【課題】複屈折基板の板厚を正確に求める板厚測定法を得る。
【解決手段】予め複屈折基板の板厚ｔと反射干渉光強度波長特性の振幅の節に対応した波
長λ（ｔ）との関係を求めるステップと、前記基板の反射干渉光強度波数特性を取得する
ステップと、前記反射干渉光強度波数特性の節より波数の大きい領域の前記反射干渉光強
度波数特性のデータに対し、相隣接する２つのデータのうち波数の大きい側のデータから
波数の小さい側のデータを減じ、それに−１を乗じた値を求め、この値を波数の小さい側
のデータに加算した新データで、波数大きいデータを置換して補正反射干渉光強度波数特
性を求めるステップと、前記補正反射干渉光強度波数特性にＦＦＴ処理を施して、複屈折
基板の板厚を求めるステップと、を含む複屈折基板の板厚測定法である。 （もっと読む）

【課題】ノイズの影響を抑えて、安定した精度の高い測定結果を得る。
【解決手段】広帯域スペクトルを有する光源１から被測定対象４までの第１光路長と光源４から参照面５までの第２光路長との光路長差によって変化する被測定対象の測定面内の各測定位置に対応した干渉光強度を示す干渉光強度分布画像を、光路長差を変化させながら、画像記憶手段９に順次記憶する。干渉光強度分布画像の各測定位置における光路長差の変化に伴う干渉光強度の変化を示す干渉光強度列に対し、その強度の中心から強度軸の正負方向に所定のスレッショルドレベルを設定する。スレッショルドレベルを超える干渉光強度のデータをピーク位置候補として求め、最もピーク位置候補が密集している領域の重心を干渉光強度列のピーク値として求める。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成でありながら、参照面と被検面との間の絶対距離を高精度に計測することができる計測装置を提供する。
【解決手段】第１の光源から射出される光の波長を、既知の真空波長である第１の基準波長又は第１の基準波長とは異なる既知の真空波長である第２の基準波長に設定するための波長基準素子と、参照面と被検面との間の空間の群屈折率を検出する屈折率検出部と、参照面で反射された光と被検面で反射された光との干渉信号を検出して、干渉信号から参照面と被検面との間の光路長に相当する位相を検出する位相検出部と、波長基準素子を用いて第１の光源から射出される光の波長を第１の基準波長から第２の基準波長に連続的に変更させながら第１の基準波長及び第２の基準波長のそれぞれについて、参照面と被検面との間の光路長に相当する位相を検出するように位相検出部を制御して、絶対距離を求める処理部とを有する計測装置。 （もっと読む）

【課題】箱体で一体化されていて高温環境での使用にも適う光ファイバセンサを実現。
【解決手段】 箱体１１と、一対のファイバ保持具２０，３０と、両保持具間に張られた部分が内部空間１２に収容されその張設部分にＦＢＧ８ａが形成されている光ファイバ８とを備え、ファイバ保持具２０，３０が離接方向への相対移動を許容する形で箱体１１に装着されており、巻付部材からなるファイバ係止部２１，３１と被測定物に対する取付部２６，３６との間の中継部２３〜２５，３３〜３５に断熱材が組み込まれており、箱体１１には冷却手段１５が付設されている。中継部２３〜２５が上層断熱板２３と中層連結板２４と下層断熱板２５とを具備し、ファイバ係止部２１と中層連結板２４とが上層断熱板２３を挟んで断熱性締結具２８にて連結され、中層連結板２４と取付部２６とが下層断熱板２５を挟んで耐熱性締結具２７にて連結される。ファイバ保持具３０も同様である。 （もっと読む）

【課題】高い空間解像度を有しており、検査に要する時間を短くでき、簡易な構成によって半導体デバイスの異常箇所を特定可能な半導体検査装置を提供する。
【解決手段】半導体検査装置１Ａは、ＤＵＴ１７の端子電極にストレス電圧Ｖｓを印加するストレス印加装置２２と、シリコン基板１７ａを透過する波長の光を発生する光源１１と、光源１１から提供された光をシリコン基板１７ａに照射し、シリコン基板１７ａを透過した光に関する干渉像を生成する干渉光学系と、干渉像を撮像して撮像データを生成するＩＲカメラ１９と、撮像データに基づいて、異常発生箇所としてのＤＵＴ１７の発熱箇所を特定するための情報を演算する演算部２１とを備える。ストレス電圧Ｖｓの時間波形は、一定周期の繰り返し波形であって、ＤＵＴ１７の発熱によるシリコン基板１７ａ内部の光学的距離の時間変化を正弦波状とする時間波形である。 （もっと読む）

【課題】微粒子の接触体を用いて、矩形溝形状を有するマイクロマシン等の三次元形状を高精度で測定する。
【解決手段】接触体６は、可撓性の支持部材５と透明な固定部材４によってプローブ本体９に連結される。対物レンズ３にてレーザ光Ｇを集光させ、接触体６の底面に焦点を合わせて光放射圧によって接触体６を被測定物１３の表面に接触させる。レーザ光Ｇを音響光学偏向器２によって偏向させることで、接触体６を任意の方向に振動させることができる。被測定物１３が矩形溝形状を有する三次元構造体であっても、接触体６の振動方向を調整することで高精度な形状測定を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】検出部のエンコーダ信号である２相正弦波信号が、リサージュ波形の表示時において２重になるときも、位置を正確に検出、補正することができるデジタルスケールの検出信号補正方法及び検出信号装置を提供すること。
【解決手段】デジタルスケールの検出信号補正方法及び検出信号補正装置は、２相正弦波信号の周波数の整数分の１の周波数を有する信号により補正を行い、また、２相正弦波信号を組とし、２つの補正区間ごとに各相正弦波信号のオフセット、大きさの比、位相差を補正することにより、高精度の位置検出を可能とするものである。 （もっと読む）

【課題】移動体までの距離を安全に測定することができる干渉計を提供すること。
【解決手段】干渉計１Ａは、干渉計１Ａから射出される光の光量を調整可能に構成された調光手段３Ａと、受光手段４７，４９の受光量が所定の第１閾値以下か否かを判定する第１判定手段と、第１判定手段が、受光量が第１閾値以下と判定した場合、調光手段３Ａに、干渉計１Ａから射出される光の光量の低減を命じる低減信号を出力する低減信号出力手段とを備える。調光手段３Ａは、低減信号が入力された場合、光源から射出される光の光量を低減させる。従って、干渉計１Ａが反射体１０１を見失ってしまった場合、調光手段３Ａが干渉計１Ａから射出される光の光量を低減させることとなるので、干渉計１Ａの周囲で作業する人に干渉計１Ａから測定光が照射されてしまうことを防止でき、移動体２までの距離を安全に測定できる。 （もっと読む）

【課題】
スキャトロメトリを用いることにより、基板上に形成された線幅数１００ｎｍ以下のパターンの断面形状を、例えばディスク全面を数マイクロメータ程度の領域毎に検査・測定することも可能となる。しかし、ディスク全面を数マイクロメータ程度の領域毎に検査・測定したパターンの幅や高さ等を全て表示することは困難であり、また全て表示することが必ずしも有効であるとはいえない。
【解決手段】
本発明では、パターンの幅や高さ、特にデバイスの性能に直接影響を及ぼすパターン断面の磁性体部分の断面積(単位長さあたりの体積)等の分布を独立に、又は組み合わせて表示する。また、結果の特徴を強調して表示する。さらに、リードライトテスト結果との相関を予め評価しておくことにより、パターン断面形状の検査・測定時に最終的な不良箇所の特定を可能とし、不良の発生を事前に防止することができる。 （もっと読む）

【課題】干渉計において、光源部からの光を干渉計本体部に導入するファイバを光源部に対して容易に着脱することができるようにする。
【解決手段】光源部５２、干渉計本体部、およびファイバ１２を有し、光源部５２からの平行光３１ａをファイバ１２の入射端に入射してファイバ１２の出射端から干渉計本体部の内部に導入する干渉計であって、ファイバ１２の入射端側を保持するとともに、光源部５２に対して着脱可能に設けられたファイバ保持部材２５と、ファイバ保持部材２５の内部に、ファイバ１２の入射端に焦点位置を合わせて配置された集光レンズ２６と、を備え、光源部５２は、平行光３１ａを出射するレーザ光源２０と、ファイバ保持部材２５を着脱可能に保持し、装着時に平行光３１ａが集光レンズ２６の光軸に沿って入射するようにファイバ保持部材２５を位置決めする固定部材２４と、を備える。 （もっと読む）

【課題】複数の画像データから高精細な画像を表す高精細画像データを生成する高精細画像生成処理において、生成する高精細画像の出力時における画質の低下が抑制されるような画像データを生成することを可能とする。
【解決手段】画像生成装置は、生成する高精細画像データの出力に用いる出力装置に関する情報を出力装置情報として取得し、出力装置情報に基づいて出力装置での出力に適した高精細画像の画像サイズを生成画像サイズとして設定する生成画像サイズ設定部を備える。また画像生成装置は、複数の画像データから、時系列に並んだ複数の画像データを合成元画像データとして取得し、取得した合成元画像データを合成して、設定した生成画像サイズの高精細画像を表す高精細画像データを生成する画像合成部を備える。 （もっと読む）

試験対象物（１２）の光学表面（１４）の形状を測定する方法が提供される。本方法は、測定波（１８）を発生させる干渉測定デバイス（１６）を設けるステップと、干渉測定デバイス（１６）及び試験対象物（１２）を相互に対して種々の測定位置に連続して配置し、光学表面（１４）の種々の領域（２０）が測定波（１８）により照明されるようにするステップと、測定デバイス（１６）の位置座標を試験対象物（１２）に対して種々の測定位置で測定するステップと、測定位置のそれぞれで測定デバイス（１６）を用いて、光学表面（１４）の各領域（２０）との相互作用後の測定波（１８）の波面を干渉測定することにより、表面領域測定値を得るステップと、測定位置のそれぞれにおける干渉測定デバイス（１６）の測定された位置座標に基づきサブ表面測定値を計算合成することにより、光学表面（１４）の実際の形状を判定するステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】複数の基準座標系相互間のずれを較正する。
【解決手段】 ステージＷＳＴ１上に搭載された４つのヘッド６０_１〜６０_４のうち、互いに異なる１つのヘッドを含む３つのヘッドが属する第１ヘッド群と第２ヘッド群とに含まれるヘッドがスケール板上の対応する領域に対向する領域Ａ_０内で、第１ヘッド群を用いて得られる位置情報に基づいてステージＷＳＴ１を駆動するとともに、第１及び第２ヘッド群を用いて得られる位置情報を用いて対応する第１及び第２基準座標系Ｃ_１，Ｃ_２間のずれ（位置、回転、スケーリングのずれ）を求める。その結果を用いて第２ヘッド群を用いて得られる計測結果を補正することにより、第１及び第２基準座標系Ｃ_１，Ｃ_２間のずれが較正され、４つのヘッド６０_１〜６０_４のそれぞれが対向するスケール板上の領域の相互間のずれに伴う計測誤差が修正される。 （もっと読む）

【課題】半導体デバイスの微細化に対して、プロセスマージンが狭小な場合でも半導体パターンの形状計測を高精度で行うことができるパターン形状計測方法を提供する。
【解決手段】パターン形状計測方法において、ベストマッチとなる計算波形が選出不可能な場合は、形状パラメータの内、少なくとも１つのパラメータを、パターン形状計測に依らない計測方法を用いる他計測装置にて得られた情報に基づいて固定値とし、再度、ライブラリと検出波形のマッチングを行い、ベストマッチとなる計算波形を選出するステップと、ベストマッチした計算波形より対象パターンの形状情報を求める。 （もっと読む）

【課題】多数のアライメントヘッドのキャリブレーションを改良し、オーバレイ精度及び製品歩留まりを向上させる。
【解決手段】物体のアライメントを測定するための装置を備えるリソグラフィ装置であって、アライメント検出領域にてアライメントマークの位置を測定するためのアライメント検出器を各々が備える複数のアライメントセンサと、レベリングセンサ検出領域において物体の高さ及び／または傾斜を測定するためのレベリングセンサと、レベリングセンサとアライメントセンサとの間のフィードフォワード接続部と、を備えるリソグラフィ装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】複数の波長の光源による干渉画像によって、微小な計測面上の微小な高さや形状を計測する微小高さ等の計測装置において、特定の計測点の明るさの変化をサイン波として解析し、その位相を求める必要があったり、また上記明るさ変化の位相を求めるために、一つの干渉縞像中に少なくとも複数点の極値が現れている必要がある点を改善する。
【解決手段】観測光と対象光を計測対象物の計測面を介して干渉可能な状態で撮像手段に導く光学系と、上記観測光と対象光とを干渉させて計測対象物の計測面の２次元干渉画像を撮像する撮像手段と、該撮像手段で撮像された２次元干渉画像を解析する画像解析手段とを備え、上記撮像手段を上記計測対象物の計測面に対して相対的に所定の傾斜角を持たせて設置することにより、２次元干渉画像に濃淡表示される干渉縞を生じさせ、該干渉縞の濃淡の変化パターンを観測して、上記計測対象物の計測面の微小高さを計測する。 （もっと読む）

【課題】生体試料の三次元形状を高精度に測定することが可能な構成の形状測定方法、画像処理プログラム、観察装置を提供する。
【解決手段】生体試料たる受精卵とこの受精卵の像を結像する第１観察光学系との光学的距離を変化させながら第１撮像装置により受精卵を一方側から順次撮影した複数の第１画像と、受精卵とこの受精卵の像を結像する第２観察光学系との光学的距離を変化させながら第２撮像装置により受精卵を他方側から順次撮影した複数の第２画像とを取得し、複数の第１画像及び第２画像に基づいて合焦測度を画素単位で算出し、受精卵の一方側の領域については第１画像より得られた合焦測度情報を優先適用し、受精卵の他方側の領域については第２画像より得られた合焦測度情報を優先適用して各画素の合焦点を求め、合焦点位置に基づいて受精卵の三次元形状を構築する。 （もっと読む）

【課題】移動体を精度良く駆動する。
【解決手段】 移動体ＲＳＴのＹ軸方向の位置情報を、干渉計１６ｙと、該干渉計に比べて計測値の短期安定性が優れるエンコーダ（（２４Ａ，２６Ａ₁）、（２４Ｂ，２６Ｂ₁））とを用いて計測し、その計測結果に基づいてエンコーダの計測値を補正する補正情報を取得するための所定の較正動作を実行する。これにより、干渉計の計測値を用いて、その干渉計に比べて計測値の短期安定性が優れるエンコーダの計測値を補正する補正情報が取得される。そして、エンコーダの計測値と前記補正情報とに基づいて、移動体をＹ軸方向に精度良く駆動する。 （もっと読む）

【課題】干渉計における位相シフトを複数の偏光板を用いて光学的に行う場合に生じる位相シフトの誤差の影響を受けない形状測定の結果を簡易に得る。
【解決手段】装置校正用工程において，物体光及び参照光の光路長を一定にし，物体光及び参照光各々を遮断したときの４つの光検出器の検出強度が一致するよう干渉光抽出用の４つの偏光板の保持角度を調節し（Ｓ１２），その後，物体光又は参照光の光路長に変動を与えつつ，４つの干渉光の強度の時系列変化の振幅が一致するよう光強度の線形補正のゲインを設定する（Ｓ１３）とともに，４つの干渉光それぞれの強度の時系列変化から得られるリサージュ波形に基づいて，３つの非基準の干渉光の位相シフトの誤差を算出し（Ｓ１４），被測定物について得られた干渉光の強度及び前記位相シフトの誤差とに基づいて，前記被測定物についての物体光と参照光との位相差を算出する（Ｓ１７）。 （もっと読む）

【課題】被覆膜の厚さと独立して、基板よりも反射率の低い被覆膜付きの基板上に存在するパターンの三次元形状を非破壊で測定することができる三次元形状測定装置を提供することである。
【解決手段】可視光に対して透明な被覆膜付きの基板上に設けられた不透明なパターンの物理的三次元形状を測定する三次元形状測定装置であって、第１波長の照明光と、前記第１波長と異なる第２波長の照明光とを切り替えて照射する光源部と、前記第１波長の照明光を照射したときの前記パターンと前記被覆膜との第１仮想段差と、前記第２波長の照明光を照射したときの前記パターンと前記被覆膜との第２仮想段差とを測定する光検出器と、前記第１仮想段差と前記第２仮想段差とに基づいて、前記パターンの物理的三次元形状を決定する処理部とを備える。 （もっと読む）