【課題】
光ビームの位相シフトを高速に行う方法及び装置について記述する。
【解決手段】
異なる光学的厚さを持った複数の領域を備える透明プレートを、当該領域に延びる入射経路に沿って移動する前記光ビームにより照明する。前記透明プレートを移動させるか、又は前記光ビームを偏向させることにより、入射経路を生成する。前記透明プレートを出射する前記光ビームは、当該光ビームが入射した領域に応じた瞬間位相値を持つ。好ましくは、前記位相値は、再現性があり、対応する領域内における光ビームの入射位置にかかわらず安定しており、かつ、高速な変調速度で位相変化を発生させることができる。本方法及び装置は、干渉縞投影システムなどにおいて、一対のコヒーレント光ビームの位相差を変調するのに用いることができる。 （もっと読む）

【課題】生産性を低下させることなく、基板レベルでの測定を行うことのできるリソグラフィ装置の提供。
【解決手段】シングル・ステージ又は複数ステージのリソグラフィ装置において、例えば基板テーブル交換、及び／又は基板のロード及びアンロードの間、テーブルが液体供給システムに対して閉じ込め用の面を形成する。一実施例では、テーブルは、例えば基板テーブル交換、及び／又は基板のロード及びアンロードの間に投影ビームの測定を行うセンサを有している。 （もっと読む）

【課題】被測定物体の三次元形状を短時間で高精度に測定可能な形状測定装置を提供する。
【解決手段】形状測定装置１を、被測定物体Ｓに照明光を照射してこの被測定物体Ｓを透過した光を検出し、被測定物体Ｓの透過画像を出力する透過画像検出部４と、被測定物体Ｓの表面のうち、少なくとも照明光が透過する領域を含む表面の形状を測定する表面形状測定部５と、透過画像検出部４から出力された被測定物体Ｓの透過画像から得られる形状データを、表面形状測定部５で測定された測定値で補正する制御部７と、から構成する。 （もっと読む）

【課題】 フィルムシート等の膜厚分布を測定する場合、プローブを固定してフィルムシートを移動させるか、フィルムシートを固定して手でプローブを移動させ、測定位置を入力していたが、前者ではフィルムシートを移動させる装置が大がかりになり、後者では測定の度に位置を入力しなければならず、測定が煩雑になるという課題を解決する。
【解決手段】 センサと移動量を検出する移動量測定部を固定台に固定し、この固定台を移動させてセンサを測定位置にセットし、測定する操作を繰り返すようにした。また、移動量測定部としてマウスを用いた。フィルムシート等の被測定物を移動させる必要がないので、装置が大幅に簡単になる。また、移動量から測定位置を算出できるので、測定位置を入力する手間が省ける。 （もっと読む）

【課題】 インラインにおいても金属膜の実際の膜厚を測定することが可能な金属膜の膜厚測定方法を提供する。
【解決手段】 膜厚測定用の測定光を測定対象物１１に照射する工程と、測定対象物１１からの反射光からこの測定対象物１１の反射率を検出する工程と、検出された測定対象物１１の反射率から得た測定反射率データと、膜厚判断の基礎となる基礎反射率データとに基づいて、測定対象物１１の膜厚を決定する工程と、を備え、測定対象物１１が導電性を有する金属膜であり、金属膜の膜厚が、金属膜に透過した測定光がこの金属膜中で全て吸収されない膜厚以下である。 （もっと読む）

【課題】高い測定精度を有する形状測定装置を提供する。
【解決手段】形状測定装置１００は、被測定物体１５の形状を測定して測定値を出力するプローブ１２と、所定の空間内でプローブ１２を移動させる移動機構部であるアーム部１１に、プローブ１２を着脱する取付部１６と、空間内におけるプローブ１２の空間座標を測定する空間座標測定部３０と、プローブ１２により測定された被測定物体１５の測定値を、空間座標測定部３０により測定されたプローブ１２の空間座標により補正する制御部２０，５０と、を有して構成される。 （もっと読む）

【課題】参照レンズユニットの取付構造および方法において、磨耗による劣化を抑制することができるとともに参照レンズユニットの交換の作業性を向上することができるようにする。
【解決手段】参照レンズユニットの取付構造であって、レンズ枠は、レンズ光軸Ｐに直交する位置合わせ面と、端部の外周側に丸アリ部２Ａとを備え、参照レンズユニット取付部４は、測定基準軸Ｏに直交する位置決め面５ｃと、傾斜面５ｄ、円錐傾斜面５ｅを有し丸アリ部２Ａが係止可能に設けられた基準側アリ溝部５Ａ、位置決め突起５Ｂと、測定基準軸Ｏを挟んで基準側アリ溝部５Ａ、位置決め突起５Ｂと反対側に、進退可能に設けられた押圧部材９とを備え、丸アリ部２Ａを、基準側アリ溝部５Ａ、位置決め突起５Ｂおよび押圧部材９の間に挟んだ状態で、押圧部材９を進退させて参照レンズユニットを着脱させる構造とする。 （もっと読む）

【課題】
安価で信頼性の高い信号処理装置を提供する。
【解決手段】
本発明の信号処理装置は、被計測物の位置を計測する計測装置に用いられる信号処理装置１であって、被計測物の位置に応じた信号の位相を時間に対して回帰することにより、被計測物の速度を算出する回帰演算器１９と、第１のサンプリング時における被計測物の位置に回帰演算器１９で算出された速度を加算することにより、第２のサンプリング時における被計測物の予測位置を求める予測演算手段（加算器２２）と、位相演算手段で求められた第２のサンプリング時の計測位相から予測位置を減算して予測誤差を求める誤差演算手段（減算器２３）と、桁拡張した予測誤差を予測位置に加算することにより、第２のサンプリング時における被計測物の位置を求める位置演算手段（加算器２１）とを有する。 （もっと読む）

光イメージング装置は、光周波数領域測定法（ＯＦＤＭ）に基づいて、ＤＵＴの内部またはＤＵＴ上の複数の位置における散乱データを時間の関数として収集する。光源は検査対象デバイス（ＤＵＴ）の中に光を投入し、ＤＵＴはＤＵＴに沿った１つ以上の位置で光を散乱する。光検出器は、ＤＵＴに沿った複数の位置のそれぞれで散乱された光の一部を検出する。データはＯＦＤＭデータ処理を使用して決定される。これらのデータは、ＤＵＴに沿った複数の位置のそれぞれにおいて収集された時間の関数として表された光量に対応する。データは、ＤＵＴに沿った複数の位置のそれぞれに対して記憶される。記憶された時間領域データに基づいて、ＤＵＴに沿った複数の位置のそれぞれにおいて散乱された光量を示すユーザ情報が提供される。ＯＦＤＭ処理によって、精細な時間分解能（例えば、０．１ピコ秒）が得られ、それによって、小さな光遅延距離（例えば、３０ミクロン）を分解することができる。また、精細な時間分解能と同時に、検出するべき少量の散乱（例えば、１０^−１２）の正確な検出が可能になる。
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計測ターゲット設計が、計測ターゲット設計情報、基板情報、プロセス情報および計測システム情報を含む入力を用いて最適化される。測定システムによる測定信号の獲得が、計測ターゲットの１または複数の光学的特徴を生成するために入力を用いてモデル化される。計測システムによりなされた計測ターゲットの測定の予測精度および正確さを決定するために計測アルゴリズムが特徴に適用される。計測ターゲット設計に関する情報の一部が修正され、また、信号のモデル化および計測アルゴリズムが、１または複数の測定の精度および正確さを最適化するために、繰り返される。計測ターゲット設計が、精度および正確さが最適化された後に表示または格納される。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板と接着剤の屈折率差の大小に依存することなく、接着剤の膜厚を算出することを可能とする。
【解決手段】膜厚測定装置１は、基台１１上に設けられるとともに被検物４を載置させるための加熱器１２と、被検物４の加熱温度を制御するための加熱制御部１４と、被検物４の上方に配置されていて加熱された被検物４の膨張による高さ方向の変化量を測定するためのレーザー変位計１３と、被検物４の接着剤３の線膨張係数を入力するための入力部１５と、レーザー変位計１３により測定した被検物４の高さ方向の変化量、加熱温度、入力部１５で入力した接着剤３の線膨張係数に基づいて接着剤３の膜厚を算出する演算部１６とを備えている。 （もっと読む）

【課題】バーミラーを用いることなく、干渉計の測長光路を減圧して位置決め精度を向上させることで、ステージ外部の減圧が困難な加工装置等への適用及び装置の小型化を可能にする。
【解決手段】位置決め装置の固定部であるベース１は、Ｙガイド面２を有し、Ｙ凹空間部６、シール部７、Ｙ軸受８を有するＹスライダ３は、Ｙガイド面２に沿って移動する。Ｘ凹空間部９、シール部１０、Ｘ軸受１１を有するＸスライダ５は、Ｙスライダ３上をＸガイド面４に沿って移動する。干渉計２５ａ及びミラー２７ａ、２７ｂは、Ｘスライダ５のＸ凹空間部９に配置され、干渉計２５ｂ及びミラー２７ｃ、２７ｄは、Ｙスライダ３のＹ凹空間部６に配置される。各凹空間部６，９は、それぞれ排気ホース１５、１６によって減圧される。 （もっと読む）

【課題】データ高速処理装置を不要として小型化できる光センサ計測装置を提供する。
【解決手段】複数のＦＢＧセンサ３１，３２，３ｎからそれぞれ得られる反射光スペクトルが閾値以上となるデータに基づいて各反射光スペクトルの中心を求める演算回路４１と、複数のＦＢＧセンサ３１，３２，３ｎの各々からの反射光スペクトルの中心を求めるための最適な閾値をそれぞれ保存する閾値保存用レジスタアレイ４３と、複数のＦＢＧセンサ３１，３２，３ｎからそれぞれ得られる反射光スペクトルのデータと閾値保存用レジスタアレイ４３で保存されている最適な閾値とを比較して演算回路４１に各反射光スペクトルに応じた最適な閾値を出力する比較回路４４とを備えた。各ＦＢＧセンサ３１，３２，３ｎから反射される反射光スペクトルの中心を演算回路４１で計算するために必要な閾値を、予め閾値保存用レジスタアレイ４３で記憶された複数の最適な閾値から１つ選択する。 （もっと読む）

【課題】複雑な表面構造を有する対象物の表面トポグラフィおよび／または他の特性を、走査干渉分光法を用いて測定する。
【解決手段】試験対象物の第１の表面箇所に対する走査干渉分光信号から導出可能な情報と試験対象物の複数のモデルに対応する情報とを比較することを含む方法であって、複数のモデルは、試験対象物に対する一連の特性によってパラメータ化される方法。複数のモデルに対応する情報は、試験対象物の各モデルに対応する走査干渉分光信号の変換分（例えば、フーリエ変換分）の少なくとも１つの振幅成分についての情報を含んでもよい。第２の側面では、モデルは固定された表面高さに対応するとともに、固定された表面高さとは異なる一連の特性によってパラメータ化されている。第３の側面では、比較は、走査干渉分光信号の系統的な影響を明確にすることを含む。 （もっと読む）

【課題】ノッチ部を精度良く検査できる周部検査装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る周部検査装置は、周部にノッチ部１４が形成されたウェハ１０を保持する保持部と、ウェハ１０の周部を撮像可能な撮像部９０とを備え、撮像部９０により撮像されたウェハ１０の周部の画像を用いてウェハ１０の表面検査を行うように構成され、保持部に保持されたウェハ１０と撮像部９０とを撮像部９０の光軸方向に沿って相対移動させる駆動部と、撮像部９０の光軸上にノッチ部１４を位置させた状態で、駆動部により相対移動させながら撮像部９０により撮像したノッチ部１４を含んだ複数の画像について、それぞれの画像の画素毎に信号強度を求めるとともに複数の画像における同じ画素同士の信号強度を比較して、信号強度が最大となる画素を抽出し、抽出された複数の画素の画像を対応する画素位置に並べて合成しノッチ部１４の検査用画像を生成する画像処理部とを有する。 （もっと読む）

【課題】三次元形状測定装置において、単一の位置検出器で複数の複数の測定ミラーの変位を測定可能とする。
【解決手段】互いに平行なレーザービームが偏光ビームスプリッタ２０４の偏光面Ｅの異なる位置に入射する。一方のレーザービームは偏光面で２つに分岐して第１の測定ミラー４と参照ミラー６に入射する。他方のレーザービームは偏光面で２つに分岐して測定ミラー５と参照ミラー６に入射する。偏光ビームスプリッタ２０４と測定ミラー２１０，２１１の間には、測定ミラー２１０に向かうレーザービームを透過させ、測定ミラー２１１に向かうレーザービームを反射される部分反射ミラー２１４が配置されている。測定ミラー４，５と参照ミラー６で反射されたレーザービームの干渉から測定ミラー４，５の参照ミラー６に対する相対位置を算出する。 （もっと読む）

【課題】比較的簡単かつ高精度に被測定面の位置を測定することが可能な測定装置及び露光装置を提供する。
【解決手段】被測定面の位置を測定する測定装置１００は、光源１１２からの広帯域光を分離して一方を計測光として被測定面に導き、他方を参照光として参照面に導く投光光学系１２０と、計測光と参照光とを合成して両者の干渉光を検出する受光光学系１３０と、を有し、投光光学系１２０と受光光学系１３０は全体として複数のビームスプリッタ１２５、１３２を有し、各ビームスプリッタは、参照光が複数のビームスプリッタ１２５、１３２において反射及び透過する回数と、計測光が複数のビームスプリッタ１２５、１３２において反射及び透過する回数と、が等しくなるように配置されている。 （もっと読む）

【課題】回転対称で複雑な被検面の形状を高精度に光干渉計測できるようにする。
【解決手段】面中心軸Ｃが測定光軸Ｌと一致した基準姿勢から、被検面８０を径方向に分割してなる複数の輪帯状領域上に測定光軸Ｌが順次移動するように、被検面８０の相対姿勢を順次変更し、相対姿勢が変更される毎に被検面８０を回転軸Ｅ回りに回転せしめる。回転する被検面８０に対して、ミロー対物干渉光学系２３より収束しながら進行する測定光を照射し、複数の回転位置毎に、各回転位置別干渉縞を１次元イメージセンサ３２により撮像する。撮像された各回転位置別干渉縞に基づき各輪帯領域別形状情報を求め、これらを繋ぎ合わせることにより測定領域全域の形状情報を求める。 （もっと読む）

【課題】比較的簡単かつ高精度に被測定面の位置を測定することが可能な測定装置、測定方法、コンピュータ、プログラム及び露光装置を提供する。
【解決手段】被測定面の位置を測定する測定装置１００は、光源１１２からの広帯域光を分離し、一方を計測光として被測定面に案内し、他方を参照光として参照面に案内し、計測光と参照光によって形成される干渉光を光電変換素子１３７で検出する干渉計と、光電変換素子１３７が検出した干渉信号をフーリエ変換して位相分布及び振幅分布を求め、位相分布データＰ４を補正用位相分布データＰ３で補正した後、補正された位相分布データＰ４ａ及び振幅分布データＡを逆フーリエ変換して得られる干渉信号に基づいて被測定面の位置を算出するコンピュータと、を有する。 （もっと読む）

【課題】位置計測用のマークが存在しない移動体の位置を管理することを可能にする。
【解決手段】 所定形状のプレート５０が着脱可能に搭載された移動体ＷＳＴの位置をその移動座標系を規定する計測装置１８等で計測しつつ、プレート５０の一部をアライメント系ＡＬＧで検出するとともにその検出結果と対応する前記計測装置の計測結果とに基づいてプレート５０の外周エッジの位置情報を取得する。このため、その移動体ＷＳＴ上に位置計測用のマーク（基準マーク）などが存在しなくても、プレートの外周エッジの位置情報に基づいて、プレートの位置、すなわち移動体の位置を前記計測装置で規定される移動座標系上で管理することが可能になる。 （もっと読む）