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Fターム[2F065FF41]の内容

光学的手段による測長装置 (194,290) | 測定方法 (22,691) | 反射、散乱光の分布 (3,485)

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方向 (825)

Fターム[2F065FF41]に分類される特許

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【課題】特異な輝度を持つ画素に影響されない重心位置算出を行い、変位測定の精度を向上する変位測定方法および変位測定装置を得る。
【解決手段】計測対象1にスリット光3を照射するスリット光照射装置2と、スリット光3を計測対象1に照射することによって生成される光切断線4を撮影するカメラ5と、カメラ5により得られた光切断線像から計測対象1の変位を求める画像処理装置7と、を備え、画像処理装置7は、カメラ5により得られた光切断線像の重心位置演算方向の各画素の輝度を最小二乗法で理想的な輝度分布に近似させた後、さらに輝度値と近似値の差分を用いて重み付き最小二乗法で理想的な輝度分布に再近似させ、その分布の期待値から光切断線像の重心位置を算出して計測対象1の変位を求める。 (もっと読む)


【課題】1本の伝送路で複数本の光ファイバを使用する状況においても、光スイッチを用いることなく、複数本の光ファイバのFBGセンサを計測可能なFBGセンサの多点計測方法および装置を提供する。
【解決手段】FBGセンサの多点計測装置において、コアに回折格子を形成した光ファイバ4と、広帯域波長光源9と、この光源からの光のうち、光ファイバ4に入射する光の時間を制御する光源側光変調器10と、この光変調器からの出射光を入射して、光ファイバ4の回折格子からの反射光を透過する時間を制御する検出側光変調器12と、この光変調器からの反射光を検出して得られた信号を処理して光ファイバ4からの信号を分離する波長移動量算出器14と、この算出器の結果から被測定物の変形量を算出する温度・歪み算出器15と、この被測定物の変形量に関する情報を表示する表示部16とを有する。 (もっと読む)


【課題】下水圧送管路内に走行させて堆積物等を除去する洗浄用ピグの走行位置を検出する場合、管路途中でピグが停止した場合は、その位置を正確に検出することが出来なかった。
【解決手段】下水圧送管路1の内壁面に、管路内を走行する洗浄用ピグ7が接触するようにセンサ用光ファイバ2を配設し、光学式温度センサ本体3からセンサ用光ファイバ2にパルス光を入射させ、センサ用光ファイバから出射される後方散乱光を測定系に導いてセンサ用光ファイバの長手方向の温度を測定し、ディスプレイ装置5に測定した温度情報を監視画面6として表示する。走行する洗浄用ピグ7がセンサ用光ファイバ2に接触して生じる摩擦により発生した熱の温度を光学式温度センサ本体で測定することにより、洗浄用ピグ7の走行位置を監視する。 (もっと読む)


【課題】複雑で時間のかかるキャリブレーションを必要とせずに、高精度の路面の縦断プロファイルを作成できる移動式の三次元レーザ計測システムを提供する。
【解決手段】本発明の計測システムでは、以下の3段階のステップで路面の縦断プロファイルを作成する。最初に、計測車2に搭載されたレーザスキャナ21を用いて、走行しながら道路の路面の平面位置と高さを計測して第1の三次元点群データG1を取得する。次に、第1の三次元点群データG1を、計測車2に搭載されたGPS受信機22および慣性計測装置23を用いて取得したデータに基づいて修正して、地理座標系で表示された第2の三次元点群データG2を作成する。最後に、第2の三次元点群データG2から計測車2のいずれかのタイヤの軌跡に対応する第3の三次元点群データG3を切り出し、この第3の三次元点群データG3に基づいて、路面の縦断プロファイルを作成する。 (もっと読む)


【課題】基板表面の高さレベルを決定する際のより多くの融通性及び/又は効率的レベルセンサ技術を提供する。
【解決手段】基板W表面の高さレベルを決定するように構成されたレベルセンサであって、基板W上の反射後に測定ビームを受光するように配置された検出ユニットを備え、検出ユニットは、各検出素子が測定エリア81、82、83、84の測定サブエリア8a上に反射した測定ビームの一部を受光するように配置された検出素子のアレイを備え、それぞれの検出素子によって受光された測定ビームの部分に基づいて測定信号を提供するように構成され、処理ユニットは、測定サブエリア8aでの選択された解像度に応じて、測定サブエリア8aの高さレベルを計算し、又は複数の測定サブエリア8aの組合せの高さレベルを計算するように構成された、レベルセンサを提供する。 (もっと読む)


【課題】 発光ダイオードを多数配列した面照明を使用した場合であっても、LEDの全点灯までの時間遅れの影響を受けることなく、検査時の照明光量を一定に保ちつつ、短時間で検査を行うことができる、膜厚むらの検出装置並びに当該装置を具備した塗布装置を提供する。
【解決手段】 基板上に形成された皮膜の膜厚むらを検出する装置で、
基板保持部と、光源部と、撮像部と、制御部と、検査部とを備え、
光源部は複数の発光ダイオードを配置して構成された面照明であり、
制御部は、発光指令信号を出力してから複数の発光ダイオードが全点灯状態になるまでの点灯遅れ時間を登録する点灯遅れ時間登録部と、発光指令信号を入力してから登録された点灯遅れ時間経過後に、撮像部に対して撮像指令信号の出力を行う撮像ディレイタイマ部とを備えたことを特徴とする、膜厚むら検出装置。 (もっと読む)


【課題】電子部品の電極の導電性積層膜の膜厚を安価な装置で高速に測定する。
【解決手段】絶縁膜1上に上下に積層された導電層2,3(積層膜、例えばNi層およびその上のAu層)からなる半導体基板の電極に対して、段差を触針で測る場合やレーザ光を用いる場合など公知の方法で導電層2,3の厚さ(電極高さ)を測定するステップと、4端針法により電極の表面抵抗を測定するステップとを有し、二つのステップから得られた積層膜の膜厚(電極高さ)と表面抵抗値から、上下に積層した導電層2,3からなる電極の上部皮膜である導電層3の膜厚を計算式から算出する。 (もっと読む)


【課題】回折格子を用いて計測を行う際に、相対位置を予め定められた相対位置からの絶対位置として容易に計測する。
【解決手段】エンコーダ10Xは、第1部材6に設けられ、格子パターン12Xa及び基準パターン13XAが形成された回折格子12Xと、計測光MX1,MX2を供給するレーザ光源16と、第2部材7に設けられ、計測光MX1,MX2を格子パターン面12Xbにθy方向(X方向)に対称な角度で傾斜させて入射させる傾斜ミラー32X,34Xと、計測光MX1,MX2の回折格子12Xによる回折光DX2,EX2を受光する光電センサ40XA,40XBと、を有する。 (もっと読む)


【課題】暗視野方式の検査装置などにおいて、信号を実測しながら検査条件を決める方法では時間がかかることと、設定した感度条件が適切か否かの判断が作業者の裁量に左右されることが課題である。
【解決手段】検査装置において、試料を保持するステージと、前記ステージ上に保持された試料の表面に照明光を照射する照明光学系と、前記試料に照射された照射光によって発生した散乱光を検出する暗視野光学系と、前記暗視野光学系にて検出された散乱光を電気信号に変換する光電変換部と、前記光電変換部によって変換された電気信号をデジタル信号に変化するAD変換部と、前記試料表面上の異物からの散乱光の大きさから異物の大きさを判定する判定部と、前記試料面からの散乱光情報を用いて、検査条件を決定する信号処理部とを有する。 (もっと読む)


【課題】空気によって少なくとも部分的に吸収される光を使用するよう設計され、かつ、より能率的なパージングシステムを有する、光学ツールのための方法を開発する。
【解決手段】試験体の測定のための方法において、該試験体の反射率測定データおよび分光偏光解析データを測定する工程と、該反射率測定データから、該試験体上に形成された窒化酸化物ゲート誘電体の厚さを判定する工程と、該厚さおよび該分光偏光解析データから、窒化酸化物ゲート誘電体の屈折率を判定する工程と、該屈折率から、該窒化酸化物ゲート誘電体の窒素濃度を判定する工程と、を含む。 (もっと読む)


【課題】露光前に基板の裏面洗浄を行う機能を備えた基板処理システムにおいて、基板処理の歩留まりを向上させる。
【解決手段】露光装置で露光処理を行う前に、露光装置における基板のフォーカスの状態を検査する検査ユニット100であって、ウェハWを、露光装置で露光処理される際と同じ条件で裏面から吸着保持するウェハ保持台141と、ウェハ保持台141に吸着保持されたウェハWにおける厚み方向の高さを測定する高さ測定機構150と、を有している。 (もっと読む)


【課題】補正用治具の交換なしに形状測定装置の組み付け誤差をX方向、Y方向、θ方向のすべてについて補正できるようにする。
【解決手段】ワーク支持部1と、これに支持されたワークの外周縁にレーザ光を照射し、そこからの反射光を受光して測定データを出力するレーザ変位計2と、ワーク支持部1をX方向に直線移動させるX方向移動部4と、ワーク支持部1をY方向に直線移動させるY方向移動部5と、ワークをθ方向に回転移動させるθ方向移動部6と、を備える形状測定装置の組み付け誤差を補正する場合に、X方向およびY方向の組み付け誤差を補正するための円弧状の外周縁と、θ方向の組み付け誤差を補正するための直線状の外周縁を有する補正用治具を用いる。 (もっと読む)


【課題】樹脂製保持器に対して高精度に欠陥等を検出することができる樹脂製保持器の欠陥検査装置及び欠陥検査方法を提供する。
【解決手段】転動体7が保持されるポケット8を周方向に沿って複数個有する樹脂製保持器1の欠陥を検査する。樹脂製保持器1をその軸心廻りに回転駆動させつつ、樹脂製保持器1のアキシャル方向及び/又はラジアル方向の変位を検出し、この変位量に基づいて良品判定を行う。 (もっと読む)


【課題】雲の含水率を決定する方法を提供する。
【解決手段】雲の含水率は、雲の水滴サイズ分布から導出される。雲の水滴のサイズ分布を決定する方法は、雲の深さを電磁放射ビームによりサンプリングすることと、雲から戻った電磁放射のエコー強度を検出器により測定することと、測定エコー強度から測定光減衰係数を決定することと、測定エコー強度から測定後方散乱係数を決定することと、測定光減衰係数及び測定後方散乱係数からライダー比を決定することと、ライダー比から水滴の形状パラメータ(μ)及びメジアン体積径(DMVD)を含む値ペアを決定することと、値ペア(μ,DMVD)を使用して水滴のサイズ分布を決定することとを含む。 (もっと読む)


【課題】波長が13.5nm付近の極端紫外(Extreme Ultra Violet:EUV)光を露光光源とする反射型マスクの欠陥修正技術を利用した半導体集積回路装置の製造技術を提供する。
【解決手段】位相欠陥211が生じている開口パターン204の近傍の吸収層203に、開口パターン204よりも微細な開口径を有する補助パターン301を形成する。この補助パターン301は、ウエハ上のフォトレジスト膜に開口パターン204を転写する際の露光光量を調整するためのパターンである。 (もっと読む)


【課題】基板とマスクとの隙間を高精度に制御することのできる有機ELデバイス製造装置を提供する。
【解決手段】真空処理室内に設けられたシャドウマスクと、基板を載置する基板ホルダーと、基板とシャドウマスクとの間を、接近させ又は離間させる基板密着手段と、基板ホルダーの四隅に設けられた距離計測機構とを備え、距離計測機構は、基板ホルダーを貫通するように設けられた距離計測用空間と、基板ホルダーの表面上に設けられた透明ガラス板と、距離計測用空間に配置された距離計測部とを備え、距離計測部は、光を発射し反射光を受光して距離を計測する距離計と、距離計を真空処理室内の雰囲気から隔離する距離計筐体と、距離計筐体の一部に設けられた透明ガラス窓とを備え、距離計が、透明ガラス窓を介して透明ガラス板とシャドウマスクとの間の距離を計測するよう、有機ELデバイス製造装置を構成する。 (もっと読む)


【課題】管の内面曲がりを定量的に測定できるとともに、様々な内径の鋼管に対応できる管の内面曲がり測定装置およびそれを用いた測定方法を提供する。
【解決手段】被測定材である管の長手方向に移動可能なヘッド21と、ヘッド21によって管10の周方向に揺動可能に支持され、管10の内面までの距離を測定する第1距離計22と、管10の長手方向におけるヘッド21の位置を測定する第2距離計(図示なし)と、ヘッド21の移動および第1距離計22の揺動を制御する制御手段とを備えることを特徴とする管の内面曲がり測定装置20である。本発明では、内面曲がり測定装置20が管10の長手方向に垂直な面におけるヘッド21の変位を測定する変位計を備え、ヘッド21を、管10を長手方向を水平にした状態で該管の内面上を走行する走行機構、および、第1距離計22の揺動軸を水平に維持する維持機構を有する走行装置に設けるのが好ましい。 (もっと読む)


【課題】ウェハエッジ部の幅広い位置変化にも追従することができる光学式検査装置及びエッジ検査装置を提供する。
【解決手段】ウェハ100の表面の欠陥を検査する表面検査装置300と、この表面検査装置300に対するウェハ100の搬送路に設けたウェハステージ210と、このウェハステージ210上のウェハ100のエッジ部を検査するエッジ検査部530と、このエッジ検査部530を当該エッジ検査部530の光軸に沿って移動させる移動装置650とを備えたことを特徴とする。 (もっと読む)


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