【課題】本発明は、コーピングの検査方法および、それを用いたコーピングの製造方法に関するもので、支台歯模型に、さらに適切に嵌合するコーピングを作ることを目的とするものである。
【解決手段】そしてこの目的を達成するために本発明は、下面が開口した筒状のコーピング２内面に、粘性を持った溶融状態の熱硬化性樹脂３を塗布し、つぎに、前記コーピング２を、その開口した下面より、擬似的に形成した支台歯模型１に被せ、その後、加熱し、次に冷却し、その後、前記支台歯模型１表面に付着した熱硬化性樹脂３から、前記コーピング２を取り外し、つぎに、前記支台歯模型１上に付着した熱硬化性樹脂２の厚みを立体的に測定し、検査することとした。 （もっと読む）

本発明は、土木構造物のための可撓性ストリップ（１）に関し、この可撓性ストリップは、縦軸に沿って縦方向に延びることができ、構造物が変形および／または温度に関して位置を特定し測定値を得ることを可能にする少なくとも１つの光ファイバ（２０）を備え、前記光ファイバ（２０）が、実質的に縦軸に沿って配置されるとともに、実質的に縦軸に沿って少なくとも部分的に強化された連続強化繊維（３０）の熱可塑性ポリマーマトリックスによって取り囲まれ、実質的に縦軸に沿って延びる連続強化繊維の質量ＷＣＦが、光ファイバの質量ＷＯＦの１０倍以上である。本発明はまた、計測デバイスおよび関連する方法に関する。
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【課題】偏光膜を有する多層構成の積層体に含まれる被膜の膜厚を、光干渉法によって高精度に測定するための手段を提供する。
【解決手段】複数の被膜を有する多層構成の積層体に含まれる被膜の膜厚測定方法。前記積層体に測定光を照射し、該積層体から反射された反射光を受光することにより反射スペクトルを求める反射スペクトル測定工程と、求められた反射スペクトルに基づき測定対象被膜の膜厚を求める膜厚算出工程と、を含み、前記積層体は、複数の被膜中の一つとして偏光膜を含み、前記反射スペクトル測定工程において、前記測定光を照射する出射口部および／または前記反射光を受光する受光部と、前記積層体との間に偏光素子を配置し、かつ、上記偏光素子を、前記求められる反射スペクトルの振幅が、偏光素子を配置しない状態で得られる反射スペクトルの振幅から変化するように配置する。 （もっと読む）

【課題】多層膜に光を照射して、その反射光のパワースペクトルのピーク位置から多層膜を構成する層の膜厚を算出する膜厚測定装置では、膜厚が同程度の層が複数あると、ピークが重なって層を同定できないという課題があった。本発明は、膜厚が同程度の層が複数あっても各層の膜厚を測定できる多層膜の膜厚測定方法及び装置を提供することを目的にする。
【解決手段】膜厚を測定する多層膜と一定距離離隔して光を反射するミラー板を設け、各層の境界およびミラー板で反射された反射光から膜厚を算出するようにした。多層膜とミラー板の距離を多層膜の厚さより厚くすることにより、ミラー板で反射されたピークと反射されないピークが分離でき、正確に膜厚を測定できる。 （もっと読む）

干渉計（１６）（干渉計システム（１１８））の出力信号（Ｆ_ＩＹ）とエンコーダ（７０Ａ)（エンコーダシステム(１５０)）の出力信号(Ｆ_ＥＹ)とをそれぞれハイパスフィルタ(Ｈ_ｆｃ)とローパスフィルタ(Ｌ_ｆｃ)とを通して合成して得られるハイブリッド信号(Ｆ_ＨＹ)を用いてステージを駆動（位置制御）する。カットオフ周波数(ｆｃ)は、走査露光時におけるステージの速度より僅かに小さい速度に対応する周波数に定められる。これにより、走査露光時には線形計測性の高い干渉計を、ステッピング時には計測再現性の高いエンコーダを、それぞれ用いてステージが駆動される。
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【課題】２次元の光切断法において隙間の間隔および段差を、エッジの形状に関係なく、高精度に算出することが可能な２次元光切断法による隙間および段差の測定装置を実現する。
【解決手段】ユーザが間隔寸法、段差寸法を求めたい対向面中のレーザ輝線をモニタ１７の画面２０に指定する。間隔寸法、段差寸法共に、ＣＰＵ１４は、指定された範囲内でレーザ輝線の位置をサブピクセル精度で抽出し、間隔寸法を測定する場合は、対向する面上のそれぞれのレーザ輝線の直線方程式を計算し、両直線の互いの間隔を算出する。また、ＣＰＵ１４は段差寸法を測定する場合は、段差を形成する２つの面上のそれぞれのレーザ輝線の直線方程式を計算し、両直線の互いの間隔を算出する。そして、算出された間隔寸法、段差寸法を、モニタ１７に表示させる。 （もっと読む）

【課題】 正確かつ簡単にディストーションを求めることができ、正確な面形状を測定することができる面形状計測装置を提供すること。
【解決手段】 光源からの光を測定光と参照光とに分割し、被測定面で反射した測定光と参照光とが干渉することで形成される干渉縞に基づいて、被測定面の形状を測定する面形状測定装置は、干渉縞を撮像する第１の撮像素子と、測定光および参照光を第１の撮像素子に導く光学系と、光学系を経由していない光源からの光の光量分布を測定する第２の撮像素子と、第１の撮像素子で撮像した干渉縞に基づいて被測定面の形状を算出する算出手段とを備える。まず、光学系を経由した光源からの光の光量分布を、第１の撮像素子で測定する。そして、第１の撮像素子で測定した光量分布と第２の撮像素子で測定した光量分布とに基づいて、算出手段で算出される被測定面の形状を補正する。 （もっと読む）

【課題】マークの位置を容易に計測できる検出器を提供する。
【解決手段】マーク６、７ｂの位置を検出する検出器５は、撮像素子と、前記マーク６、７ｂを前記撮像素子の撮像面に投影する光学系と、前記光学系を構成する光学素子の中で前記マーク６、７ｂが配置されるべき配置面に対して最も近くに配置された光学素子と前記撮像面との間であって前記配置面と光学的に共役な位置に配置されたパターンと、前記マーク６、７ｂ及び前記パターンによって前記撮像面に形成されるモアレ模様に基づいて前記パターンの位置又は前記パターンの位置に対して既知の位置を基準とする前記マーク６、７ｂの位置を演算する処理部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】物体の表面の形状を測定する精度の点で有利な測定方法を提供する。
【解決手段】物体の表面の形状を測定する測定方法であって、他の領域と重なり合う領域を有する前記表面の複数の領域のそれぞれに対する表面測定によって前記複数の領域のそれぞれの形状のデータを得るステップと、得られた前記形状のデータに基づいて、前記重なり合う領域での形状の差が最小になるように、前記表面測定の誤差を求めるステップと、前記形状のデータと前記誤差とに基づいて、前記表面の形状を求めるステップと、を有し、前記形状のデータは、要求精度に基づいて決定された閾値を超える空間周波数を有する成分を含まないように得られる、ことを特徴とする測定方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】フリンジスキャン干渉縞計測方法および干渉計において、簡素な構成を用いて、容易かつ高精度な形状測定を迅速に行うことができるようにする。
【解決手段】位相増分Δφずつシフトして、ｎ個の干渉縞画像を取得して被測定面の形状を算出するフリンジスキャン干渉縞計測方法であって、位相増分Δφを細分する位相量でシフトして候補画像を取得する候補画像取得工程（ステップＳ１）と、各候補画像の同一位置における輝度変化を取得する輝度変化取得工程（ステップＳ２）と、この輝度変化を用いて位相変化を算出する位相変化算出工程（ステップＳ３）と、位相量が、Δφ・（ｋ−１）（ただし、ｋ＝１，…，ｎ）の近傍の複数の候補画像を補間演算用画像として選択する補間演算用画像選択工程（ステップＳ４）と、この補間演算用画像を用いて補間演算を行うことにより、前記ｎ個の干渉縞画像を取得する干渉縞画像算出工程（ステップＳ５）とを備える。 （もっと読む）

【課題】位相シフト法を用いる場合であっても被測定球面の形状を適切に測定することができるフィゾー型干渉計の提供。
【解決手段】フィゾー型干渉計１は、干渉計本体２と、測定装置３とを備える。干渉計本体２は、参照球面などで構成される光学系２２を備える。測定装置３は、強度取得部３１と、形状測定部３２とを備える。強度取得部３１は、参照球面の焦点と、被測定球面の焦点とを一致させたときの参照球面の位置を中央位置とし、この中央位置から等距離にある２つの位置を、それぞれ開始位置、及び終了位置としてｎ個の位置における干渉光の強度を等間隔で取得する。形状測定部３２は、ｉ個目の位置における干渉光の強度、及び（ｎ−ｉ＋１）個目の位置における干渉光の強度の係数を同一とする位相シフト法のアルゴリズムで被測定球面の形状を測定する。 （もっと読む）

【課題】少なくとも一つの測定方向で互いに可動自在で配置されている二つの対象物の、位置を検出するための位置測定装置を提供する。
【解決手段】位置測定装置には光源および、光源から送られた光線を二つ以上の分光光束に分割する分光手段を含んでいる。分光光束は、少なくとも二つの分光光路を通過する。分光光路からの干渉分光光束が、多数の光電式検知要素に当たるので、変位に従う位置信号を検知要素を介して検出することができる。光源は、ファイバ格子逆カップリング手段付き半導体レーザとして構成されている。 （もっと読む）

【課題】ゴースト光に起因した干渉計の測定制度の低下を抑制することができる干渉計を提供する。
【解決手段】干渉計は、光源と、前記光源から射出された光のうち第１偏光成分を参照光として反射し、第２偏光成分を測定光として透過する第１偏光ビームスプリッタと、前記光源と前記第１偏光ビームスプリッタとの間に配置された複屈折材料の素子と、前記第１偏光ビームスプリッタを透過し被検面である反射面で反射され前記第１偏光ビームスプリッタを透過した測定光と前記第１偏光ビームスプリッタで反射された参照光との干渉光を受光する受光素子と、を備える。前記参照光と前記測定光とは、前記第１偏光ビームスプリッタと前記受光素子との間で前記複屈折材料の素子を通過する。 （もっと読む）

【課題】チャックテーブルに保持された被加工物の上面位置を正確に計測することができる計測装置および計測装置を装備したレーザー加工機を提供する。
【解決手段】発光源６１からの光を第１の経路に導くとともに第１の経路を逆行する反射光を第２の経路に導く第１の光分岐手段６２と、コリメーションレンズ６３によって平行光に形成された光を第３の経路と第４の経路に分ける第２の光分岐手段６４と、第３の経路に配設され第３の経路に導かれた光をチャックテーブル３６に保持された被加工物Ｗに導く対物レンズ６５と、集光レンズ６６と、第４の経路に導かれた平行光を反射して第４の経路に反射光を逆行せしめる反射ミラー６７と、第２の経路に導かれた反射光を回折する回折格子６９と、回折格子６９によって回折した反射光の所定の波長域における光強度を検出するイメージセンサー７１とを具備している。 （もっと読む）

【課題】計測能力を向上すること。
【解決手段】所定の移動面内を移動する移動体の移動情報を検出する計測装置であって、ピッチが互いに等しくなるように配置された格子をそれぞれ有し、当該格子の位相が互いにずれるように移動体に設けられた複数の回折格子と、光源からの光を複数の回折格子のそれぞれに向けて射出すると共に、複数の回折格子のそれぞれにおいて得られた回折光を個別に干渉させる光学系と、光学系を介して得られた干渉光を検出し、検出結果に基づいて移動情報を検出する検出装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】物体の振動振幅を精度良く求める。
【解決手段】振動振幅計測装置は、物体１２にレーザ光を放射する半導体レーザ１と、発振波長が増加する期間と発振波長が減少する期間とが交互に存在するように半導体レーザ１を動作させるレーザドライバ４と、半導体レーザ１から放射されたレーザ光と物体１２からの戻り光との自己結合効果によって生じる干渉波形を含む電気信号を検出するフォトダイオード２および電流−電圧変換増幅部５と、電流−電圧変換増幅部５の出力信号に含まれる干渉波形を数える計数部７と、計数結果に基づいて物体１２の振動の最大速度を算出する振動最大速度算出部８と、計数結果に基づいて物体１２の振動周波数を算出する振動周波数算出部９と、振動最大速度と振動周波数とから物体１２の振動振幅を算出する振動振幅算出部１０とを備える。 （もっと読む）

【課題】検出結果の誤差を低減することが可能な干渉計システム、ステージ装置及び露光装置を提供すること。
【解決手段】移動体の位置情報を検出する干渉計システムであって、光を射出する光源と、光を分光して射出する分光装置と、移動体に設けられ、分光された光を反射させる移動鏡と、移動鏡を介した光を受光する受光装置と、光が分光装置から射出され移動鏡に入射し当該移動鏡で反射された後に分光装置へ向かう所定の光路を形成する第１光学系と、当該光路を進行した光が分光装置に入射せずに当該光路の進行方向とは逆向きに当該光路を進行するように光を導光する第２光学系と、第２光学系を進行する光のうち所定成分を前記受光装置に入射させ、所定成分以外の成分を光路に入射させないように当該光を分光する第２分光装置とを備える。 （もっと読む）

露光装置は、第1方向に延在するカ゛イト゛部材を有し、第1駆動装置の駆動により第1方向と略直交する第2方向に移動する第1移動体と、カ゛イト゛部材に沿って第1方向に独立して移動自在に設けられ、第1移動体の移動によりカ゛イト゛部材とともに第2方向に移動する一対の第2移動体(WCS)と、物体(W)を保持するとともに、一対の第2移動体により、少なくとも第1方向、前記第2方向を含むとともに光学系の直下の第1位置を含む二次元平面内で移動自在に支持される保持部材(WFS)と、一対の第2移動体に対して第2方向に沿って隣接して配置され、第1駆動装置の少なくとも一部を共用する第2駆動装置の駆動により、一対の第2移動体に支持された保持部材とともに第2方向側の端部で近接又は接触した状態を維持して第2方向に平行な方向に移動して、保持部材上の物体と光学系との間に液体が保持される第1の状態から、光学系との間で液体を保持する第2の状態に遷移させる液体保持部材(MST)と、を有する。
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【課題】レンズの球欠高さ測定方法および装置において、被検レンズのレンズ面を傷つけることなく球欠形状を測定することができるようにする。
【解決手段】レンズの球欠高さ測定方法であって、干渉計に対して、被検レンズ面を光軸に沿う方向に相対移動させて、干渉縞画像を観察することにより集光点が被検レンズ面の球心位置および面頂位置に一致する際の光軸に沿う方向における被検レンズ面の相対移動位置を取得し、この相対移動位置の間の距離を計測して被検レンズ面の曲率半径を測定する曲率半径測定工程Ｓ０と、集光点が被検レンズ面の球心位置に一致されたときの被検レンズ面の画像から被検レンズ面の球欠径を測定する球欠径測定工程Ｓ４と、曲率半径測定工程Ｓ０で測定された曲率半径と球欠径測定工程Ｓ４で測定された球欠径とを用いて被検レンズ面の球欠高さを算出する球欠高さ算出工程Ｓ５と、を備える。 （もっと読む）

【課題】干渉測定および非干渉測定の両方を通して物体表面の高さマップを定める装置を提供する。
【解決手段】本発明は、表面の高さマップを定める装置であって、表面が測定される物体の位置決め手段と、光源と、受けた光を電気信号に変換する光検出器と、光源からの光を表面に向け、表面からの光を光検出器に向ける第１の光学系と、第１の光学系と表面との間に配置されるビームスプリッタと、参照ミラーと、ビームスプリッタとミラーとの間に配置され、ビームスプリッタからの光をミラーに向けると共に、ミラーからの光をビームスプリッタに向ける第２の光学系と、走査手段と、光検出器からの信号を高さマップに変換するように構成された処理手段とを備え、ビームスプリッタが偏光ビームスプリッタであり、光源と第１の光学系との間に、制御可能な偏光コントローラが配置される、装置に関する。 （もっと読む）