【課題】反射面を通過した光束に発生する偏光成分による相対的な位置ずれなどの影響を実質的に受けることなく、被検面の面位置を高精度に検出することのできる面位置検出装置。
【解決手段】投射系は、第１反射面７ｂ，７ｃを有する投射側プリズム部材７を備えている。受光系は、投射側プリズム部材に対応するように配置された第２反射面８ｂ，８ｃを有する受光側プリズム部材８を備えている。第１反射面および第２反射面を通過した光束の偏光成分による相対的な位置ずれを補償するための位置ずれ補償部材をさらに備えている。 （もっと読む）

【課題】 樹脂製キャップに収容された部品の位置や形状を明確に把握することができるような樹脂製キャップ内部品の検査装置および樹脂製キャップ内部品の検査方法を提供する。
【解決手段】 照明手段３２がカメラ３１の撮像方向とは異なる方向から樹脂製キャップ２０の外面に光を照射し、カメラ３１が樹脂製キャップ２０の開口部２０１側から樹脂製キャップ２０内部の画像をカラーで取り込むので、アルミシール２２からの反射光をカメラ３１が取り込むのを回避でき、明確な画像を得ることができる。そして、画像処理手段３３が、カメラ３１により明確に取り込まれたカラー画像を２値化して内蓋２１の外形および注ぎ穴２１１の形状を検出するので、樹脂製キャップ２０に収容された部品の位置や形状を明確に把握することができる。 （もっと読む）

【課題】トロリ線の連続したエッジ検出を行うことができるトロリ線検査装置を提供する。
【解決手段】トロリ線検査装置において、トロリ線４を照らす照明３と、前記照明３の両脇に１台ずつ設置してトロリ線４を撮影する左カメラ１０及び右カメラ１１と、前記左カメラ１０及び右カメラ１１により撮影した画像中の前記トロリ線４の軌跡の下側のエッジを検出して前記トロリ線４の高さと偏位を測定する画像録画及び画像処理部２とを備えた。 （もっと読む）

【課題】
安価なモノクロカメラを使用するとともに撮像画像の画像データ処理を少なくして画像処理を高速に行うことができ、撮像時にワークの影が発生してもワーク外形の検出に影の影響を排除することができ、低コストでワーク外形検出方法及び画像処理システムを提供する。
【解決手段】
第１ステップで取得した撮像画像を床面と支持部の中間値の輝度を閾値として二値化し、二値化した画像データをマスクデータにする。支持部の表面の明度と同レベルの明度を有するワークを、支持部に支持した状態でモノクロカメラによりワーク台とともに撮像し、ワーク撮像画像を取得する。ワーク撮像画像から、マスクデータにおける支持部に関する画像領域５２，５４を消去して支持部消去画像を取得する。支持部消去画像から、支持部消去部分を含んだワーク外形線５７を抽出し、支持部消去部分を補間処理してワーク外形線５８を取得する。 （もっと読む）

【課題】マスクステージの回転中心の座標を精度良く求め、これによりマスクと基板との位置決めを高精度で行うことができるマスクの位置決め装置及びマスクの回転中心算出方法を提供する。
【解決手段】位置決め装置７０は、回転機構１６ｘを具備するマスクステージ１０と、マスクＭ及び基板Ｗに設けられた複数のアライメントマークＭｍ、Ｗｍを検知するための複数のアライメントカメラ１８と、アライメントカメラ１８により得られた画像を用いて各アライメントマークＭｍ、Ｗｍの位置が合うようにマスクステージ１０の動作を制御する制御装置７１と、を備える。アライメントカメラ１８は、各アライメントカメラ１８にそれぞれ対応するアライメントマークＭｍ、Ｗｍを撮像し、マスクステージ１０を回転させた後、各アライメントマークＭｍ、Ｗｍを再度撮影して、マスクステージ１０の回転中心Ｅの座標を算出する。 （もっと読む）

【課題】ダイナミックレンジの広いＺ方向範囲の高速な測定及びこれによる測定時間の短縮。
【解決手段】光源から被測定対象までの第１光路長と光源から参照面までの第２光路長との光路長差によって変化する被測定対象の干渉光強度分布画像を、撮像手段で撮像する第１の工程と、第１光路長と第２光路長の光路長差を光路長差変更手段で全走査区間に亘って変化させながら、全走査区間内に部分的に設定された複数の測定区間の干渉光強度分布画像を画像記憶手段に順次記憶する第２の工程と、画像記憶手段に記憶された各測定区間の干渉光強度分布画像の各測定位置における光路長差の変化に伴う干渉光強度の変化を示す干渉光強度列から、全走査区間における干渉光強度列のピーク位置を求め、このピーク位置から被測定対象の各測定位置における光軸方向の位置を求める第３の工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】アライメントマークの検出条件を最適化する。
【解決手段】アライメント検出系を用いてウエハ上に形成されたアライメントマーク（ＥＧＡマーク又はサーチマーク）が複数の照明条件及び結像条件で検出される。しかる後、得られた検出信号を信号処理アルゴリズムを用いて解析処理し、検出信号の波形の形状に関する判定量が求められ（ステップ３０２〜３１０）、その判定量に基づいて複数のマークの検出結果の再現性が評価される（ステップ３１２）。そして、その解析結果に基づいて複数の照明条件及び結像条件が最適化される（ステップ３１４）。これにより、検出結果の再現性を向上するようにアライメントマークの検出条件を最適化することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】精度の高い測定結果を得る。
【解決手段】広帯域スペクトルを有する光源からの光を被測定対象と参照面とに導きその光路長差により干渉光強度分布画像を生成する光学系と、干渉光強度分布画像を撮像する撮像手段と、光路長差を変化させる光路長差変更手段と、干渉光強度分布画像から各測定位置における光軸方向の位置を求める演算手段とを備える。演算手段は、複数の信号発生手段と、その出力信号に重み付けをして出力する重み付け手段と、周期信号を加算して検出信号として出力する第１の信号加算手段と、直流信号と検出信号とを加算する第２の信号加算手段と、干渉強度列から第２の信号加算手段の出力を減算して誤差信号を出力する信号減算手段と、誤差信号から重み付け手段の重みを調整する適応アルゴリズム部とを有する適応信号処理ブロックと、検出信号のピーク位置を検出するピーク検出ブロックとを有する。 （もっと読む）

【課題】光制御板に形成された凹凸形状を簡易に評価することが可能な形状評価方法を提供する。
【解決手段】凹凸形状13が形成された第１の面11と当該第１の面11と反対側に位置する第２の面12とを有し、凹凸形状13が第１の方向11に延在しているサンプル光制御板1の凹凸形状13を評価する形状評価方法は、第１の面11から光を入射した場合の第１の全光線透過率Tt1及び第２の面12から光を入射した場合の第２の全光線透過率Tt2の少なくとも一方を用いて規定される指標を凹凸形状13を表す指標とし、サンプル光制御板1に対して、第１及び第２の全光線透過率Tt1，Tt2の少なくとも一方を測定して上記指標を取得する取得工程と、凹凸形状が既知の基準光制御板に対して予め取得した指標と凹凸形状との相関関係に基づき、取得工程で取得した上記指標から、サンプル光制御板1の凹凸形状13を評価する評価工程とを有している。 （もっと読む）

【課題】簡便な光源を利用した場合であっても光の反射による外乱の影響を抑えて光透過性薄膜の厚さを確実に算出できるようにする。
【解決手段】光透過性薄膜１０２の表面にレンズが合焦した状態では基板１０１の表面をフォーカスアウトさせて基板１０１から反射される光が合焦判定の外乱として作用することを防止する一方、基板１０１の表面にレンズが合焦した状態では光透過性薄膜１０２の表面をフォーカスアウトさせて光透過性薄膜１０２から反射される光が合焦判定の外乱として作用することを防止し、基板体１００の平面上の同一箇所（ｘｉ，ｙｉ）で光透過性薄膜１０２を含めた基板体１００の厚さと光透過性薄膜１０２を除いた基板１０１のみの厚さの差分に基いて光透過性薄膜１０２の厚さを適切に算出する。 （もっと読む）

【課題】複数レイヤ試料の２つのレイヤ間のオーバレイ誤差を決定する方法を提供する。
【解決手段】試料の第１レイヤから形成される第１構造および第２レイヤから形成される第２構造をそれぞれ有する複数の周期的ターゲットについて、光学システムを用い、周期的ターゲットのそれぞれについて光学信号が計測される。第１および第２構造の間には既定義されたオフセットが存在する。散乱計測オーバレイ技術を用いて既定義されたオフセットに基づいて周期的ターゲットからの前記計測された光学信号を分析することによって第１および第２構造間のオーバレイ誤差が決定される。本光学システムは、反射計、偏光計、画像化、干渉計、および／または走査角システムのうちの任意の１つ以上を備える。 （もっと読む）

【課題】保護テープが貼着された被加工物の厚みを正確に検出し、被加工面に傷を付けることがない厚み検出装置および厚み検出装置を装備した研削機を提供する。
【解決手段】チャックテーブルに保持され加工され厚みが減少する被加工物の厚みを検出する厚み検出装置であって、被加工物の上面および下面で反射する反射光を受光したイメージセンサーの検出信号に基づき分光干渉波形を求め、分光干渉波形と理論上の波形関数に基づき波形解析を実行し、被加工物の上面および下面で反射した反射光間の光路長差に基づき被加工物の厚みを求める第１の演算手段と、イメージセンサーの検出信号に基づき特定波長を通過する分光干渉波形の数をカウントする第２の演算手段とを備え、被加工物の厚みが所定の厚みに達するまでは第１の演算手段により被加工物の厚みを求め、被加工物の厚みが所定の厚みに達したならば第２の演算手段により被加工物の厚み減少量を求める。 （もっと読む）

【課題】物体光について光路長を変えて何度も多数の干渉縞を撮影する必要なく、バンプの高さ測定や形状検査を、簡単かつ正確に行うことを可能とする。
【解決手段】２つの光源２１、２２からの互いに異なる波長の光を重ね合わせたビート光を、分割して、一方を参照ミラー２８で反射させて参照光とし、他方をバンプ２３に照射し反射させて物体とし、参照光と物体光を重畳し干渉させて生じる干渉縞をＣＣＤ３０で撮影して、干渉縞像からバンプの高さ測定又は形状検査を可能とし、ビート光の波長Λ／２は、測定すべきバンプ２３の設計仕様における高さより大きくなるように、２つの光源のそれぞれの波長λ１、λ２を設定する。 （もっと読む）

【課題】簡素な構造で立体形状を高精度に計測可能な計測装置を提供する。
【解決手段】計測装置１００は、複数の波長成分を有する光を計測物５０に照射する光源１と、軸上色収差を有する回折レンズ２と、干渉画像生成部３と、分光画像生成部２１と、立体形状算出部２２とを備える。干渉画像生成部３は回折レンズ２からの光を、可変の光路長差を有する光束Ｌ１，Ｌ２に分割するとともに、その光束Ｌ１，Ｌ２を重ねることで干渉画像を生成する。分光画像生成部２１は、干渉画像が有する干渉光の強度の情報をフーリエ変換することによって、計測物５０からの光の分光スペクトルの情報を有する分光画像を生成する。波数ごとに分光画像は生成される。この分光画像に基づいて合焦点位置が算出されるとともに、その合焦点位置から計測物５０の立体形状が算出される。 （もっと読む）

【課題】被計測物に損害を与えずに、被計測物の形状を正確に計測する。
【解決手段】形状測定装置１１は、スペックルパターン２が投影された被計測物１を撮像する撮像装置１３、１４を備え、撮像装置１３で撮像された画像と、撮像装置１４で撮像された画像とから被計測物１の形状を計測するものである。被計測物１に対して、スペックルパターン２を白色光によって投影する投影装置１２を備えている。撮像装置１３と撮像装置１４は、撮像装置１３で撮像された被計測物１の画像と、撮像装置１４で撮像された被計測物１の画像とが互いに角度がずれて撮像される位置に、配置されている。 （もっと読む）

【課題】複数の方向から計測対象物体を撮像して三次元形状を計測する三次元形状計測装置のキャリブレーションを、簡便な作業で短時間に行う。
【解決手段】三次元形状計測装置１は、キャリブレーション用ブロックと、撮像部１２−１，１２−２がそれぞれ撮像した撮像画像領域から、キャリブレーション用ブロックの上面に照射されたスリット光による光切断線をそれぞれ検出する光切断線検出部２３と、光切断線検出部２３がそれぞれ検出した光切断線から特徴点をそれぞれ検出して二次元座標値を取得する特徴点検出部２４と、二つの撮像画像領域それぞれにおける特徴点の二次元座標値を単一の二次元座標系の二次元座標値に変換するための座標変換パラメーターを計算する座標変換パラメーター計算部２５とを備えた。 （もっと読む）

【課題】三次元形状の測定精度の悪化を抑制する。
【解決手段】対象物への検出光の投光と撮像との第１の投光撮像条件において対象物の所定部分の撮像結果から特定される第１座標データと、第２の投光撮像条件において該所定部分の撮像結果から特定される第２座標データとを取得する取得手段と、第１座標データと、第２座標データとの空間配置関係の一致度に基づいて、第１座標データの各座標が、該所定部分の実際の三次元形状を表現した実座標であるか、該実座標以外の非実座標であるかを判別する判別手段とを備える。第１座標データと、第２座標データとは、第１の投光撮像条件と第２の投光撮像条件との既知の幾何学的な関係に基づいて所定の三次元座標系で表現されており、空間配置関係の一致度は、第１候補座標と、第２候補座標とについての空間配置関係によって算出される。 （もっと読む）

【課題】従来の検査装置の設備をできるだけ利用しつつ、従来に比べて、撮像手段の配置の制約を緩和させ、より自由度の高い設定を可能とし、より汎用性が高く、取り扱いが容易な物品検査装置を低コストで提供する。
【解決手段】物品１１を搬送する搬送手段２と、物品１１を上方側から撮像する第１撮像手段３ｄと、側方側から撮像する第２撮像手段３ａ、３ｂと、制御手段６と、を備え、上面画像１２及び側面画像１３、１４を取得し、実際の物品の長さが略同一となる対応関係を有する部位を基準部位とし、第１の長さＬ１として上面画像における基準部位の長さを測定し、第２の長さＬ２として側面画像における基準部位の長さを測定し、第３の長さＬ３として側面画像における測定部位の長さを測定し、第１の長さＬ１と第２の長さＬ２との対応関係に基づいて、第３の長さＬ３を補正して測定部位の長さＸを算出する。 （もっと読む）

【課題】分光器の分解能が異なる場合に発生するコントラスト差を補正する。
【解決手段】光源から照射された測定光の対象物体からの戻り光と、光源から照射された参照光のミラーからの戻り光とを合波して、分光器により分解されて検出された波長スペクトルに基づいて対象物体の断層像を構成する構成部を備える光干渉断層撮像装置であって、分光器の分解能を含む対象物体の測定条件を選択する選択部と、構成部により構成された断層像の光強度を、選択部により選択された分光器の分解能ごとに予め定められた伝達関数によって規格化する規格化部と、規格化部により規格化された断層像の光強度から画像を形成する画像形成部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】回転対称な線織面または互いに離間した複数の平面からなる被検面の傾斜角度、形状および径の大きさ等を短時間で測定可能な被検面測定装置を得る。
【解決手段】円錐レンズ３１と回折光学素子３２とからなる光偏向素子３０を配置し、測定光を照射する。光偏向素子３０に入射した測定光の一部は、参照基準面３１ｂにおいて参照光として反射され、その余は光偏向素子３０により放射状に偏向されて被検面７１の各部に垂直に照射される。被検面７１の各部から再帰反射された測定光の一部は、光偏向素子３０を経由し被検光として参照基準面３１ｂに戻る。この被検光と参照光の光路長差が低干渉光源１１からの出力光の可干渉距離以下となるように迂回路部１３における迂回距離の調整がなされ、撮像カメラ２３により撮像された干渉縞画像に基づき、被検面７１の各部の傾斜角度、形状および径の大きさが測定解析される。 （もっと読む）