【課題】 本発明は、対象物の三次元形状を精度良く測定する三次元測定装置を提案する。
【解決手段】 三次元測定装置（１００）は、試料（Ｔ）の表面からの反射光を結像する結像光学系（１０）と、結像光学系を介して試料の表面を撮像する撮像部（１５）と、結像光学系の焦点位置と試料の位置とを結像光学系の光軸方向に相対的に変化させながら撮像部で撮像して得た複数の画像に基づいて試料の三次元形状を算出する三次元算出部（１７）と、を備える。そして結像光学系は、ｆ＊θ＜ｈ＜ｆ＊ｔａｎθの関係を満たす。
ここで、ｆ：結像光学系の焦点距離、ｈ：結像光学系の光軸から試料の任意の点までの距離、θ：結像光学系の光軸と結像光学系から試料への主光線とのなす角とする。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリント成型積層体の欠陥検査や膜厚測定を簡便かつ迅速に、非破壊で行うことが可能な検査方法を提供すること。
【解決手段】本発明の検査方法は、鋳型モールドを用いるナノインプリント法により成型されたレジスト材料からなる膜層を有する基板に対して、レジスト材料を発光させる励起波長の光を照射し、基板上の成型されたレジスト材料からなる膜層からの発光を発光パターン画像として取得する工程(1)と、該発光パターン画像を、成型に用いた鋳型モールドのパターン画像又は同一鋳型モールドで繰り返し成型した該発光パターン画像と異なる発光パターン画像と比較し、画像の相違点を欠陥として検出する欠陥検出工程(2)及び／又は、該発光パターン画像を発光強度により解析し、発光強度の値から膜厚を測定する膜厚測定工程(3)とを含み、半導体、配線基板、電子デバイス、光学デバイス等の製造における品質管理に有用である。 （もっと読む）

様々な計測システムおよび計測方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】基板に形成された裏面側マーク及び表面側マークを検出することができる検出装置を提供する。
【解決手段】レチクルのパターンが転写される基板の表面側及び裏面側のそれぞれに形成された表面側マーク及び裏面側マークを検出する検出装置であって、前記基板を透過する波長を有する第１の光と前記基板を透過しない波長を有する第２の光とを射出する光源と、光電変換素子と、前記光源から射出した第１の光を前記基板の表面側から前記裏面側マークに照射して前記裏面側マークで反射した第１の光により前記裏面側マークの像を前記光電変換素子の受光面に形成すると共に、前記光源から射出した第２の光を前記基板の表面側から前記表面側マークに照射して前記表面側マークで反射した第２の光により前記表面側マークの像を前記光電変換素子の受光面に形成する光学系と、を有することを特徴とする検出装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】検査時における照明光の光量を安定させた表面検査装置を提供する。
【解決手段】表面検査装置１は、照明部が、ランプハウス６１からの光のうち所定の波長領域の光を透過させるバンドパスフィルターが設けられた波長選択機構７０，７５を有し、当該バンドパスフィルターを透過して得られた所定の波長領域の光を照明光として被検基板１０の表面に照射するように構成されており、紫外光を遮断するＵＶカットフィルター６５がランプハウス６１と波長選択機構７０，７５との間の光路上に挿抜可能に設けられ、非検査時にＵＶカットフィルターが光路上に挿入され、また前記ＵＶカットフィルターの保持基板に「(1)熱線吸収膜(2)熱線反射膜及び熱線吸収膜の積層膜(3)熱線吸収膜及び熱伝導性膜の積層膜(4)熱線反射膜及び熱伝導性膜の積層膜(5)熱線反射膜、熱線吸収膜及び熱伝導性膜の積層膜の」うちのいずれかが設けられている。 （もっと読む）

【課題】画像測定装置のための入射角高速可変照射装置を提供する。
【解決手段】画像測定装置のための入射角高速可変照射装置は、ビームを第１光路部に沿うように方向付ける光源と、ビームを受けるとともにビームを第２光路部に沿うように指向させるビーム指向構成と、それぞれの入射角度をなして構成された複数の表面部を含み、ビームを受けるとともにビームを第３光路部に沿うように視野に偏向させるビーム偏向構成とを含む。ビーム指向構成は、ビーム偏向構成へ向かうビームに狭いまたは広い発散のいずれかを提供する異なるビーム指向表面部を含む。照射装置は、照射の入射角度の高速調整だけでなく、角度前後の角度の範囲（狭いまたは広い）の高速調整をも可能にする。照射装置は、高輝度遠隔光源により提供される光とともに用いるために特に好適である。 （もっと読む）

【課題】被加工物の上面高さを計測する計測装置および計測装置を装備したレーザー加工機を提供する。
【解決手段】被加工物Ｗに向けて白色光を発光する白色光源６１と、発光した光が有する各波長を回折する回折手段６２と、回折された光の中央部を遮蔽して光を環状に形成するマスク手段６３と、形成された環状の光の像をリレーするリレーレンズ６４と、伝達された環状の光を集光して被加工物に照射する対物レンズ６５と、マスク６３手段とリレーレンズ６４との間に配設され被加工物に照射された光の反射光を分光するビームスプリッター６６と、分光された反射光における光軸を通る波長の反射光を通過させる光分別手段６７と、通過した反射光を回折光に変換する回折格子６８と、回折された回折光の波長を検出する波長検出手段６９と、波長検出手段６９からの波長信号に基いて被加工物Ｗの高さ位置を求める制御手段とを具備している。 （もっと読む）

【課題】高スループットかつ高感度の欠陥検査装置を提供すること。
【解決手段】広帯域波長の照明を用いて結像性能を向上させることが有効である。そこで、従来の屈折型光学系より広帯域波長の照明が使用可能な反射型光学系を用い、更に良好な収差状態を得られるレンズ外周部の円弧形状のスリット状視野にする。しかしこの方式は、受光面での各検出画素寸法の違いによる明るさの差と、センサの出力配列を視野内の位置座標に対応付けることが課題である。課題を解決するために、明るさの差及び座標を画素位置に応じて個別に補正する。 （もっと読む）

【課題】安価な撮像装置を用いてタイヤ表面歪みの変化を測定できるタイヤ解析システムおよびタイヤ解析方法を提供すること。
【解決手段】このタイヤ解析システム１は、所定の試験条件を入力したときのタイヤ形状の変化やタイヤ表面歪みの変化を測定することによりタイヤの挙動解析を行うシステムである。このタイヤ解析システム１は、タイヤ表面の一部にタイヤ周方向に沿って配列された複数の解析用格子面Ｓを相互に異なる方向から同時に撮像する複数のカメラ３１、３１と、これらのカメラ３１、３１から取得した画像データに基づき解析用格子面Ｓの三次元座標を算出すると共にこの三次元座標に基づきタイヤ表面歪みの変化を算出する処理装置４とを備えている。そして、タイヤ１０が回転して解析用格子面Ｓが所定の撮像位置に来たときに、カメラ３１、３１が解析用格子面Ｓを撮像している。 （もっと読む）

【課題】多重反射の影響を抑えて測定精度を向上させた三次元形状測定装置を提供する。
【解決手段】三次元形状測定装置１が、測定対象物５に対して周期的な光強度分布を有した縞パターン１５を投影するパターン投影部１０と、測定対象物５に投影された縞パターン１５を撮像するパターン撮像部２０と、パターン撮像部２０に撮像された縞パターン１５の画像に基づいて、測定対象物５の三次元形状を測定する画像処理部３１とを備え、パターン投影部１０は、縞パターン１５を領域分割した複数の分割縞パターンを個別に測定対象物に対して投影可能に構成され、パターン撮像部２０は、個別に測定対象物に投影された分割縞パターンを撮像し、画像処理部３１は、複数の分割縞パターンについてパターン撮像部２０にそれぞれ撮像された分割縞パターンの画像に基づいて、測定対象物の三次元形状を測定するようになっている。 （もっと読む）

【課題】測定対象物の測定範囲が撮像領域と比較して極小・広大の何れの場合であってもその測定対象物の表面上の位置を測定可能な位置測定装置及び位置測定方法を提供する。
【解決手段】ワーク２６よりも小さい寸法の撮像領域３０を有する撮像素子５０を、ワーク２６の表面３２上を相対的に移動させながら、ワーク２６の表面３２を撮像する。撮像領域３０内の画像Ｉ（ｔ）からワーク２６の表面３２上の模様（例えば、丸型溝８２）を抽出し、抽出された前記模様の、撮像領域３０内の画像Ｉ（ｔ＋１）中での変位量を検出し、検出された前記変位量及び前記寸法に基づいてワーク２６の表面３２上の位置を測定する。 （もっと読む）

【課題】生体試料の三次元形状を高精度に測定することが可能な構成の形状測定方法、画像処理プログラム、観察装置を提供する。
【解決手段】生体試料たる受精卵とこの受精卵の像を結像する第１観察光学系との光学的距離を変化させながら第１撮像装置により受精卵を一方側から順次撮影した複数の第１画像と、受精卵とこの受精卵の像を結像する第２観察光学系との光学的距離を変化させながら第２撮像装置により受精卵を他方側から順次撮影した複数の第２画像とを取得し、複数の第１画像及び第２画像に基づいて合焦測度を画素単位で算出し、受精卵の一方側の領域については第１画像より得られた合焦測度情報を優先適用し、受精卵の他方側の領域については第２画像より得られた合焦測度情報を優先適用して各画素の合焦点を求め、合焦点位置に基づいて受精卵の三次元形状を構築する。 （もっと読む）

【課題】試料表面のパターン形状の良否を、環境温度変化の影響を受けることなく判定する表面検査方法を提供する。
【解決手段】偏光子７及び対物レンズ９を含み、ウェハ１０の表面を照明する照明光学系２１と、ウェハ１０の表面からの反射光を、対物レンズ９を介して集光し、偏光子７とクロスニコル条件を満たすように配置された検光子１２を通して対物レンズ９の瞳面の像を結像する検出光学系２２と、瞳面の像を検出する第１の撮像素子１７と、を有する表面検査装置１００による表面検査方法は、第１の基準像を取得する第１のステップと、検査像を取得する第２のステップと、第２の基準像を取得する第３のステップと、第１及び第２の基準像の階調値の差を求め、当該差が所定値を越えたときに、検査像の階調値を補正する第４のステップと、補正後の検査像及び第１若しくは第２の基準像の階調値を用いてウェハ１０の欠陥を検出する第５のステップと、を有する。 （もっと読む）

【課題】測定対象物の検査方法を提供すること。
【解決手段】基板に装着された素子の検査方法において、素子に対応する形状テンプレートを生成する段階と、照明部の格子パターン光を基板に照射してピクセル別高さ情報を獲得する段階と、ピクセル別高さ情報に対応してコントラストマップを生成する段階と、コントラストマップと形状テンプレートとを比較する段階と、を含む。本発明によると、測定対象物を正確に抽出することができる。 （もっと読む）

【課題】複数の突起部を有する検査対象物を迅速に検査する。
【解決手段】検査装置は、検査対象物Ａ載せる透明なテーブル１２と、テーブル１２の下面から光の強度が周期的に変化する光パターンを照射する光照射部と、光パターンが照射された検査対象物Ａを、テーブル１２の下面から撮影する撮像部２２と、検査対象物Ａの画像を処理して、検査対象物Ａの表面の３次元形状を表す表面形状データを生成する画像処理部１０３と、表面形状データにより表される検査対象物Ａにおける複数の突起部それぞれにおいて、テーブル１２の上面に対する位置を示す値の代表値を決定する代表値決定部１０２と、複数の突起部それぞれにおける代表値の分布が予め設定された基準を満たしているかを判定する判定部１０１と備える。 （もっと読む）

【課題】赤外光を用いた場合であっても、測定用マークの位置を高精度に測定することができる技術を提供する。
【解決手段】赤外光を測定マークに照射し、測定用マークの像を撮像素子の撮像面に形成する光学系を用いて、測定用マークの位置を測定する測定方法であって、前記光学系によって赤外光を前記測定用マークに予め定められた時間照射した後、赤外光の照射を遮断した状態において、前記光学系の光学素子から放射される赤外光による画像を撮像する第１の撮像ステップと、赤外光を照射した状態において、前記光学系の光学素子及び前記測定用マークで反射された赤外光にる画像を撮像する第２の撮像ステップと、前記第２の撮像ステップで撮像した第２の画像から前記第１の撮像ステップで撮像した第１の画像を差し引いた第３の画像を生成する生成ステップと、第３の画像に基づいて、前記測定用マークの位置を算出する算出ステップと、を有する。 （もっと読む）

【課題】オートコリメータ自身の発光光に対して光軸を表示する機能を、視野内スケールの組立精度を変えることなく実現する。
【解決手段】対物レンズから平行光を出射して被測定面の平面度を光学的に非接触で測定するオートコリメータにおいて、
前記平行光を出射する対物レンズと被測定面の間にコーナキューブを配置し、オートコリメータの視野にオートコリメータ自身の光軸位置を表示する。 （もっと読む）

観察スクリーンに背後から投射するように構成された光学コンパレータは、検査されるテスト部品の光学画像を観察スクリーンに投射する光学プロジェクタと、画素化テンプレートパターンの光学画像を同観察スクリーンに投射するビデオプロジェクタとを結合する。このテンプレートパターンは、テスト部品の描画された設計仕様を含む。テスト部品の形状を設計された形状と視覚的に比較するために、テスト部品の画像と画素化テンプレートパターンの画像が、観察スクリーンに同時に投射される。
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【課題】第８世代や第１０世代のガラス基板に対する欠陥検査や欠陥修正に対応できる基板保持装置を実現する。
【解決手段】本発明による基板保持装置は、固定端とテンション端との間に張架されると共に第１の方向に沿って延在する支持ワイヤ（７〜１０）を含む複数のワイヤ支持機構（３〜６）と、ワイヤ支持機構の各支持ワイヤに対して第１の方向に沿って移動可能に連結されたステージ（３０）と、ステージを第１の方向に案内するガイド手段（４４）と、ステージを第１の方向に沿って移動させる駆動装置（５１，５３）とを具える。ワイヤ支持機構の各支持ワイヤは、同一の平面内において互いに平行に張架され、複数の支持ワイヤ上に基板が載置された際、当該ステージは、支持ワイヤ上に載置された基板の裏面と直接対向しながら第１の方向に移動する。ステージは、基板の裏面と直接対向しながら第１の方向に移動するので、支持ワイヤによる影響を受けることなく各種処理を行うことができる。 （もっと読む）

２次元及び３次元の位置検出システム、ならびにそのシステムで使用されるセンサが開示される。センサは、線形アレイセンサ、及び、光又は他の放射線がセンサの大部分の素子に到達するのを遮るための開口プレートを内包する。相対的な放射線源の方向が、各センサの内の放射されたセンサ素子に基づいて、決定される。センサは、放射線源の位置を推定可能とするために、システム内に組み合わされる。
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