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Fターム[2F065FF51]の内容

光学的手段による測長装置 (194,290) | 測定方法 (22,691) | 干渉利用 (1,883)

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【課題】光干渉を利用して測定対象物の温度を適切に計測することができる温度計測装置、基板処理装置、及び温度計測方法を提供する。
【解決手段】温度計測装置1は、データ入力部16と、ピーク間隔算出部17と、光路長算出部20と、温度算出部21とを備える。データ入力部16は、測定対象物13の表面13aへ測定光が照射され、表面13aにおいて反射された測定光と裏面13bにおいて反射された測定光とが干渉して得られる干渉光のスペクトルを入力する。ピーク間隔算出部17は、入力されたスペクトルのピーク間隔を算出する。光路長算出部20は、ピーク間隔に基づいて光路長を算出する。温度算出部21は、光路長に基づいて、測定対象物13の温度を算出する。 (もっと読む)


【課題】試料表面の変位量が大きくても、フェーズラッピングの問題が生ずることなく、試料の微細な表面形状を高分解能で測定できる形状測定装置を実現する。
【解決手段】白色光源から出射した照明光は、入射光をシャーリングする第1の光路と入射光に対して可変光路長ないし可変位相量を導入してフリンジスキャンを行う第2の光路とを有する干渉光学系及び対物レンズを経て試料に入射する。試料上には、シャーリングされた参照ビームにより形成される第1の照明領域とフリンジスキャンされた測定ビームにより形成される第2の照明領域が形成される。第1及び第2の照明領域から出射した反射光は、対物レンズ及び干渉光学系を介して2次元撮像装置に入射し、2つの照明領域の画像が合成された干渉画像が形成される。フリンジスキャンにより、2つの画像を構成する反射光間に白色干渉が発生し、干渉信号を検出することで、試料の形状又は孔の深さが測定される。 (もっと読む)


【課題】従来の干渉計に比べて高精度な移動体の位置情報の計測を可能にする。
【解決手段】露光装置は、基板を保持して、XY平面内で移動し、XY平面に交差する反射面134を有するステージWSTと、計測装置20Y’とを備えている。計測装置は、ステージWSTの上方に配置され反射面134を介して入射した光ビームを回折させて反射面134に戻す固定スケール135と、反射面134に戻された光ビームを検出する検出部(124A、124B、126、28)と、を有する。計測装置は、固定スケール135からの戻りビームを、再度反射面134を経由させることで得られる前記光ビームの複数の回折ビームの干渉光を前記検出部で検出することで、ステージWSTのY軸方向の位置を計測する。 (もっと読む)


【課題】陽極酸化アルミナの状態(微細凹凸構造の形状、欠陥等)を簡易に検査できる検査装置および検査方法、ならびに陽極酸化アルミナの微細凹凸構造の形状等のムラや表面の欠陥が抑えられた、陽極酸化アルミナを表面に有する部材の製造方法を提供する。
【解決手段】モールド100に光を照射するライン状照明装置10(第一の照射手段)と;モールド100の陽極酸化アルミナで反射した光を撮像するカラーラインCCDカメラ12(第一の撮像手段)と;モールド100に光を照射するライン状照明装置20(第二の照射手段)と;モールド100の陽極酸化アルミナで反射した光を撮像するモノクロラインCCDカメラ22(第二の撮像手段)と;2つのカメラによって撮像された画像から得られた色情報および輝度情報に基づいて陽極酸化アルミナの状態の良否を判定する画像処理装置30(画像処理手段)とを有する検査装置を用いる。 (もっと読む)


【課題】同じ測定箇所で位相差値と厚みデータとを測定することで、複屈折や厚み方向位相差値Rthをより精度よく得ることができる光学測定装置を提供する。
【解決手段】光学測定装置Mは、光学フィルムSに光L1を入射する投光器30と、投光器30から光学フィルムSに入射された入射光L1を受光する受光器34と、受光器34によって受光された透過光L1から光学フィルムSの面内位相差値R0を算出する位相差R0算出部11と、位相差R0算出部11で面内位相差値R0を算出するのに用いた入射光L1と同じ入射光L1を用いて光学フィルムSの厚みデータdを算出する厚み算出部12とを備えている。受光器34は、2つのファイバ部8a,8bに分岐される光ファイバ8を含んでおり、一方のファイバ部8aが位相差R0算出部11に接続され、他方のファイバ部8bが厚み算出部12に接続されている。 (もっと読む)


【課題】被検面の形状を高精度に計測する。
【解決手段】被検面10の形状を計測する面形状計測装置であって、光源1からの光を参照光と被検光とに分割して被検光を被検面10に照射する計測ヘッド110と、計測ヘッド110を収納する収納部と、光源1からの光を計測ヘッド110へ入射させ、被検面10に対する被検光の入射角度を変える変更部120と、被検面10で反射され計測ヘッド110に戻ってくる被検光と参照光との干渉光を検出する検出部と、計測ヘッド110の位置を計測する位置計測部116−118と、検出結果および計測結果を用いて被検面10の形状を求める処理部9とを備え、変更部120は、光源1からの光を計測ヘッド110の収納部の外側から計測ヘッド110に入射させ、光源1からの光が計測ヘッド110に入射する位置を変えることによって入射角度を変える。 (もっと読む)


【課題】高精度なウエハステージの移動制御を行う。
【解決手段】ウエハステージの位置を計測するために用いられるスケール39Y2に対して検出装置PDY1の照射系69Aからの検出ビームを照射し、スケール39Y2を介した検出ビームを受光系69Bで検出することにより、スケールの表面状態(異物の存在状態)を検出する。これにより、スケールに対して非接触で表面状態の検出を行うことができる。さらに、この表面状態を考慮することで、ウエハステージの移動制御を高精度に行うことができる。 (もっと読む)


【課題】レーザ光の特徴である可干渉性を利用しながら、光学系に機械的手段を用いずに被測定物の厚み方向の距離もしくは厚みを高精度に測距する測距方法及びレーザ測距装置を提供する。
【解決手段】反射部14を階段状とすることで、測定光と参照光との光路差が段差の間隔で連続的に変化する光強度データ列を得ることができる。そして、この光強度データ列をフーリエ変換することで各干渉光の明部の位置を取得し、第1レーザ光に基づく干渉光の明部の位置と第2レーザ光に基づく干渉光の明部の位置とが一致する第1位置と第2位置とに基づいて測距を行う。よって、光学系に機械的手段を用いずに被測定物6の厚み方向の距離Lもしくは厚みを高精度に測距することができる。 (もっと読む)


【課題】位置測定装置における可動部材をできる限り他の部材と機械的に接続せずに成る高精度の位置測定装置を提供すること。
【解決手段】検出ユニット20と信号ユニット30を構造的に分離されたユニットとして形成し、検出ユニット20を測定標準10に対して少なくとも1つの測定方向xに沿って変位可能に配置し、光源から照射されるビームを信号ユニット30から検出ユニット20の方向へ照射し、少なくとも1対の部分ビームを検出ユニット20から信号ユニット30の方向へ照射し、検出ユニット20及び信号ユニット30を互いに平行な平面内に配置し、信号ユニット30と検出ユニット20の間におけるビームの少なくとも一部の拡がり方向を前記平面に対して垂直に配向するよう構成した。 (もっと読む)


【課題】高い回折効率を示し、精度良く位置検出を行える変位検出装置を提供することを目的とする。
【解決手段】台形または矩形のレリーフ形状をした回折格子を用いる。また、可干渉光を出射する光源部と、光源部から出射された光束を二つの光束に分割する光束分割部と、を含み、二つの光束をP偏光として回折格子上に照射させる照射光学系と、二つの光束が回折格子により回折されることによって生じる二つの第1回折光をそれぞれ反射し、回折格子上にP偏光として再入射させる反射光学系を備える。また、回折格子に再入射した二つの第1回折光が回折されて生じる二つの第2回折光を干渉させる干渉光学系と、干渉光学系により干渉した光を受光する受光部と、受光部において取得した干渉信号に基づいて、回折格子の位置情報を検出する位置検出部を備えるものとする。そして、回折格子のレリーフの周期を、回折格子に入射する可干渉光の波長の1.5倍以下とする。 (もっと読む)


【課題】溶接部の溶け込み深さを直接測定することで、溶接部の品質の評価を高精度に行うレーザ溶接装置及びレーザ溶接方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、レーザ光で溶接部を溶接するレーザ溶接装置であって、前記レーザ光を照射するレーザ出力手段と、前記レーザ光と波長の異なる光である物体光を前記溶接部に照射すると共に前記溶接部で反射した前記物体光から前記溶接部の溶け込み深さを測定する光干渉計と、前記レーザ出力手段からの前記レーザ光と前記光干渉計からの前記物体光とを同軸にして前記溶接部に照射する光学部材と、測定した前記溶接部の溶け込み深さに基づいて前記溶接部の良否を評価する評価手段と、を備え、前記溶接部における前記物体光のスポット径が前記レーザ光のスポット径よりも大きいことを特徴とするレーザ溶接装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】パターンが形成される物体を保持する移動体を安定して位置制御する。
【解決手段】露光装置は、ウエハを保持して所定平面内で移動するウエハステージと、所定平面内でウエハステージとは独立に移動する計測ステージと、計測ステージの位置情報を計測する干渉計システム118と、ウエハステージの位置情報を計測する、干渉計システム118に比べて計測値の短期安定性が優れるエンコーダシステム(70A〜70F)と、を備えている。このため、露光装置によると、干渉計システム118により計測ステージの位置情報が計測され、エンコーダシステム(70A〜70F)によってウエハステージWSTの位置情報が計測される。従って、パターンが形成されるウエハを保持するウエハステージを安定して位置制御することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】手間や時間をかけることなく光学素子材料の厚さを随時測定することができる光学素子製造装置及び光学素子製造方法を提供する。
【解決手段】光学素子製造装置は、光学素子材料10を保持する光学素子保持具11と、光学素子材料10の加工面10aに当接し、該光学素子材料10を研削又は研磨する加工工具20を支持する加工工具支持装置21と、光学素子材料10と加工工具20との間の相対的な運動を与えるモータ及び運動制御部と、光学素子保持具11に保持された光学素子材料10に対して加工工具支持装置21に支持された加工工具20とは反対側に設けられ、光学素子材料10の厚さを非接触で測定する測定部30とを備える。 (もっと読む)


【課題】光学的手法を用いて被処理基板の構造をより高精度に評価することができるプロセスモニター装置を提供する。
【解決手段】プロセスモニター装置11は、光を出射する光源部と、光の強度を検知可能な光検知部と、光源部から出射された光をウェハWまで導き、ウェハWから反射した反射波を光検知部まで導く第一光経路21と、第一光経路21と同等の光伝搬特性を有するように構成され、光源部から出射された光を、ウェハWを経由することなく光検知部まで導く第二光経路と、第二光経路を通して光検知部により検知された光の強度情報に基づいて、第一光経路21を通して光検知部により検知された光の強度情報を補正し、ウェハWの構造を解析するコントローラ17とを備える。 (もっと読む)


【課題】細胞内で起こる高速現象を測定する装置を提供する。
【解決手段】ヒルベルト位相顕微鏡を使用し、透光性物体に関連した高解像度位相情報から、一フレーム毎の形状、体積のようなパラメータを得、ミリ秒の時間スケールで取得した多数の画像をもとに、ダイナミックな変動をナノメートルオーダーの分解能で定量化する。 (もっと読む)


【課題】2つの屈折率分布間の距離を、精度よく、非破壊で、高速に測定可能な光学的記録媒体、該光学的記録媒体の光学的測定方法及び光学的測定装置を実現する。
【解決手段】光を散乱させて測定・解析するための入射光波長の最小値をλとするとき、周囲と屈折率の異なる2つの光散乱体60の距離が0.7λ以上15λ以下であり、2つの光散乱体の全光線透過率または全光線反射率が50%以上であり、散乱光強度の角度分布またはある角度での散乱光強度の波長分布を角度の正弦または1/波長を横軸としてフーリエ変換し、フーリエ変換後のピークの横軸を読み取ることで、2つの領域の距離を求める。 (もっと読む)


【課題】コヒーレント光を用いて、被測定球体の球径を高精度で、且つ簡便な方法で短時間に測定できる球体の球径寸法測定方法及びその測定装置を提供する。
【解決手段】被測定球体1にコヒーレント光を照射することによって該被測定球体1の影中の部分に生じる干渉縞と輝点部で構成されるアラゴスポットの前記輝点部を用いて、前記アラゴスポットの輝点部の位置又は該被測定球体1の球径に応じて変位する前記アラゴスポットの輝点部の移動量から、該被測定球体1の球径を測定することを特徴とする。被測定球体1の球径は、幾何的手段、又は電気信号に変換されたアラゴスポットの輝点部の位置又はアラゴスポットの輝点部の移動量を用いてあらかじめ測定して得られたアラゴスポットの輝点部の移動量と球体1の球径との関係式から換算して求められる。 (もっと読む)


【課題】被検体の表面から反射光が得られないような場合であっても、被検体の表面性状を確実に測定でき、歩留まり及び製造効率の向上を図ることができる表面性状評価方法を提供する。
【解決手段】ウエハWをセットしていない状態において、第1参照平面56で反射された第1参照光と、ウエハWをセットした状態において、ウエハWを透過して後に第1参照平面56で反射された被検光と、に基づいてウエハWの表面性状を評価することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】
光検査装置において、検出する光が微弱な場合に問題となる量子ノイズの影響を抑制する。
【解決手段】
光検査装置を、試料に光を照射する光照射手段と、参照光を発射する参照光手段と、光照射手段により光が照射された試料からの透過光または散乱光または反射光と、参照光手段から発射された参照光とを干渉させて干渉光を生成する光干渉手段と、光干渉手段により生成した干渉光を検出する光検出手段と、光検出手段により干渉光を検出して得られた検出信号に基づいて欠陥の有無を識別する欠陥識別手段と、試料からの透過光または散乱光または反射光の状態または参照光手段から発射された参照光の状態または光干渉手段により生成した干渉光の状態のうち少なくとも一つを変換する光変換手段とを備えて構成した。 (もっと読む)


【課題】移動体を精度良く駆動する。
【解決手段】 ウエハWを保持し所定面内で移動するウエハステージWSTと、所定面内と実質的に平行に配置される移動スケール44A〜44Dに、複数のヘッド48a〜48kを介してそれぞれ所定平面と交差する方向からビームを照射して、ウエハステージWSTの位置情報を計測するエンコーダシステムと、エンコーダシステムの計測情報に基づいてウエハステージWSTを制御する制御システムによって、複数のヘッド48a〜48kのうち移動スケール44A〜44Dと対向する複数のヘッド48a〜48kの数が変化するとともに、ウエハステージWSTの移動によって、複数のヘッド48a〜48kのうち位置情報の計測に用いられるヘッドが別のヘッドに切り換わる。 (もっと読む)


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