【課題】露光時の走査方向の違いによって生じるスキャン精度の差異を求めることが可能
な表面検査装置を提供する。
【解決手段】露光によって作製されたパターンを有するウェハを照明光で照明する照明系
２０と、パターンで反射した照明光を検出する受光系３０および撮像装置３５と、撮像装
置３５により撮像されたウェハの回折画像からパターンの線幅を求め、走査方向によるパ
ターンの線幅の差を求める検査部４２とを備えている。 （もっと読む）

【課題】被測定物に対する面方向の分解能や測定位置の変更を容易に行うことができる形状測定装置を提供する。
【解決手段】光源１０と、光源１０からの光を２つの光束に分割して、一方の光束を被測定物Ｔに照射し、他方の光束を参照ミラー４０に照射させると共に、これらから反射された光を合波させるスプリッタ２０と、スプリッタ２０によって合波された光により得られる画像を撮像するＣＣＤ５０と、２つの傾き状態に制御される複数の微小ミラーを有するＤＭＤと、複数の微小ミラーを制御して被測定物Ｔや参照ミラー４０への照射光等を絞り込み、その状態で撮像された画像に基づき、測定点の高さを測定する制御手段と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】回転角度を高精度且つ短時間で測定すること。
【解決手段】エンコーダ本体２ａに対する回転軸３の相対的な回転角を検出するロータリエンコーダ２と、エンコーダ本体２ａ及び回転軸３から切り離され、エンコーダ本体２ａの回転角を検出する非接触角度検出手段２０（レーザ干渉式検出手段）とを備える。これにより、ロータリエンコーダ２が検出した回転角を、非接触角度検出手段２０で検出した回転角に基づいて補正することができ、回転角を高精度且つ短時間で測定することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】移動体の位置情報を精度良く計測できる位置計測装置を提供する。
【解決手段】位置計測装置は、移動面内を移動する移動体の位置情報を計測する。位置計測装置は、移動体の第１面に配置された移動格子に光を照射する光源と、光源との位置関係が固定で、移動格子で回折された光が入射する第２面を有し、入射した光を回折又は反射して移動格子に戻す固定光学部材と、移動格子を再度介して干渉された光を検出する検出装置と、を備え、第１面と第２面とはほぼ平行である。 （もっと読む）

【課題】受光部のフォーカス調整を容易に行う。
【解決手段】画像取得装置は、ガラス基板９上における線状の撮像領域を撮像する撮像ユニット２と、ガラス基板９を撮像領域と交差する方向に移動する移動機構とを備える。撮像ユニット２は、光照射部２１および受光部２３を有し、光照射部２１により撮像領域に光が照射され、撮像領域からの光が受光部２３のラインセンサへと導かれる。画像取得装置では、受光部回動機構が受光部２３を回転することにより受光部２３の光軸Ｊ２とガラス基板９の法線Ｎとのなす検出角θ２が変更される。撮像ユニット２は、光軸Ｊ２に沿って受光部２３を移動する受光部移動機構をさらに備え、検出角θ２の変位量に基づいて受光部移動機構を制御することにより、光軸Ｊ２上においてラインセンサの受光面と共役な位置Ｐがガラス基板９の表面に配置される。これにより、受光部２３のフォーカス調整が容易に行われる。 （もっと読む）

【課題】 光干渉法を用いて、１波長の単色光を測定対象面に照射し、測定対象面までの距離を変更して、少なくとも３枚以上の画像を撮像して、各画素の輝度値から位相計算をおこない、隣接画素の位相値を用いて三次元形状を測定する位相シフト法が用いられて来たが、隣接画素間の段差に波長による制約があった。
【解決手段】広帯域な波長特性を有する照射光から波長の異なる複数の単色光を抽出し、それらを混在させて、分岐手段を介して測定対象面と参照面に同時に照射し、測定対象面と参照面とから反射して同一光路を戻る反射光によって生じる干渉縞の画像を測定対象面と参照面とからの反射光路長の差を変化させて、取得した前記複数枚の画像を単色光ごとに分解し、単色光ごとに求めた各画素の位相から、複数個の表面高さの候補群を求め、各候補群から共通する高さを実高さとして求める。 （もっと読む）

【課題】パターンのムラ欠陥の生じない描画条件を導出し、製品の歩留まりを向上する。
【解決手段】基板上に描画するパターンのムラ欠陥が発生しない描画条件を導出する方法であって、基板上に形成するパターンを生成するパターン情報生成工程Ｓ１と、パターンに対して、複数の描画項目の組み合わせによる、２通り以上の描画条件を設定する描画条件設定工程Ｓ２と、前記生成されたパターンを抜き取り、補助基板上に、前記各描画条件のもとに、矩形領域をなす補助パターンを形成する補助パターン描画工程Ｓ３と、補助基板に対して照明光を入射し、補助パターンから生じる回折光を光電変換素子にて画像として取得し、ムラ欠陥に関するムラ評価値とムラ発生周期とを求めことにより、複数の描画条件の中からムラ欠陥が生じない描画条件を導出する描画条件判定工程Ｓ４とを含むパターンの描画条件導出方法である。 （もっと読む）

【課題】所定の特性を有する微小細粒（タガント）を物品に付与し、更にその分布位置に基づいて高精度に個々の物品を識別することが可能な個体識別装置等を提供する。
【解決手段】個々の物品１の基材１０上に、基材とは異なる光学反射特性を有し、かつ、異色の微細物質１２、並びに特徴的な図案及び形状等を有する微細物質をランダムに配置しておく。また個々の物品をスキャナ等により光学的に読み取り、所定の画像処理を施して微細物質の特徴点及びその特徴点における色情報に関する特徴量を抽出し、基準特徴量データとして記憶部に記憶しておく。識別対象となる物品を上述の読み取りの際と同様の手法で読み取り、同様の画像処理を施して微細物質の対象物特徴量データを抽出する。そして、抽出した対象物特徴量データと記憶されている基準特徴量データとを比較することにより識別対象とする物品と基準物品とが同一個体であるか否かを判定する。 （もっと読む）

【課題】高精度に被検面と参照面の間の絶対距離を計測可能な計測装置および計測方法を提供する。
【解決手段】第１の基準波長λ_１と第２の基準波長λ_２との間で波長走査が可能な光源１１と、第３の基準波長λ_３の光を射出する光源１０を有する光波干渉計測装置は、各波長に対応した干渉光の信号に基づいて被検面と参照面との間の光路長に相当する位相の誤差を補正し、誤差が補正された位相に基づいて被検面と参照面の間の絶対距離を算出する処理部１９を有する。 （もっと読む）

【課題】カメラに取り付けられた画像センサのチルトを求めるための、改善された方法を提供する。
【解決手段】カメラ１２における画像センサ１０表面の、カメラ１２のレンズ基準面２６に対するチルトを求めるための方法であり、画像センサ１０に光を送るステップと、画像センサ１０から反射した光を受けるステップと、反射光における干渉パターンを特定するステップと、干渉パターンの特徴を特定するステップと、干渉パターンにおいて特定された特徴の位置に基づいて画像センサ１０表面のチルトを求めるステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】照度の低い環境において、コントラストが低い移動面上を移動する移動体の位置及び姿勢、並びにその移動面の形状を検出する。
【解決手段】移動体及び移動面検出システム１は、移動体３と、移動体３上に配置された発光部４と、移動体３を俯瞰する位置に設けられたステレオカメラ５及び測距センサ６と、ステレオカメラ５及び測距センサ６の出力を処理する処理部７と、処理部７の出力を表示する表示部８とを備える。ステレオカメラ５は、発光部４のステレオ画像を撮像する。測距センサ６は、移動面に光を出射し、移動面で反射されて戻ってくる光の飛行時間に基づいて移動面を測距する。処理部７は、ステレオカメラ５が撮像したステレオ画像に基づいて移動体３の位置及び姿勢を検出するとともに、測距センサ６の出力に基づいて移動面の形状を検出し、移動体３の位置及び姿勢と、移動面の形状とを表示部８に表示する。 （もっと読む）

【課題】反射型サンプル基板上の欠陥の特性を、非破壊かつ高精度に評価可能な欠陥特性評価装置を提供する。
【解決手段】本発明は、反射型サンプル基板であるマスク基板１１上の被検欠陥１２に対して、実際の露光で利用する波長のコヒーレント光を、マスク基板１１上の被検欠陥と略同一のサイズに集光する集光光学系１０と、集光光学系１０により集光され、マスク基板１１上にコヒーレント光を照射する照射部１６と、照射部１６により照射された照射パタン領域１３ｂからの回折光を２次元的に受光する二次元検出器１３と、二次元検出器１３による受光結果である画像情報を記録する記録部１７と、記録部１７により記録された画像情報から、被検欠陥１２の反射振幅と位相分布を反復計算により導出する導出部１８とを備える。 （もっと読む）

【課題】簡素な構成を採用しつつ検出光量ムラの発生を抑制可能とした走査型検出測定装置を提供する。
【解決手段】本発明の走査型検出測定装置は、レーザ光を射出する発光素子と、発光素子から供給されるレーザ光を走査しつつ標本に照射する走査光学系と、標本から生じる光を検出する検出光学系と、発光素子と走査光学系との間に設けられレーザ光の一部を発光素子に向けて反射させる反射光学素子と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】単結晶シリコン太陽電池表面上に成膜された反射防止膜の膜厚および屈折率を有効に測定するためのエリプソメーター装置を得ること。
【解決手段】実施の形態にかかるエリプソメーター装置１０は、反射防止膜が形成された測定試料１の反射防止膜が形成された面へレーザー光を照射する光源５と、前記測定試料から反射された反射光に基づいて反射光の偏光変化量を測定することにより前記反射防止膜の膜厚および屈折率を測定する検出器６と、前記測定試料を試料設置面にて保持し、前記試料設置面と垂直な方向を軸にして前記測定試料を回転する回転角度調節部と、前記測定試料を傾斜させる傾斜調節部とを有するステージ２と、前記ステージをステージ設置面上に保持する支持部７と、を備える。 （もっと読む）

【課題】３次元形状測定装置を提供すること。
【解決手段】３次元形状測定装置は、光を発生する光源ユニットおよび光源ユニットから発生された光を格子パターンを有する格子パターン光に変更する格子ユニットを含み、格子パターン光を所定方向から測定対象物に照射する照明部、および格子ユニットを格子パターンの延長方向および格子パターンの配置方向に対して所定の傾斜方向に移送させる格子移送ユニットを含む。よって、製造コストを低減して、３次元形状測定装置は容易に管理することができる。 （もっと読む）

【課題】検査装置の検査情報とレビュー装置で取得した観察情報とを用い、欠陥の高さ、屈折率、材質の情報を取得して欠陥材質・屈折率分析や、微細なパターン形状の三次元解析を行う方法、並びにこれを搭載した欠陥観察装置を提供する。
【解決手段】試料上の欠陥を観察する方法において、光が照射された試料からの反射・散乱光を受光した検出器からの検出信号を処理して検出した検査結果の情報を用いて観察対象の欠陥が存在する位置を走査電子顕微鏡で撮像して画像を取得し、この取得した観察対象の欠陥の像を用いて欠陥のモデルを作成し、作成された欠陥のモデルに対して光を照射したときに欠陥モデルから発生する反射・散乱光を検出器で受光した場合のこの検出器の検出値を算出し、この算出した検出値と実際に試料からの反射・散乱光を受光した検出器の検出値とを比較して観察対象の欠陥の高さ又は材質又は屈折率に関する情報を求めるようにした。 （もっと読む）

【課題】光ビーム照射装置の空間的光変調器の傾きとヘッド部の傾きとを容易に判別して、光ビームの歪みを抑制し、描画精度を向上させる。
【解決手段】光ビーム照射装置２０から照射される光ビームを受光する受光装置５１をチャック１０に設け、光ビーム照射装置２０のヘッド部２０ａを回転する回転機構２８を設ける。回転機構２８によりヘッド部２０ａを回転する前と回転した後に、光ビーム照射装置２０から照射された光ビームを受光装置５１により受光する。ヘッド部２０ａを回転する前後の、受光装置５１により受光した光ビームの位置の変化から、光ビーム照射装置２０の空間的光変調器２５の傾きとヘッド部２０ａの傾きとを判別し、判別結果に基づき、空間的光変調器の傾き又はヘッド部２０aの傾きを補正する。 （もっと読む）

【課題】安価で小型の変位・ひずみ分布計測光学系と計測手段を提供すること。
【解決手段】複数の撮像素子を使用することで、光学素子の数を減らし、２次元の変位・ひずみ分布計測を行うことができる装置を小型にすることができる。さらに、計測対象物の近傍に鏡を設置することにより、撮像素子の数を減らし、さらに小型の装置とすることができる。 （もっと読む）

【課題】トロリ線以外の構造物の影響を無くしトロリ線の摩耗量や偏位量を正確に測定する。
【解決手段】架線検測車屋根上にトロリ線へ投光する光を照射する投光ユニットを設け、トロリ線より反射した光を受光する受光ユニットを設ける。受光ユニットより受光した信号を二値化回路によってある閾値で二値化し、エッジ検出回路でパルス波形の立ち下がりから次の立ち上がりまでの距離に基づいて、剛体やイヤーなどのノイズ信号とトロリ線の信号を判別し、トロリ線摺面の検出信号を得る。エッジ検出回路から得られた検出信号は、演算装置によって前回の偏位データと今回の偏位データが比較され、前回のものと最も近い信号をトロリ線データとして検出し、トロリ線摩耗量（残存直径）に変換される。これによって、ノイズによる誤検出を低減させ、トロリ線の外形を正確に求める。 （もっと読む）

【課題】位相シフト法による３次元計測を可能にしながらも、液晶シャッタにおける隣接する画素の透過率を連続的に変化させる場合に比べて応答時間を短縮する。
【解決手段】投影装置１は、光源１１と、処理装置３からの制御信号により透過率が個別に制御される画素が２次元格子上に配列された液晶シャッタ１２と、光源１１から出力され液晶シャッタ１２を透過した光束の少なくとも一部を混合して計測対象４の表面に照射させるレンズ１３とを備える。処理装置３は、液晶シャッタ１２にそれぞれ複数列の画素からなり平均透過率が周期的に変化する複数の帯領域を形成させるように制御信号を出力し、レンズ１３は、帯領域を透過した光束を混合して計測対象４の表面に縞状の光パターンを形成させる。 （もっと読む）