Ｂ２の向きに移動させながら測定された反射光量情報Ｄ２の変化に基づき、Ｘ方向に沿った両第２の辺の端部位置Ｍｙ１，Ｍｙ２を特定することができる。
【００４４】
続いて、制御部９は、特定した端部位置Ｍｘ１，Ｍｘ２および端部位置Ｍｙ１，Ｍｙ２と、基準位置情報Ｄ０における上記の「第２の位置情報（マーク２１の中心に対する上記の両第１の辺の位置およびマーク２１の中心に対する上記の両第２の辺の位置をそれぞれ特定可能な位置情報）」とに基づいて、基板保持機構２によって保持されているオフセット量取得用基板２０における現実の中心位置Ｍｂ（第２の位置）を特定する。この場合、Ｘ−Ｙ移動機構３ｂを構成する部品精度のばらつき、Ｘ−Ｙ移動機構３ｂの組立て時に生じる部品組付け位置のばらつき、およびＸ−Ｙ移動機構３ｂに対するレーザ変位計５の取付け位置のばらつきなどに起因して、Ｘ−Ｙ移動機構３ｂによるレーザ変位計５の移動量を補正する必要が生じている状態では、図４に示すように、基準位置情報Ｄ０に基づいてマーク２１の中心位置に移動させたレーザ変位計５が、現実の中心位置Ｍｂ上から位置ずれした中心位置Ｏｂ上に移動させられる。
【００４５】
したがって、中心位置Ｏｂと中心位置ＭａとのＸ方向に沿った位置ずれ量Ｘｂ（第１の位置ずれ量）、および中心位置Ｏｂと中心位置ＭａとのＹ方向に沿った位置ずれ量Ｙｂ（第２の位置ずれ量）を演算することにより、検査処理に際してＸ−Ｙ移動機構３ｂによってレーザ変位計５を移動させる際のＸ方向に沿った移動量を補正するオフセット量、および検査処理に際してＸ−Ｙ移動機構３ｂによってレーザ変位計５を移動させる際のＹ方向に沿った移動量を補正するオフセット量を取得することができる。具体的には、制御部９は、上記の位置ずれ量ＸｂをＸ方向に沿った移動量を補正するオフセット量とし、上記の位置ずれ量ＹｂをＹ方向に沿った移動量を補正するオフセット量として演算して、その演算結果をオフセット量情報ＤＯｂとして記憶部１０に記憶させる。
【００４６】
なお、この基板検査装置１では、実際には、制御部９が、２つのマーク２１についての上記の位置ずれ量Ｘｂ，Ｙｂをそれぞれ演算し、演算結果を平均化して上記のオフセット量情報ＤＯｂを生成するが、発明についての理解を容易とするために２つ目のマーク２１についての処理や、平均化の処理に関する説明を省略する。また、上記の例とは相違するが、Ｘ−Ｙ移動機構３ｂによってレーザ変位計５を正確に移動させることができる状態（Ｘ−Ｙ移動機構３ｂによるレーザ変位計５の移動量を補正する必要がない状態）のときには、前述したオフセット量情報ＤＯａに応じたレーザ変位計５の移動量の補正によって、上記の中心位置Ｍｂが中心位置Ｏｂと一致する。したがって、この際には、制御部９は、一例として、「補正量＝０」のオフセット量情報ＤＯｂを生成して記憶部１０に記憶させる。以上により、オフセット量取得用基板２０を使用したオフセット量取得処理が完了する。
【００４７】
一方、検査対象基板の検査処理に際しては、制御部９がオフセット量情報ＤＯｂに応じてＸ−Ｙ移動機構３ｂによるレーザ変位計５の移動量を補正する。これにより、検査対象基板の表面の高さを測定すべき規定位置にレーザービームが照射される結果、レーザ変位計５によって検査対象基板の表面の高さを正確に計測することができる。したがって、計測結果に応じて検査用プローブ７ａ，７ｂによるプロービング高さを正確に微調整することができるため、検査対象基板の傷付きや検査用プローブ７ａ，７ｂの破損が好適に回避することができる。
【００４８】
このように、この基板検査装置１では、制御部９が、オフセット量取得処理において、基準位置情報Ｄ０に基づいて特定される中心位置Ｏｂ上にレーザ変位計５が位置するようにレーザ変位計５をＸ−Ｙ移動機構３ｂによって移動させた後にレーザ変位計５をＸ−Ｙ移動機構３ｂによってＸ方向に移動させながらレーザ変位計５からレーザービームを照射させたときのレーザービームの反射光量の変化に基づいてビーム照射位置検出用マーク２１の第１の辺の端部位置Ｍｘ１，Ｍｘ２を取得し、かつ、基準位置情報Ｄ０に基づいて特定される中心位置Ｏｂ上にレーザ変位計５が位置するようにレーザ変位計５をＸ−Ｙ移動機構３ｂによって移動させた後にレーザ変位計５をＸ−Ｙ移動機構３ｂによってＹ方向に移動させながらレーザ変位計５からレーザービームを照射させたときのレーザービームの反射光量の変化に基づいてマーク２１の第２の辺の端部位置Ｍｙ１，Ｍｙ２を取得すると共に、取得した端部位置Ｍｘ１，Ｍｘ２，Ｍｙ１，Ｍｙ２と基準位置情報Ｄ０とに基づいて、基板保持機構２によって保持されている状態のオフセット量取得用基板２０における中心位置Ｍｂを特定し、特定した中心位置Ｍｂと中心位置ＯｂとのＸ方向に沿った位置ずれ量Ｘｂを、基板保持機構２によるレーザ変位計５のＸ方向に沿った移動量を補正するためのオフセット量とし、かつ、中心位置Ｍｂと中心位置ＯｂとのＹ方向に沿った位置ずれ量Ｙｂを、基板保持機構２によるレーザ変位計５のＹ方向に沿った移動量を補正するためのオフセット量として特定する。
【００４９】
したがって、この基板検査装置１によれば、オフセット量取得処理時にマーク２１ｚとレーザ照射領域Ａｚとが同心状に一致したかを目視によって判断する必要がある従来の検査装置とは異なり、保護カバー越しにマーク２１と、オフセット量取得用基板２０に対して照射したレーザービームの照射領域とが同心状に一致したかを確認する必要がないだけではなく、レーザ変位計５からのレーザービームの反射光量の変化に基づいて特定される中心位置Ｍｂと、基準位置情報Ｄ０に基づいて特定される中心位置Ｏｂとの位置ずれ量Ｘｂ，Ｙｂに基づいてオフセット量情報ＤＯｂが自動的に取得されるため、オペレータの判断基準の差異に起因して、取得されるオフセット量に差異が生じる事態を回避して、正確かつ容易にオフセット量を取得することができる。したがって、この基板検査装置１によれば、検査対象基板の検査処理時に、オフセット量取得処理によって取得したオフセット量情報ＤＯｂに基づいて、レーザ変位計５を正確に移動させることができるため、検査対象基板を正確に検査することができる。
【００５０】
また、この基板検査装置１によれば、制御部９が、オフセット量取得処理において、互いに平行な一対の第１の辺および互いに平行な一対の第２の辺を有する平行四辺形状（この例では、矩形状）のビーム照射位置検出用マーク２１が形成されたオフセット量取得用基板２０を使用して、上記の一対の第１の辺の端部位置Ｍｘ１，Ｍｘ２および一対の第２の辺の端部位置Ｍｙ１，Ｍｙ２をそれぞれ取得し、取得した各辺の端部位置Ｍｘ１，Ｍｘ２，Ｍｙ１，Ｍｙ２と基準位置情報Ｄ０とに基づいて中心位置Ｍｂを特定することにより、「第１の辺」や「第２の辺」がそれぞれ１つだけのビーム照射位置検出用マークが形成されたオフセット量取得用基板（図示せず）を使用してオフセット量を取得する構成と比較して、中心位置Ｍｂを正確に特定することができるため、一層正確なオフセット量情報ＤＯｂを取得することができる。
【００５１】
さらに、この基板検査装置１では、制御部９が、オフセット量取得処理において、基準位置情報Ｄ０に基づいて特定されるマーク２１の形成位置上（この例では、中心位置Ｏａ上）にカメラ４が位置するようにＸ−Ｙ移動機構３ａによってカメラ４を移動させた後にカメラ４を制御してマーク２１を撮像させると共に、カメラ４から出力された撮像情報Ｄ１を画像解析処理して、画像解析処理の結果と基準位置情報Ｄ０とに基づいて位置ずれ量Ｘａ，Ｙａを特定し、特定した位置ずれ量Ｘａ，Ｙａに応じて、上記の中心位置Ｏｂ上にレーザ変位計５が位置するようにレーザ変位計５を移動させる際の移動量を補正することにより、基板保持機構２によるオフセット量取得用基板２０の保持位置に位置ずれが生じていたとしても、この位置ずれの影響を排除して、正確なオフセット量情報ＤＯｂを取得することができる。
【００５２】
また、この基板検査装置１によれば、制御部９が、オフセット量取得処理において、「ビーム照射位置検出用マーク」を「位置ずれ量特定用マーク」として（マーク２１を兼用して）使用して位置ずれ量Ｘａ，Ｙａを特定することにより、「ビーム照射位置検出用マーク」および「位置ずれ量特定用マーク」を別個に形成したオフセット量取得用基板（図示せず）を使用してオフセット量を取得する構成と比較して、オフセット量取得用基板２０の製造コストを低減することができるだけでなく、「第１の位置」や「第３の位置」を特定するための基準位置情報Ｄ０の生成が容易となるため、オフセット量取得処理を実行可能な環境を用意するための負担を十分に軽減することができる。
【００５３】
さらに、この基板検査装置１によれば、制御部９が、オフセット量取得処理において、「第１の位置情報に基づいて特定される基準点」に相当する中心位置Ｏｂを「第１のビーム照射開始位置」および「第２のビーム照射開始位置」として第１の辺の端部位置Ｍｘ１，Ｍｘ２および第２の辺の端部位置Ｍｙ１，Ｍｙ２を取得することにより、「基準点」、「第１のビーム照射開始位置」および「第２のビーム照射開始位置」をそれぞれ別個に規定した場合と比較して、オフセット量取得処理を実行可能な環境を用意するための負担を一層軽減することができる。
【００５４】
なお、基板検査装置の構成は、上記の構成に限定されない。例えば、オフセット量取得処理に際して、カメラ４から出力された撮像情報Ｄ１の画像解析処理の結果と基準位置情報Ｄ０とに基づいて位置ずれ量Ｘａ，Ｙａ（図３参照）を特定し、特定した位置ずれ量Ｘａ，Ｙａに応じて（位置ずれ量Ｘａ，Ｙａに基づいて生成したオフセット量情報ＤＯａに応じて）、上記の中心位置Ｏｂ上にレーザ変位計５が位置するようにレーザ変位計５を移動させる際の移動量を補正する構成の基板検査装置１を例に挙げて説明したが、基板検査装置の構成はこれに限定されない。具体的には、マーク２１の第１の辺の位置（上記の例示における端部位置Ｍｘ１，Ｍｘ２）や第２の辺の位置（上記の例示における端部位置Ｍｙ１，Ｍｙ２）を特定する際のレーザ変位計５の移動時において上記のオフセット量情報ＤＯａに応じた移動量の補正を行わずに端部位置Ｍｘ１，Ｍｘ２，Ｍｙ１，Ｍｙ２を特定して中心位置Ｍｂを特定し、特定した中心位置Ｍｂと中心位置ＯｂとのＸ方向に沿った位置ずれ量ＸｂおよびＹ方向に沿った位置ずれ量Ｙｂに対して、オフセット量情報ＤＯａによって特定される位置ずれ量Ｘａおよび位置ずれ量Ｙａをそれぞれ加算してオフセット量を特定する構成を採用することができる。
【００５５】
このような構成を採用することにより、上記の基板検査装置１と同様にして、基板保持機構２によるオフセット量取得用基板２０の保持位置に位置ずれが生じていたとしても、この位置ずれの影響を排除して、正確なオフセット量情報ＤＯｂを取得することができる。
【００５６】
また、オフセット量取得処理に際して、カメラ４によってマーク２１を撮像し、その撮像情報Ｄ１を画像解析処理することによって基板保持機構２によるオフセット量取得用基板２０の保持位置のずれ量を取得する例について説明したが、オフセット量取得用基板２０が基板保持機構２によって正しい位置に保持されるようにオフセット量取得用基板２０をセットする（上記の例時における中心位置Ｍａ，Ｏａが一致する状態にセットする）ことを条件として、カメラ４によるマーク２１を撮像する処理、および、その撮像情報Ｄ１を画像解析処理してオフセット量取得用基板２０の保持位置のずれ量を取得する処理を不要とすることができる。
【００５７】
また、レーザービームの透過率が高い材料で平板状に形成された板材の表面に、板材の形成材料よりもレーザービームの透過率が低い材料によってマーク２１が形成されたオフセット量取得用基板２０を使用してオフセット量を取得する例について説明したが、オフセット量取得処理時に使用するオフセット量取得用基板は、これに限定されず、図５に示すように、レーザービームの反射光量が周囲よりも低い（レーザービームの透過光量が周囲よりも高い）ビーム照射位置検出用マーク２１ａ（「ビーム照射位置検出用マーク」および「位置ずれ量特定用マーク」の他の一例：以下、単に「マーク２１ａ」ともいう）が形成されたオフセット量取得用基板２０Ａを使用してオフセット量を取得する構成を採用することもできる。このオフセット量取得用基板２０Ａは、レーザービームの透過率が低い材料（一例として、金などの金属材料）がマーク２１ａとすべき矩形状の領域の周囲にめっきされることによって矩形状のマーク２１ａが形成されている。したがって、マーク２１が形成されているオフセット量取得用基板２０を使用した上記のオフセット量取得処理と同様にして、カメラ４から出力された撮像情報Ｄ１を画像解析処理することで、例えば、その中心位置を特定することができ、レーザ変位計５からのレーザービームの反射光量の変化に基づいて、各辺の位置を特定することができる。
【００５８】
さらに、２つのマーク２１が形成されたオフセット量取得用基板２０を使用してオフセット量を取得する例について説明したが、１つのマーク２１（または、１つのマーク２１ａ）が形成されたオフセット量取得用基板（図示せず）を使用してオフセット量を取得する構成を採用することができる。具体的には、カメラ４から出力された撮像情報Ｄ１に基づいて（撮像情報Ｄ１を画像解析して）、基板保持機構２によるオフセット量取得用基板の保持位置のずれ量を取得する際には、１つのマーク２１（またはマーク２１ａ）についての上記の位置ずれ量Ｘａ，Ｙａと、そのマーク２１（またはマーク２１ａ）の傾き（図３に示す回転角θ）とを特定することで、オフセット量取得用基板の保持位置のＸ方向に沿ったずれ量およびＹ方向に沿ったずれ量をそれぞれ特定することができる。
【００５９】
また、矩形状のマーク２１（またはマーク２１ａ）が形成されたオフセット量取得用基板２０（またはオフセット量取得用基板２０Ａ）を使用してオフセット量を取得する例について説明したが、「ビーム照射位置検出用マーク」の形状は矩形状に限定されない。具体的には、マーク２１（またはマーク２１ａ）における左辺および右辺のいずれか一方に相当する一辺（第１の辺）と、マーク２１（またはマーク２１ａ）における上辺および下辺のいずれか一方に相当する一辺（第２の辺）とを有している限り、任意の形状のビーム照射位置検出用マークを形成したオフセット量取得用基板を使用してオフセット量を取得することができる。
【００６０】
この場合、「基準点に対する第１の辺の位置および基準点に対する第２の辺の位置をそれぞれ特定可能な第２の位置情報」が制御部９に記憶されているため、上記の例における端部位置Ｍｘ１，Ｍｘ２のいずれか一方と、端部位置Ｍｙ１，Ｍｙ２のいずれか一方とを特定し、特定した２つの端部位置と、「第２の位置情報」とに基づいて、「基準点」についての「第２の位置」を特定することができる。また、基板保持機構２によるオフセット量取得用基板２０の保持位置のずれ量を取得する場合においても、カメラ４による撮像の結果（撮像情報Ｄ１）を画像解析することによって基板保持機構２によるオフセット量取得用基板の保持位置のずれ量を特定することができるため、上記の例における端部位置Ｍｘ１，Ｍｘ２のいずれか一方と、端部位置Ｍｙ１，Ｍｙ２のいずれか一方とを特定し、特定した２つの端部位置と、「第２の位置情報」と、画像解析処理の結果に基づいて特定した「オフセット量取得用基板の保持位置のずれ量」とに基づいて、「基準点」についての「第２の位置」を特定することができる。したがって、例えば矩形状のマーク２１（またはマーク２１ａ）が形成されたオフセット量取得用基板２０（またはオフセット量取得用基板２０Ａ）を使用する場合においても、上記の例における端部位置Ｍｘ１，Ｍｘ２のいずれか一方と、端部位置Ｍｙ１，Ｍｙ２のいずれか一方とを特定するだけで、上記の中心位置Ｏｂを特定することができる。
【００６１】
さらに、「ビーム照射位置検出用マーク」と「位置ずれ量特定用マーク」とを兼用する例について説明したが、これらを別個独立して形成したオフセット量取得用基板（図示せず）を使用してオフセット量を取得する構成を採用することができる。この場合、「位置ずれ量特定用マーク」については、２つ以上形成する場合には、円形や楕円形などの任意の形状（直線状の辺を有さない形状）とすることができるが、「位置ずれ量特定用マーク」１つだけ形成する場合には、１つの「位置ずれ量特定用マーク」を撮像した撮像情報Ｄ１を画像解析処理して、そのオフセット量取得用基板の傾きの状態（図３に示す回転角θに対応する角度）を特定可能とするために、少なくとも一つの直線状の辺を有する形状とするのが好ましい。
【００６２】
また、基板保持機構２によるオフセット量取得用基板２０の保持位置のずれ量を特定可能なオフセット量情報ＤＯａ（図３に示す位置ずれ量Ｘａ，Ｙａを特定可能な情報）を自動的に取得する構成の基板検査装置１を例に挙げて説明したが、オフセット量情報ＤＯａに対応する情報の取得に関しては、手動で実行する構成を採用することもできる。具体的には、図３に示すように、基準位置情報Ｄ０に基づいて特定される中心位置Ｏａにカメラ４を移動させた状態においてマーク２１の中心位置Ｍａがカメラ４による撮像領域の中心から位置ずれしていたときに、マーク２１の中心位置Ｍａがカメラ４による撮像領域の中心に位置するように、カメラ４の位置をオペレータの指示操作によって移動させ、その際の移動量（すなわち、上記の位置ずれ量Ｘａ，Ｙａに対応する移動量）に基づいてオフセット量情報ＤＯａを生成する構成を採用することもできる。
【００６３】
さらに、「基板保持機構およびカメラの少なくとも一方としての第２の移動体」の一例であるカメラ４をＸ−Ｙ移動機構３ａによって移動させると共に、「基板保持機構およびビーム照射部の少なくとも一方としての第１の移動体」の一例であるレーザ変位計５をＸ−Ｙ移動機構３ｂによって移動させる構成を例に挙げて説明したが、「移動機構」の構成は、これに限定されず、カメラ４を固定的に配置した状態において基板保持機構２（「第２の移動体」の他の一例）を任意のＸ−Ｙ方向に移動させる構成（図示せず）や、レーザ変位計５を固定的に配置した状態において基板保持機構２（「第１の移動体」の他の一例）を任意のＸ−Ｙ方向に移動させる構成（図示せず）を採用することができる。また、カメラ４および基板保持機構２の双方（「第２の移動体」のさらに他の一例）をＸ−Ｙ方向に移動させる構成（図示せず）や、レーザ変位計５および基板保持機構２の双方（「第１の移動体」のさらに他の一例）をＸ−Ｙ方向に移動させる構成（図示せず）を採用することもできる。
【００６４】
加えて、上下動機構６ａ，６ｂによって検査用プローブ７ａ，７ｂを上下動させて検査対象基板を電気的に検査する構成の基板検査装置１を例に挙げて説明したが、「基板検査装置」の構成は、これに限定されず、上下動機構６ａ，６ｂや検査用プローブ７ａ，７ｂ等を備えることなく、カメラ４によって検査対象基板を撮像してその撮像情報Ｄ１を画像解析処理することで検査対象基板の良否を検査する構成の基板検査装置や、従来の反り検査装置のように、レーザ変位計によって検査対象基板の各部の高さ等を測定して検査対象基板の良否を検査する構成の基板検査装置においても、上記のオフセット量測定処理を好適に実施することができる。
【符号の説明】
【００６５】
１ 基板検査装置
２ 基板保持機構
３ａ，３ｂ Ｘ−Ｙ移動機構
４ カメラ
５ レーザ変位計
９ 制御部
１０ 記憶部
２０，２０Ａ オフセット量取得用基板
２１，２１ａ ビーム照射位置検出用マーク
Ｄ０ 基準位置情報
Ｄ１ 撮像情報
Ｄ２ 反射光量情報
Ｄ３ 測定結果情報
ＤＯａ，ＤＯｂ オフセット量情報
Ｍａ，Ｍｂ，Ｏａ，Ｏｂ 中心位置
Ｍｘ１，Ｍｘ２，Ｍｙ１，Ｍｙ２ 端部位置
Ｓ１〜Ｓ６ 制御信号Ｓ１〜Ｓ６
Ｘａ，Ｘｂ，Ｙａ，Ｙｂ 位置ずれ量
【特許請求の範囲】
【請求項１】
検査対象基板を保持する基板保持機構と、前記検査対象基板に向けてレーザービームを照射するビーム照射部と、前記基板保持機構および前記ビーム照射部の少なくとも一方を第１の移動体として任意のＸ−Ｙ方向に移動させる移動機構と、前記ビーム照射部によって前記レーザービームを照射すべき照射位置を特定可能な照射位置情報を記憶する記憶部と、前記検査対象基板の検査処理時に前記移動機構を制御して前記照射位置情報に基づいて特定される前記ビーム照射位置上に前記ビーム照射部を位置させるように前記第１の移動体を移動させると共に当該ビーム照射部を制御して前記レーザービームを照射させる制御部とを備え、当該制御部が、前記基板保持機構によって保持されたオフセット量取得用基板を対象として、前記第１の移動体を前記検査処理時に前記移動機構によって移動させる際の前記Ｘ方向に沿った移動量および前記Ｙ方向に沿った移動量をそれぞれ補正するためのオフセット量を取得するオフセット量取得処理を実行可能に構成され、
前記オフセット量取得用基板には、前記基板保持機構によって保持された状態において前記Ｙ方向と平行になる直線状の第１の辺および前記Ｘ方向と平行になる直線状の第２の辺を有すると共に前記レーザービームの反射光量が周囲とは相違するビーム照射位置検出用マークが形成され、
前記記憶部は、前記オフセット量取得用基板が前記基板保持機構によって保持された状態において前記ビーム照射位置検出用マークに対応して予め規定された基準点が位置すべき第１の位置を特定可能な第１の位置情報と、前記基準点に対する前記第１の辺の位置および前記第２の辺の位置をそれぞれ特定可能な第２の位置情報とを記憶し、
前記制御部は、前記オフセット量取得処理において、前記第１の位置情報および前記第２の位置情報の予め規定された一方の位置情報に基づいて特定される第１のビーム照射開始位置上に前記ビーム照射部が位置するように前記第１の移動体を前記移動機構によって移動させた後に当該第１の移動体を当該移動機構によって前記Ｘ方向に移動させながら当該ビーム照射部を制御して前記レーザービームを照射させたときの当該レーザービームの反射光量の変化に基づいて前記第１の辺の位置を取得し、かつ、前記予め規定された一方の位置情報に基づいて特定される第２のビーム照射開始位置上に前記ビーム照射部が位置するように前記第１の移動体を前記移動機構によって移動させた後に当該第１の移動体を当該移動機構によって前記Ｙ方向に移動させながら当該ビーム照射部を制御して前記レーザービームを照射させたときの当該レーザービームの反射光量の変化に基づいて前記第２の辺の位置を取得すると共に、取得した前記第１の辺の位置および前記第２の辺の位置と、前記第２の位置情報とに基づいて前記基板保持機構によって保持されている状態の前記オフセット量取得用基板における前記基準点の第２の位置を特定し、特定した当該第２の位置と前記第１の位置との前記Ｘ方向に沿った第１の位置ずれ量を、前記第１の移動体の当該Ｘ方向に沿った移動量を補正するためのオフセット量とし、かつ、当該第２の位置と当該第１の位置との前記Ｙ方向に沿った第２の位置ずれ量を、当該第１の移動体の当該Ｙ方向に沿った移動量を補正するためのオフセット量として特定する基板検査装置。
【請求項２】
前記オフセット量取得用基板には、前記ビーム照射位置検出用マークとして、互いに平行な一対の前記第１の辺および互いに平行な一対の前記第２の辺を有する平行四辺形状のマークが形成され、
前記記憶部は、前記第２の位置情報として、前記一対の第１の辺の位置および前記一対の第２の辺の位置をそれぞれ特定可能な情報を記憶し、
前記制御部は、前記オフセット量取得処理において、前記一対の第１の辺の位置および前記一対の第２の辺の位置をそれぞれ取得し、取得した当該各辺の位置と前記第２の位置情報とに基づいて前記第２の位置を特定する請求項１記載の基板検査装置。
【請求項３】
前記検査対象基板を撮像して撮像情報を出力するカメラを備え、
前記移動機構は、前記基板保持機構および前記カメラの少なくとも一方を第２の移動体として前記任意のＸ−Ｙ方向に移動可能に構成され、
前記オフセット量取得用基板には、前記基板保持機構によって保持された当該オフセット量取得用基板の前記Ｘ方向に沿った第３の位置ずれ量および前記Ｙ方向に沿った第４の位置ずれ量を特定するための位置ずれ量特定用マークが形成され、
前記記憶部は、前記オフセット量取得用基板が前記基板保持機構によって正常に保持された状態において前記位置ずれ量特定用マークが位置すべき第３の位置を特定可能な第３の位置情報を記憶し、
前記制御部は、前記オフセット量取得処理において、前記第３の位置情報に基づいて特定される前記位置ずれ量特定用マークの形成位置上に前記カメラが位置するように前記第２の移動体を前記移動機構によって移動させた後に当該カメラを制御して当該位置ずれ量特定用マークを撮像させると共に、当該カメラから出力された前記撮像情報を画像解析処理して、当該画像解析処理の結果と前記第３の位置情報とに基づいて前記第３の位置ずれ量および前記第４の位置ずれ量を特定し、特定した当該第３の位置ずれ量および当該第４の位置ずれ量に応じて、前記第１のビーム照射開始位置上に前記ビーム照射部が位置するように前記第１の移動体を移動させる際の移動量、および前記第２のビーム照射開始位置上に当該ビーム照射部が位置するように当該第１の移動体を移動させる際の移動量をそれぞれ補正する請求項１または２記載の基板検査装置。
【請求項４】
前記検査対象基板を撮像して撮像情報を出力するカメラを備え、
前記移動機構は、前記基板保持機構および前記カメラの少なくとも一方を第２の移動体として前記任意のＸ−Ｙ方向に移動可能に構成され、
前記オフセット量取得用基板には、前記基板保持機構によって保持された当該オフセット量取得用基板の前記Ｘ方向に沿った第３の位置ずれ量および前記Ｙ方向に沿った第４の位置ずれ量を特定するための位置ずれ量特定用マークが形成され、
前記記憶部は、前記オフセット量取得用基板が前記基板保持機構によって正常に保持された状態において前記位置ずれ量特定用マークが位置すべき第３の位置を特定可能な第３の位置情報を記憶し、
前記制御部は、前記オフセット量取得処理において、前記第３の位置情報に基づいて特定される前記位置ずれ量特定用マークの形成位置上に前記カメラが位置するように前記第２の移動体を前記移動機構によって移動させた後に当該カメラを制御して当該位置ずれ量特定用マークを撮像させると共に、当該カメラから出力された前記撮像情報を画像解析処理して、当該画像解析処理の結果と前記第３の位置情報とに基づいて前記第３の位置ずれ量および前記第４の位置ずれ量を特定し、特定した当該第３の位置ずれ量および当該第４の位置ずれ量を前記第１の位置ずれ量および前記第２の位置ずれ量にそれぞれ加算して前記オフセット量を特定する請求項１または２記載の基板検査装置。
【請求項５】
前記制御部は、前記オフセット量取得処理において、前記ビーム照射位置検出用マークを前記位置ずれ量特定用マークとして使用して前記第３の位置ずれ量および前記第４の位置ずれ量を特定する請求項３または４記載の基板検査装置。
【請求項６】
前記制御部は、前記オフセット量取得処理において、前記第１の位置情報に基づいて特定される前記基準点を前記第１のビーム照射開始位置および前記第２のビーム照射開始位置として前記第１の辺の位置および前記第２の辺の位置を取得する請求項１から５のいずれかに記載の基板検査装置。
【請求項１】
検査対象基板を保持する基板保持機構と、前記検査対象基板に向けてレーザービームを照射するビーム照射部と、前記基板保持機構および前記ビーム照射部の少なくとも一方を第１の移動体として任意のＸ−Ｙ方向に移動させる移動機構と、前記ビーム照射部によって前記レーザービームを照射すべき照射位置を特定可能な照射位置情報を記憶する記憶部と、前記検査対象基板の検査処理時に前記移動機構を制御して前記照射位置情報に基づいて特定される前記ビーム照射位置上に前記ビーム照射部を位置させるように前記第１の移動体を移動させると共に当該ビーム照射部を制御して前記レーザービームを照射させる制御部とを備え、当該制御部が、前記基板保持機構によって保持されたオフセット量取得用基板を対象として、前記第１の移動体を前記検査処理時に前記移動機構によって移動させる際の前記Ｘ方向に沿った移動量および前記Ｙ方向に沿った移動量をそれぞれ補正するためのオフセット量を取得するオフセット量取得処理を実行可能に構成され、
前記オフセット量取得用基板には、前記基板保持機構によって保持された状態において前記Ｙ方向と平行になる直線状の第１の辺および前記Ｘ方向と平行になる直線状の第２の辺を有すると共に前記レーザービームの反射光量が周囲とは相違するビーム照射位置検出用マークが形成され、
前記記憶部は、前記オフセット量取得用基板が前記基板保持機構によって保持された状態において前記ビーム照射位置検出用マークに対応して予め規定された基準点が位置すべき第１の位置を特定可能な第１の位置情報と、前記基準点に対する前記第１の辺の位置および前記第２の辺の位置をそれぞれ特定可能な第２の位置情報とを記憶し、
前記制御部は、前記オフセット量取得処理において、前記第１の位置情報および前記第２の位置情報の予め規定された一方の位置情報に基づいて特定される第１のビーム照射開始位置上に前記ビーム照射部が位置するように前記第１の移動体を前記移動機構によって移動させた後に当該第１の移動体を当該移動機構によって前記Ｘ方向に移動させながら当該ビーム照射部を制御して前記レーザービームを照射させたときの当該レーザービームの反射光量の変化に基づいて前記第１の辺の位置を取得し、かつ、前記予め規定された一方の位置情報に基づいて特定される第２のビーム照射開始位置上に前記ビーム照射部が位置するように前記第１の移動体を前記移動機構によって移動させた後に当該第１の移動体を当該移動機構によって前記Ｙ方向に移動させながら当該ビーム照射部を制御して前記レーザービームを照射させたときの当該レーザービームの反射光量の変化に基づいて前記第２の辺の位置を取得すると共に、取得した前記第１の辺の位置および前記第２の辺の位置と、前記第２の位置情報とに基づいて前記基板保持機構によって保持されている状態の前記オフセット量取得用基板における前記基準点の第２の位置を特定し、特定した当該第２の位置と前記第１の位置との前記Ｘ方向に沿った第１の位置ずれ量を、前記第１の移動体の当該Ｘ方向に沿った移動量を補正するためのオフセット量とし、かつ、当該第２の位置と当該第１の位置との前記Ｙ方向に沿った第２の位置ずれ量を、当該第１の移動体の当該Ｙ方向に沿った移動量を補正するためのオフセット量として特定する基板検査装置。
【請求項２】
前記オフセット量取得用基板には、前記ビーム照射位置検出用マークとして、互いに平行な一対の前記第１の辺および互いに平行な一対の前記第２の辺を有する平行四辺形状のマークが形成され、
前記記憶部は、前記第２の位置情報として、前記一対の第１の辺の位置および前記一対の第２の辺の位置をそれぞれ特定可能な情報を記憶し、
前記制御部は、前記オフセット量取得処理において、前記一対の第１の辺の位置および前記一対の第２の辺の位置をそれぞれ取得し、取得した当該各辺の位置と前記第２の位置情報とに基づいて前記第２の位置を特定する請求項１記載の基板検査装置。
【請求項３】
前記検査対象基板を撮像して撮像情報を出力するカメラを備え、
前記移動機構は、前記基板保持機構および前記カメラの少なくとも一方を第２の移動体として前記任意のＸ−Ｙ方向に移動可能に構成され、
前記オフセット量取得用基板には、前記基板保持機構によって保持された当該オフセット量取得用基板の前記Ｘ方向に沿った第３の位置ずれ量および前記Ｙ方向に沿った第４の位置ずれ量を特定するための位置ずれ量特定用マークが形成され、
前記記憶部は、前記オフセット量取得用基板が前記基板保持機構によって正常に保持された状態において前記位置ずれ量特定用マークが位置すべき第３の位置を特定可能な第３の位置情報を記憶し、
前記制御部は、前記オフセット量取得処理において、前記第３の位置情報に基づいて特定される前記位置ずれ量特定用マークの形成位置上に前記カメラが位置するように前記第２の移動体を前記移動機構によって移動させた後に当該カメラを制御して当該位置ずれ量特定用マークを撮像させると共に、当該カメラから出力された前記撮像情報を画像解析処理して、当該画像解析処理の結果と前記第３の位置情報とに基づいて前記第３の位置ずれ量および前記第４の位置ずれ量を特定し、特定した当該第３の位置ずれ量および当該第４の位置ずれ量に応じて、前記第１のビーム照射開始位置上に前記ビーム照射部が位置するように前記第１の移動体を移動させる際の移動量、および前記第２のビーム照射開始位置上に当該ビーム照射部が位置するように当該第１の移動体を移動させる際の移動量をそれぞれ補正する請求項１または２記載の基板検査装置。
【請求項４】
前記検査対象基板を撮像して撮像情報を出力するカメラを備え、
前記移動機構は、前記基板保持機構および前記カメラの少なくとも一方を第２の移動体として前記任意のＸ−Ｙ方向に移動可能に構成され、
前記オフセット量取得用基板には、前記基板保持機構によって保持された当該オフセット量取得用基板の前記Ｘ方向に沿った第３の位置ずれ量および前記Ｙ方向に沿った第４の位置ずれ量を特定するための位置ずれ量特定用マークが形成され、
前記記憶部は、前記オフセット量取得用基板が前記基板保持機構によって正常に保持された状態において前記位置ずれ量特定用マークが位置すべき第３の位置を特定可能な第３の位置情報を記憶し、
前記制御部は、前記オフセット量取得処理において、前記第３の位置情報に基づいて特定される前記位置ずれ量特定用マークの形成位置上に前記カメラが位置するように前記第２の移動体を前記移動機構によって移動させた後に当該カメラを制御して当該位置ずれ量特定用マークを撮像させると共に、当該カメラから出力された前記撮像情報を画像解析処理して、当該画像解析処理の結果と前記第３の位置情報とに基づいて前記第３の位置ずれ量および前記第４の位置ずれ量を特定し、特定した当該第３の位置ずれ量および当該第４の位置ずれ量を前記第１の位置ずれ量および前記第２の位置ずれ量にそれぞれ加算して前記オフセット量を特定する請求項１または２記載の基板検査装置。
【請求項５】
前記制御部は、前記オフセット量取得処理において、前記ビーム照射位置検出用マークを前記位置ずれ量特定用マークとして使用して前記第３の位置ずれ量および前記第４の位置ずれ量を特定する請求項３または４記載の基板検査装置。
【請求項６】
前記制御部は、前記オフセット量取得処理において、前記第１の位置情報に基づいて特定される前記基準点を前記第１のビーム照射開始位置および前記第２のビーム照射開始位置として前記第１の辺の位置および前記第２の辺の位置を取得する請求項１から５のいずれかに記載の基板検査装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【公開番号】特開２０１１−２５７２７１（Ｐ２０１１−２５７２７１Ａ）
【公開日】平成２３年１２月２２日（２０１１．１２．２２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１３２１４２（Ｐ２０１０−１３２１４２）
【出願日】平成２２年６月９日（２０１０．６．９）
【出願人】（０００２２７１８０）日置電機株式会社 (982)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１２月２２日（２０１１．１２．２２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年６月９日（２０１０．６．９）
【出願人】（０００２２７１８０）日置電機株式会社 (982)
【Ｆターム（参考）】
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