【課題】非球面形状を高精度に測定する際に、被測定物保持機構と干渉光学系との相対的移動を高精度に行える機構を有する測定装置を提供する。
【解決手段】被測定物１０を被測定面軸Ｓの回りに回転させる被測定物回転機構７０および該回転機構を搭載し被測定面軸と直交または平行方向に直線移動させる第１スライド機構７を備える被測定物保持機構Ａと、測定光を照射して光干渉測定を行う干渉光学系２を保持し該光学系をその測定光軸Ｌと被測定面軸Ｓとのなす測定角度を変更可能に旋回させる光学系旋回機構８０および該旋回機構を搭載し第１スライド機構７の移動方向と直交方向に直線移動させる第２スライド機構８を備える干渉光学機構Ｂとを備え、測定角度を順次変更した毎に被測定物１０を回転させつつ光干渉測定を行う。 （もっと読む）

【課題】位置精度性能が向上した、改善されたリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】基準構造に対してある方向に移動可能である支持部と、第１の周波数範囲内で上記方向における基準構造に対する支持部の位置を表す第１測定信号を提供するように構成される第１位置測定システムと、第２の周波数範囲内で上記方向における基準構造に対する支持部の位置を表す第２測定信号を提供するように構成される第２位置測定システムと、（ａ）第２周波数範囲内の周波数を有する信号成分を減衰させるように第１測定信号をフィルタリングし、（ｂ）第１周波数範囲内の周波数を有する信号成分を減衰させるように第２測定信号をフィルタリングし、（ｃ）フィルタリング後の第１測定信号とフィルタリング後の第２測定信号とを結合して、上記方向における基準構造に対する支持部の位置を表す結合測定信号を生成するように構成されるプロセッサと、を備える。 （もっと読む）

【課題】局所表面加工後の研磨工程において、ガラス基板表面の平坦度を維持又は向上させつつ、ガラス基板表面の面荒れを改善することができ、高平坦度と高平滑性を実現する方法を提供する。
【解決手段】マスクブランクス用のガラス基板１の被測定面および裏面の凹凸形状と板厚ばらつきを測定する凹凸形状測定工程と、前記測定結果にもとづいて、表面加工を施すことにより、前記被測定面および裏面の平坦度と板厚ばらつきを所定の基準値以下に制御する平坦度制御工程と、表面加工の施された前記ガラス基板１の表面を基板押圧手段６７により研磨布６１に押圧しつつ、回転させて研磨する際、前記ガラス基板１の表面における押圧力分布が均一となるように、前記ガラス基板１を研磨布６１に押し当て、かつ、研磨布押圧手段６７が、前記ガラス基板１の外周部近傍の前記研磨布６１を押圧しながら、前記ガラス基板１を研磨する研磨工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】SiC基板及びエピタキシャル層に形成されたマイクロパイプ欠陥及び基底面内欠陥を高精度に検出でき、他の欠陥から区別できる検査装置を実現する。
【解決手段】本発明では、微分干渉光学系を含む共焦点走査装置を用いて、SiC基板表面又はエピタキシャル層表面の共焦点微分干渉画像を撮像する。共焦点微分干渉画像は、試料表面の数ｎｍ程度の凹凸変化を輝度分布として表すので、SiC基板表面又はエピタキシャル層表面に出現した結晶欠陥を、輝度分布に基づいて検出することができる。欠陥の種類に応じて、輝度分布が相違するので、欠陥画像の形状及び輝度分布の観点より欠陥を分類する。特に、本発明による分類方法を用いることにより、マイクロパイプ欠陥及び基底面内欠陥を他の欠陥から区別することが可能である。 （もっと読む）

【課題】可視光、近赤外光または赤外光が透過する材料に設けられた高アスペクト比の穴の深さ等の段差構造の形状を正確且つ高速に測定する。
【解決手段】可視光、近赤外光または赤外光の測定用光Ｌを未貫通ビア１０４が形成されたシリコンウェーハ１０１の裏面１０３側から照射し、共焦点測定法により、測定用光Ｌがシリコンウェーハ１０１の表面１０２及び未貫通ビア１０４の底面１０５に焦点を結ぶ位置を測定することによって未貫通ビア１０４の見かけ上の形状を測定し、予め取得したシリコンウェーハ１０１の屈折率または屈折率を測定する屈折率測定手段によって測定したシリコンウェーハ１０１の屈折率を用いて、前記測定した形状を換算することにより未貫通ビア１０４の実際の形状を算出する。 （もっと読む）

【課題】少なくとも裏側に高濃度ドープ層を有するシリコンウエハの厚さを測定する装置を提供する。
【解決手段】装置３４は，複数波長のコーヒレントな光を放射する光源２を有する。また，本装置は，シリコンウエハと非接触に配置され，シリコンウエハの少なくとも一部を複数波長のコーヒレントな光によって照射し，シリコンウエハからの反射光の少なくとも一部を受光する測定ヘッド３を含む。さらに，本装置は，分光器５，ビームスプリッター，及び評価装置６を含む。評価装置は，シリコンウエハからの反射光を，光コーヒレンストモグラフィー法により分析することで，シリコンウエハの厚さを測定する。コーヒレントな光は，中央波長Ｗ_Ｃを有する帯域幅ｂの複数波長で放射される。シリコンウエハの高濃度ドープ層の光吸収率を最少とする波長は，帯域幅ｂ内に存在する範囲である。 （もっと読む）

【課題】コンクリート構造物、鋼構造物、土構造物、または岩盤、地盤に発生したひびわれ、亀裂、目地などを対象とし、離れた地点から画像撮影することで高い精度を確保し、安全、簡単かつ迅速な計測を可能とするモアレ縞を利用した変位計測方法を提供する。
【解決手段】モアレ縞を利用して２地点間の微小な相対変位を計測するモアレ縞を使った変位計測方法であって、計測対象に沿うように設置され相互に重ねられた２枚の板状の部品からなる計測装置１０の２枚の板状の部品のそれぞれに、空間的に周期構造をもつ格子を表示し、格子同士の光学的な干渉により生じるモアレ縞の移動量を読み取ることで計測対象の変位を計測する。 （もっと読む）

【課題】被検物の表面形状を高精度かつ短時間で測定する。
【解決手段】被検物の表面で反射された物体光と参照光との光路差によって得られる干渉縞を解析する形状測定装置を用いて被検物の表面形状を測定する本発明の形状測定方法は、参照面を第１位置に固定して被検物の複数の位置における第１干渉縞を取得する第１工程と、参照面を参照光の光軸上の第２位置に固定して、複数の位置における第２干渉縞を取得する第２工程と、参照面を参照光の光軸上の第３位置に固定して、複数の位置における第３干渉縞を取得する第３工程と、第１干渉縞と、第２干渉縞と、第３干渉縞とを用いて、被検物の複数の位置における干渉縞の位相解析を行う位相解析工程Ｓ２０とを備え、第１干渉縞、第２干渉縞、及び第３干渉縞の少なくとも１つは、被検物を形状測定装置に対して相対移動させながら複数の位置の近傍で断続的に取得された複数の干渉縞に基づいて取得される。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、試料室の熱変形に依らず、高精度にステージ位置を検出することが可能な試料ステージを備えた荷電粒子線装置の提供にある。
【解決手段】上記目的を達成するために、試料ステージの位置を検出するためのレーザ干渉計を備えた荷電粒子線装置において、前記レーザ干渉計は、レーザを放出する光源と、前記試料ステージに設置される計測光用ミラーと、前記光源が設置される前記荷電粒子線装置の試料室壁面と対向する壁面に設置される参照光用ミラーと、前記光源から放出されるレーザを、計測光と参照光とに分割するビームスプリッタとを備え、当該ビームスプリッタと前記計測光用ミラーとの間に、１／４λ波長板を備えていることを特徴とする荷電粒子線装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、分光反射強度に含まれる迷光成分を低減し、パターンドディスク表面のパターン形状を精度よくまたはパターン欠陥を確実に検出できるハードディスクメディアの検査装置または検査方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、パターンが形成されたハードディスクメディアの表面に複数の波長を含む光を照射し、波長毎に検出される反射光の強度を前記ハードディスクメディアからの反射光を検出する検出器に発生する迷光成分の強度で補正し、前記補正された反射光の強度から分光反射率を算出することを第１の特徴とする。前記補正は、前記ハードディスクメディアからの反射光の強度を前記反射光の短波長領域をカットした状態とカットしない状態で波長毎に検出し、両者の前記反射光の強度との差に基づいて行なうことを第２の特徴とする （もっと読む）

【課題】 平面、円筒、自由形状を含む各種形状の基板の外面および内面上に施したＤＬＣ薄膜の膜厚と屈折率を近赤外光を用いて精度良く測定することを目的とする。
【解決手段】 グラファイト成分を含むダイアモンド状カーボン薄膜が半透明な波長域の近赤外光を光源として利用することを特徴として垂直反射干渉スペクトル計測によって膜厚と屈折率の積を求める。
また、干渉測定する対象試料の同一点の屈折率を同一光源を用いて、傾斜入反射測定計で反射物質の屈折率のみで決まるブリュースター角を測定することで、屈折率を決定する。結果として、正確な膜厚が求まる。 （もっと読む）

パターン発生器は、書込ツールと校正システムとを有する。書込ツールは、ステージ上に配列されたワークピース上にパターンを発生させるように構成される。校正システムは、書込ツールの座標系と、ステージおよびワークピースのうちの１つ上の校正プレートの座標系との間の相関を決定するように構成される。校正システムはまた、校正プレートの表面上の少なくとも１つの反射パターンから反射した少なくとも１つの光ビーム状の光相関信号、またはパターンに少なくとも部分的に基づき相関を決定するように構成される。
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【課題】構造上の制約などによらずに、実際の測定に即した測定を高精度に行うことができる基準器およびそれを用いた検査方法を提供する。
【解決手段】 基準器１は、本体３と、本体３に直線的に設けられるガイド機構と、ガイド機構に沿って移動可能且つ固定可能な基準片７と、本体３に設けられて基準片７の位置を測定する測長手段とを有している。
基準片７をガイド機構に沿って異なる位置に移動させたときの基準片７の位置が測長手段によって測定され、基準片７が前記異なる位置に移動されたときの基準片７の位置が測定機によって測定されて、測長手段によって測定された基準片７の各位置測定値と、測定機によって測定された基準片７の各位置測定値との差が求められる。 （もっと読む）

【課題】ファブリペロー干渉計を利用して位置を取得する装置及び方法の提供。
【解決手段】位置を取得する装置は、共焦点ファブリペロー干渉計２００を有する。 （もっと読む）

【課題】複雑な表面構造を有する対象物の表面トポグラフィおよび／または他の特性を、走査干渉分光法を用いて測定する。
【解決手段】試験対象物の第１の表面箇所に対する走査干渉分光信号から導出可能な情報と試験対象物の複数のモデルに対応する情報とを比較することを含む方法であって、複数のモデルは、試験対象物に対する一連の特性によってパラメータ化される方法。複数のモデルに対応する情報は、試験対象物の各モデルに対応する走査干渉分光信号の変換分（例えば、フーリエ変換分）の少なくとも１つの振幅成分についての情報を含んでもよい。第２の側面では、モデルは固定された表面高さに対応するとともに、固定された表面高さとは異なる一連の特性によってパラメータ化されている。第３の側面では、比較は、走査干渉分光信号の系統的な影響を明確にすることを含む。 （もっと読む）

【課題】窓フーリエ変換法を用いた解析において、解像度の更なる向上を図ることが可能となる位相情報の解析方法等を提供する。
【解決手段】光あるいはＸ線を含む波長の波の干渉によるモアレ像の周期的パターンを解析し、位相波面を含む位相情報を取得する位相情報の解析方法であって、
前記モアレ像の周期的なパターンの少なくとも一部を、窓関数によって窓フーリエ変換する工程と、
前記窓フーリエ変換されたモアレ像における、位相情報を担うスペクトルの情報と、前記位相情報を担うスペクトルの情報に重畳している位相情報を担っていないスペクトルの情報とを解析的に計算する工程と、
前記位相情報を担っていないスペクトルの情報を、前記位相情報を担うスペクトルの情報から分離し、前記位相波面を含む位相情報を取得する工程と、を有する構成とする。 （もっと読む）

【課題】露光工程のスループットを高め、基板の複数のパターン形成領域に互いに異なるパターンを露光できるようにする。
【解決手段】シート基板Ｐの露光装置であって、シート基板Ｐを走査方向Ｄ１に移動する基板駆動装置１０と、マスクＭ１〜Ｍ３を保持して上面ＭＢａに沿って移動するマスクステージＭＳ１〜ＭＳ３と、駆動対象のマスクステージＭＳ２の走査方向Ｄ２の位置情報を計測する干渉計３３ＸＡ，３３ＸＢと、この計測結果に基づいて、マスクステージＭＳ２を走査方向Ｄ２に移動する駆動装置と、マスクステージＭＳ１〜ＭＳ３の走査方向Ｄ２の位置を相互に入れ替えるステージ入れ替え装置２４と、を備える。 （もっと読む）

【課題】トップテーブルの小型化と、トップテーブル質量の軽量化を実現しつつ、かつ長尺の反射体を必要とせず真空試料室の小型化が可能な真空内処理装置ないし荷電粒子線装置を実現する。
【解決手段】測長に使用する一対の干渉計および反射体の両者が可動となるようステージを構成し、かつステージが持つ複数の移動軸のうち上記一対の干渉計および反射体によって測長が行われる方向とは交差する移動軸と平行な方向に対して、上記一対の干渉計および反射体が互いに対向する状態を保ったまま移動できるようにステージを構成する。 （もっと読む）

【課題】 参照光と被検光との相対位置及び光路長差を独立して調整することにより、被検物の面位置を高精度に計測する。
【解決手段】 白色光源からの光を用いて被検物の表面の位置を計測する計測装置は、白色光源からの光を参照光と被検光とに分割し、被検光と参照光とを合成する光学系と、被検光と参照光との干渉光を検出する検出器と、参照光又は被検光の光路内に配置された光学部材であって、参照光と被検光との光路長差及び相対位置とを変更するための光学部材と、光学部材の位置を可変とする位置可変機構とを有する。位置可変機構を用いて光学部材の位置を変更することにより参照光と被検光との光路長差及び相対位置を独立して調整する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、測定対象物の表面形状をより高い精度で測定することができる形状測定装置および形状測定方法を提供する。
【解決手段】本発明の形状測定装置Ｓは、光へテロダイン干渉を行う一面側測定部２および他面側測定部３によって測定対象物ＷＡの厚さを測定するものであって、一面側測定部２が測定対象物に複数の測定光を照射することで、１回の測定で測定対象物ＷＡにおける厚さと表面形状とを測定する。 （もっと読む）