【課題】干渉光学系を用いた表面形状測定方法および装置において、複数の干渉縞画像を撮像し、測定対象の表面形状を正確に計測できる表面形状測定方法および測定装置を提供する。
【解決手段】光の進行方向に対して異なる角度の参照面による複数の干渉縞画像を取得する第１の過程と、前記複数の各干渉縞画像の同一座標における干渉縞振幅を比較し、その最も大きな干渉縞振幅を持つ干渉縞画像から得られる高さを実高さとする第２の過程とを備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】統計的干渉計測法の円滑な実施を可能にする微小変位計測装置を提供する。
【解決手段】分岐したレーザ光を被測定物体１０の２点に照射し、その散乱光より得られるスペックル干渉画像から被測定物体の変位を求める計測装置であり、光線の位相を位相可変手段１７で違えて作成した第１、第２の基準スペックル干渉画像（基準画像）と測定対象のスペックル干渉画像（計測画像）との間の位相差を統計的干渉計測法で求める対基準画像位相差算出部３２と、各計測画像の位相差から計測画像間の変位を表す位相差を求める変位位相差算出部３３と、基準画像を更新する基準画像更新部３４とを有する。基準画像の更新により、統計的干渉計測法を用いて微小変位を計測する際の測定レンジを拡大することができる。 （もっと読む）

【課題】測定対象物の表面で各地点の微細な高さ変化（段差）や突出、凹入、表面損傷、表面粗さなどの表面状態を正確に測定できる光学式表面測定装置及び方法を提供する。
【解決手段】干渉計の信号及びＰＳＤの焦点誤差信号を共に利用することで、測定対象物の微細な表面状態をより正確に測定することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光の干渉現象を利用した、短時間で精度よく被測定体の平面度を測定するための方法、及びそれを利用した高平面度加工方法を提供する。
【解決手段】一対の対向被測定体の対向面間所定位置における対向面間距離を測定するための装置を用いる。その測定装置は、狭帯域光発生手段と、狭帯域光発生手段より発生し一対の対向被測定体から透過された透過光を集光するための集光手段と、集光手段により集光された透過光を受光し、受光した透過光に対応する電気的像を表示するために用いることが可能な電気的信号へと、受光した透過光を変換するための受光及び変換手段と、を含む。集光手段は、対向面内所定位置から出射した透過光を集光することにより、所定位置における対向面間距離に対応した干渉条件に従って干渉する透過光を集光することが可能である。 （もっと読む）

【課題】液浸型露光装置においてウエハ上に形成された計測用マークを検出する。
【解決手段】マークが形成されたウエハの表面に撥液膜を形成し（ステップ６００）、該撥液膜を介してマークが形成されたウエハ上の領域に光を照射し、該光の物体からの戻り光を受光して前記領域を撮像し（ステップ６０８）、該撮像結果からマークの形成状態を検出する（ステップ６１０）。このため、検出に際して液体の付着が問題とならず、常時液浸タイプの露光装置においても、結像式アライメントセンサ等を用いてマークの形成状態の高精度な検出を、支障なく行うことが可能となる。さらに、撥液膜の膜厚等に応じて検出光の波長帯域を決定し（ステップ６０２）、その波長の検出光を用いて前記領域を撮像することにより、撥液膜による薄膜干渉の影響を受けることなく、マークの形成状態を正確に検出することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】シルエットとして投影できない形状のエッジでも、非接触で、加工途中のワークなどを精度高く、かつ、リアルタイムで輪郭形状を数値的に測定可能とする光学的なエッジ検出装置を提供すること
【解決手段】本発明のエッジ検出装置は、投影光学系の光軸１６ａと平行な光線を遮光するアンチピンホールフィルタ２５を備えた投影光学系と、投影光学系の光軸１６ａと一定の偏角θをもって配設された光源モジュール１１と、撮像素子２６と、コンピュータとを備え、光源モジュール１１の平行光に照射されたワーク１７からの反射光による投影画像を撮像素子で撮像し、エッジ近傍の信号強度を判定し、２本の帯状の高輝度の部分に挟まれた低輝度の線状部分をエッジと判定する。そのため、ワークのエッジを正確に検出でき、これを画像処理により数値処理することでＣＡＤやＮＣ制御と連動させることができる。 （もっと読む）

【課題】欠陥散乱光の偏光特性に依存されずに欠陥像を顕在化する空間フィルタリング技術と正常パターンの明るさ飽和を抑制して欠陥捕捉率を向上する欠陥検査方法とその欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】検出光路を偏光分岐して少なくても一つ以上の光路にてアレイ状の空間フィルタを配置し、正常パターンからの回折光や散乱光をフィルタリングすることを特徴とする。また、正常パターンの散乱光量に応じて照明光量或いは／及び検出効率を画像検出中に制御することにより明るさの飽和を抑制した画像を得る。 （もっと読む）

【課題】被検面のパターン又は反射率分布の影響を低減させて、被検面の法線方向の位置情報を高精度に検出する。
【解決手段】計測光Ｌ１をレチクル面Ｒａに照射し、レチクル面Ｒａからの反射光Ｌ２を光電センサ３７で受光して、レチクル面Ｒａの面位置情報を検出する装置において、計測光Ｌ１をレチクル面Ｒａに照射して反射光Ｌ２を受光する対物レンズ３５と、対物レンズ３５を介した反射光Ｌ２を光電センサ３７に通すピンホール板３６とを含む共焦点光学系と、計測光Ｌ１にレチクル面Ｒａ上での照射面積を広げるように、かつ反射光Ｌ２にピンホール板３６上での照射面積を狭くするように位相分布を付与する位相板３３とを備える。 （もっと読む）

干渉計システムは、２つの間隔を空けて配置された参照フラットを含み得る。前記２つの間隔を空けて配置された参照フラットは、２つの平行参照表面間に光キャビティを形成する。第１のおよび第２の基板表面が対応する第１の参照表面および第２の参照表面に実質的に平行な様態で、前記第１のまたは第２の基板表面の間の空間が前記参照表面または減衰表面のうち対応するものから３ミリメートル以下の位置に来るように、前記基板を前記キャビティ内に配置するように基板ホルダが構成され得る。前記キャビティの直径方向において対向する両側においてかつ前記キャビティ光学的に結合して、干渉計デバイスが設けられ得る。
（もっと読む）

【課題】層構造を有する計測対象の複数の特定構造要素を適切に抽出すると共に、該特定構造要素毎の領域を検出する。
【解決手段】処理部２２は、光立体構造像生成部２２０、形状格納部２２１、閾値格納部２２２、断面画像抽出部２２３、特定要素抽出部２２４、特定要素分布算出部２２５、分布境界ライン抽出部２２６、欠落領域抽出部２２７、欠落領域特定要素抽出部２２８、欠落領域特定要素分布算出部２２９、欠落領域分布境界ライン抽出部２３０、合成画像生成部２３１、表示制御部２３６、Ｉ／Ｆ部２３７とを備えて構成される。 （もっと読む）

【課題】
コヒーレント照明イメージング・システムにおいて、スペックル雑音による画像の劣化を低減する。
【解決手段】
コヒーレント光源により照明されたオブジェクトの画像や、干渉縞パターンにより照明されたオブジェクトの画像等におけるスペックル雑音を低減する方法及び装置について記述した。一の方法では、投影軸に沿って投影されたコヒーレント放射の構造的な照明パターンによりオブジェクトが照明される。上記投影軸の角度方向が、画像取得期間に或る角度範囲において変調される。好ましくは、画像取得の間は、オブジェクトの表面に投影された構造的な照明パターンの形状特徴は変化せず、スペックル雑音の低減された画像が取得される。構造的な照明パターンとして、照明されたオブジェクトの表面情報を取得する３Ｄ測定システムにより生成される干渉縞パターンなどの縞パターンを用いることができる。 （もっと読む）

【課題】平面上の凹凸段差、曲面などが混在する測定面を有する測定対象物の表面高さおよび表面形状を高速かつ精度よく求める。
【解決手段】干渉縞を発生させて撮像した測定対象物の表面画像において、明部と暗部の組みからなる干渉縞の一周期ごとに輝度レベルが最大の画素と輝度レベルが最小の画素を選択する。選択された各画素の光の強度値とその近傍の画素の強度値を利用し、各画素に含まれる干渉縞波形の直流成分、交流振幅、および位相が等しいと仮定、位相を求め、高さを求める。この高さから測定対象物全体の高さを補間で求め、表面高さ、および表面形状を求める。 （もっと読む）

【課題】膜厚測定対象が非平面でもテラヘルツエコーパルスのパルス幅の増大がなく、膜厚測定分解能が低下しない膜厚測定装置を提供すること。
【解決手段】テラヘルツ波パルスＬtを発生するテラヘルツ波発生手段１と、テラヘルツ波パルスＬtを膜厚測定対象に入射させる入射光学系５と、膜厚測定対象から反射されてくるテラヘルツエコーパルスＬteを受光する受光光学系６と、テラヘルツエコーパルスＬteのパルス幅を短パルス化する短パルス化手段１５と、テラヘルツエコーパルスＬteの電場振幅時間分解波形を検出する検出手段７と、を有する膜厚測定ユニット１７を備えることを特徴とする非接触膜厚測定装置。 （もっと読む）

【課題】被検査物の移動部位が前記測定光の光軸方向に移動した位置情報を検出するに際し、精度を劣化させず、装置の簡素化と低価格化を図ることが可能な光断層画像撮像装置を提供する。
【解決手段】被検査物によって反射あるいは散乱された測定光による戻り光と、参照ミラーによって反射された参照光とを用い、前記被検査物の断層画像を撮像する光断層画像撮像装置であって、
参照ミラーの反射位置を制御する反射位置制御手段と、
照明用の光学系によって照明された被検査物の移動部位を、シャインプルーフの原理に基づいてエリアセンサに結像させて観察する移動部位観察用の光学系を備え、該移動部位が前記測定光の光軸方向に移動した際の位置情報を検出する移動部位の位置検出手段と、
移動部位の位置検出手段によって検出された位置情報を元に、前記反射位置制御手段を駆動して参照光の光路長を制御する手段と、を有する構成とする。 （もっと読む）

【課題】計算負荷が低く、処理時間が短くて済む周波数推定方法、周波数推定装置、表面形状測定方法及び表面形状測定装置を提供すること。
【解決手段】干渉縞や電気信号などの有周期性の観測データにおける周波数を推定する周波数推定方法であって、観測データを取得するステップと、仮定した任意周波数の正弦波状関数をモデル信号として前記観測データに適合させるステップと、前記観測データと前記モデル信号との部分的な位相のずれ量を求めるステップと、前記モデル信号の周波数と、前記位相のずれ量についての位相勾配とに基づいて、前記観測データの周波数を算出するステップとを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】被検査物の所定の部位における測定感度及び横分解能が高く、簡単な構成の光断層画像撮像装置および光断層画像の撮像方法を提供する。
【解決手段】光源からの光を測定光と参照光とに分割し、前記測定光を被検査物に導くと共に前記参照光を参照ミラーに導き、前記測定光による戻り光と、前記参照ミラーによって反射された参照光とを用い、
前記被検査物の断層画像を撮像するフーリエドメイン方式による光断層画像撮像装置であって、
前記参照光の光路長を調整する光路長調整手段と、
前記被検査物に前記測定光を集光させる集光手段の位置を調整する位置調整手段と、
前記被検査物の撮像を予定する部位に関し予め取得された情報に基づいて、前記光路長調整手段と前記位置調整手段とを制御する制御手段と、を有する構成とする。 （もっと読む）

【課題】層構造を有する被計測物体内の中間層を基板とした構造情報を視覚的に判断する。
【解決手段】処理部２２は、光構造情報検出部２２０、光立体構造像構築部２２１、中間層抽出手段としての中間層抽出部２２２、層平坦化手段としての平坦化処理部２２３、構造像変換手段としての光立体構造像変換部２２４、領域情報抽出手段及び水平断面画像生成手段としての水平断層画像生成部２２５、画像合成手段としての画像合成部２２６、表示制御手段としての表示制御部２２７及びＩ／Ｆ部２２８を備えて構成される。 （もっと読む）

【課題】めっき層表面に生じるめっき未着等の欠陥を安定的に検出することが可能な外観検査装置を提供する。
【解決手段】外観検査装置２０は、パッド部１１ａ、１１ｂと、パッド部１１ａ、１１ｂと異なる色彩をもつめっき層１２とを有する被検査基材１０の外観を検査するものである。外観検査装置２０は、被検査基材１０に対してパッド部１１ａ、１１ｂからの反射率と、めっき層１２からの反射率との差が大きくなる特定波長成分を含む光を照射する照明装置２３ａ−２３ｃと、被検査基材１０を撮像してグレー画像を取得するモノクロカメラ２２と、モノクロカメラ２２に接続された画像処理装置３０とを備えている。画像処理装置３０は、モノクロカメラ２２からのグレー画像に基づいて白黒画像を生成する二値化処理部３３と、白黒画像に基づいてめっき層１２の未着を判定する判定部３４とを有している。 （もっと読む）

本発明は、当該工業過程において品質制御を行うために、サーモグラフィ技術を利用することによりリアルタイムに透明な被写体の３次元モデル化を行うことができる３次元スキャナ（１）に関し、摺動部（２）、ヒータ（３）、サーマルカメラ（５）及び制御ユニット（６）を含む。
（もっと読む）

物体（３０１）の静止表面（３０５）の表面形状(topography)を決定するための方法は、（ａ）物体（３０１）の静止表面（３０５）における領域（３０１ａ）を選択するステップと、（ｂ）入射単色電磁波（３０２）を領域（３０１ａ）に向けるとともに、表面（３０５）および入射単色電磁波（３０２）を互いに相対移動させるステップであって、入射単色電磁波（３０２）は、周波数ｆ_０、振幅Ａ_０および伝搬方向によって特徴付けられ、移動方向（３０４）は、入射単色電磁波（３０２）の伝搬方向に対して実質的に平行でなく、表面（３０５）は、入射単色電磁波（３０２）を反射し、反射単色電磁波（３０３）を発生し、移動（３０４）は、移動周波数（Ｆ）および移動振幅（Ａ）によって特徴付けられるようにしたステップと、（ｃ）移動（３０４）の際、領域（３０１ａ）から反射した単色電磁波（３０３）の特性を決定するステップと、（ｄ）入射単色電磁波（３０２）の特性、例えば、周波数ｆ_０および反射単色電磁波（３０３）の特性、例えば、周波数ｆ_ｒを解析して、物体（３０１）の領域（３０１ａ）の表面形状に関する情報を取得するステップとを含む。対応するシステムも提供される。
（もっと読む）