変位・ひずみ分布計測光学系と計測手法
【課題】安価で小型の変位・ひずみ分布計測光学系と計測手段を提供すること。
【解決手段】複数の撮像素子を使用することで、光学素子の数を減らし、２次元の変位・ひずみ分布計測を行うことができる装置を小型にすることができる。さらに、計測対象物の近傍に鏡を設置することにより、撮像素子の数を減らし、さらに小型の装置とすることができる。
【解決手段】複数の撮像素子を使用することで、光学素子の数を減らし、２次元の変位・ひずみ分布計測を行うことができる装置を小型にすることができる。さらに、計測対象物の近傍に鏡を設置することにより、撮像素子の数を減らし、さらに小型の装置とすることができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、物体の変位分布やひずみ分布計測で使用する光学系とその計測手法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
現在、構造物の変位やひずみ分布計測をすることは、多くの産業分野における重要な課題である、特に橋梁などインフラ構造物の欠陥検査を効率よく行うことは重要であり、高速で効率のよい変位・ひずみ分布計測が必要とされている。
【０００３】
特許文献１には、複数台の撮像素子を備えて物体光を１つにし、物体光と参照光を平行に入射しない構成で、位相シフト回数の低減やシャッター切り替え工程の省略で計測を高速に行うことが記載されている。
【０００４】
また、特許文献２には、（ａ）３つの異方向から計測物体に物体光を照射し、（ｂ）物体光と同一波長の３つの参照光と計測物体からの反射光との干渉像を、各参照光の位相を互いに異なる速度で物体光に対して変化させつつ、複数枚２次元撮像素子で撮影し、（ｃ）フーリエ変換を用いて位相変化速度の異なる干渉成分を抽出することで３つの物体光による干渉縞を分離し、（ｄ）各干渉像より、各物体光の照射方向に応じた方向の計測物体の変位分布を計測することで物体の３次元変位を計測することが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１１−０５９０１７号公報
【特許文献２】特開２００７−２４０４６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら特許文献１では、カメラの配置が互いに平行でなくてはならず、配置に制約があることと、得られる干渉縞の強度が低いため、計測精度が落ちるという２点の問題がある。
【０００７】
さらに特許文献２では、物体光を３方向から入射する必要があり、それぞれの物体光ごとに位相シフト機構を取り付ける必要があるため、高価になるという問題もあった。
【０００８】
本発明は、上記問題点を解決するために、安価で小型の変位・ひずみ分布計測光学系と計測手法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
発明者らは、上記問題を解決するために、鋭意検討した。その結果、複数の撮像素子を使用することで三次元の変位・ひずみ分布計測ができることを見出した。さらに、鏡を用いることで、通常では計測できない計測対象物の裏側まで計測ができ、１台の撮像素子で２台分の計測ができることを見出した。
【００１０】
即ち、本発明の変位・ひずみ分布計測光学系は、複数の撮像素子を用いたデジタルホログラフィを用いた光学系であって、１つのレーザー光源を、物体に照射する物体光と、前記複数の撮像素子へ照射する参照光に分離するための手段と、計測対象物を置く場所に、特定のパターンを持つ基準面を解析領域に設置する手段、とを備えることを特徴とするものである。
【００１１】
また、本発明における変位・ひずみ分布計測光学系は、鏡面に計測対象物が写り込むように、計測対象物の近傍に１枚または複数枚の鏡を設置することを特徴とするものである。
【００１２】
また、本発明における変位・ひずみ分布計測光学系は、前記基準面は、複数方向にそれぞれ微小移動できるステージに取り付けられていることを特徴とするものである。
【００１３】
また、本発明における変位・ひずみ分布計測光学系は、前記基準面の格子パターンが格子模様であることを特徴とするものである。
【００１４】
また、本発明における変位・ひずみ分布計測光学系は、前記基準面の格子パターンが、２次元であることを特徴とするものである。
【００１５】
また、本発明における変位・ひずみ分布計測光学系は、前記基準面は、ステージに取り付けられており、移動することができることを特徴とするものである。
【００１６】
また、本発明における変位・ひずみ分布計測手法は、複数の撮像素子で得られたホログラムから、基準面上の同一の部分が再生された点を各再生像において検出することで、各再生像における画素毎の対応付けを行うことを特徴とするものである。
【００１７】
また、本発明における変位・ひずみ分布計測手法は、格子パターンの位相を用いることを特徴とするものである。
【００１８】
また、本発明における変位・ひずみ分布計測手法は、ランダムなパターンによる対応点の検出手法を用いることを特徴とするものである。
【００１９】
また、本発明における変位・ひずみ分布計測手法は、基準面をステージによって複数の位置に移動させ、移動させた各位置で撮影されたホログラムから得られた複数の再生像を用いて、位相シフト法によって算出された位相分布を用いることで、基準面上の同一の部分が再生された点を検出することを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、複数の撮像素子を使用することで、光学素子の数を減らし、２次元の変位・ひずみ分布計測を行うことができる装置を小型にすることができる。さらに、計測対象物の近傍に鏡を設置することにより、撮像素子の数を減らし、さらに小型の装置とすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の一実施例を示す変位・ひずみ分布計測光学系の平面図であり、光学系内を通る参照光と物体光の光路を表す。
【図２】本発明における基準面計測時の撮像素子と物体光の光路を表す。
【図３】撮像素子で撮影した２次元格子のホログラム再生像を表す。
【図４】２次元格子を表示した状態の基準面の拡大図を表す。
【図５】本発明における物体計測時の撮像素子と物体光の光路を表す。
【図６】本発明の実施例を表す平面図であり、参照光と物体光の光路を表す。
【図７】格子プレートを表す。
【図８】本発明の実施例を示す鏡を用いた場合の平面図であり、参照光と物体光の光路を表す。
【図９】実像と鏡像の基準面撮影時の位相分布を表す。
【図１０】基準面撮影時の位相解析した時の位相分布を表す。
【図１１】位相解析された位相分布を位相接続した画像を表し、点Ａと点Ｂは同一点である。
【図１２】計測に用いた試料を表す。
【図１３】計測された画像の実像と鏡像を表し、点Ａと点Ｂは同一点である。
【図１４】計測された実像と鏡像の変位分布を表し、点Ａと点Ｂは同一点である。
【図１５】計測試料の変位分布を表す。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明について図面を用いて説明する。
【００２３】
図１は、本発明の変位・ひずみ分布計測光学系の一実施例を表す平面図である。
変位・ひずみ分布計測光学系１は、計測用レーザー光源２と、スペイシャルフィルタ３と、レンズ４ａ・４ｂと、ビームスプリッタ５ａ〜５ｃと、光学素子６ａ〜６ｇと、撮像素子７ａ〜７ｃと、ＮＤフィルタ８ａ〜８ｃと、鏡９と、ＰＺＴステージ１０と、を備えている。
【００２４】
計測用レーザー光源２は、物体光と参照光の光源であり、例えば波長６３２．８ｎｍ、出力７ｍＷのHe−Neレーザー光源を用いることができる。
【００２５】
計測用レーザー光源２から照射された光は、レンズ４ａによって集光された後、スペイシャルフィルタ３によって不規則な変動の成分が取り除かれる。
【００２６】
レンズ４ｂは、スペイシャルフィルタ３から出力された光を平行光として出力する。
【００２７】
ビームスプリッタ５ａは、レンズ４ｂから出力された光を、物体光と参照光に分ける。分けられた参照光は、光学素子６ａを透過し、ＰＺＴステージ１０に取り付けられている鏡９に入射し反射する。反射された参照光は、再度光学素子６ａに入射し、ビームスプリッタ５ｂの方向に反射する。ビームスプリッタ５ｂ・５ｃは光学素子６ａの方向から入射してきた参照光をさらにもう１筋の参照光に分ける。ＰＺＴステージ１０は、光学素子６ａを透過してきた参照光の光路長を変化させることで、位相シフトを行う。また、所定量の位相シフト時に撮像素子７ａ〜７ｃによって撮影される。
【００２８】
光学素子６ｂ・６ｄ・６ｆは、ビームスプリッタ５ｂ・５ｃによって分けられた参照光を反射させる。また、光学素子６ｃ・６ｅ・６ｇは、撮像素子７ａ〜７ｃへ参照光を入射させる。光学素子としては、例えばハーフミラーを用いることができる。
【００２９】
撮像素子７ａ〜７ｃは、ビームスプリッタ５ａ〜５ｃと光学素子６ａ〜６ｇを経て入射した参照光を撮影する。また、参照光と、計測対象物Ｏに照射し反射された物体光とで構成される干渉縞を、ホログラムとして撮影する。
【００３０】
ＮＤフィルタ８ａ〜８ｃは、物体光と参照光の明るさが同じ程度になるように、参照光の明るさを調整する。
【００３１】
図２は、基準面計測時の撮像素子と物体光の光路を表し、図４は２次元格子パターンが貼り付けられている基準面の拡大図である。この基準面は、x、y、z方向にそれぞれ微小に移動するステージ（例えばピエゾステージ等）に取り付けられている。ビームスプリッタ５ａを透過した物体光は、まっすぐ基準面１１に入射する。
【００３２】
基準面１１は、ｘ、y方向にそれぞれ移動するステージに取り付けられている。基準面には、特定のパターンを使用したり、図７に示すような１次元の格子、または２次元の格子を用いることができる。格子パターンを用いる場合には、上記のステージによって格子の位相シフトを行い、位相シフト法によって格子の位相分布を求め、そこから対応点を求めることができる。また、ランダムなパターンを投影する時には、例えば、デジタル画像相関法などで対応点を見つけることができる。
【００３３】
（空間座標分布の測定）
ここで、変位・ひずみ分布を求めるための実像と鏡像の対応点を、それぞれの象の空間座標分布から求める原理を、鏡を用いた場合で説明する。
【００３４】
i，jを再生された画像上での座標、xを実際の基準面上でのx方向の空間座標とする。正弦波格子を張り付けた基準面の再生強度分布は、格子の位相を 2p/NずつシフトさせながらN枚得られる。ここでαnは、式（１）のように基準面の格子の位相シフト量を表す。
（１）
【００３５】
これらの強度分布に対して位相シフト法を用いると，基準面の格子の初期位相θ (i,
j )は、式（２）のようになる。ここで、α(i, j, an)は、位相シフト量αnの場合の画面上での座標(i, j )における再生像の強度を表す。
（２）
この式（２）より得られた位相θ(i, j )を位相接続し、位相接続された位相φ(i, j )を求め、格子周期pを用いることで空間座標分布x (i, j )が、式（３）に示すように求められる。
（３）
この空間座標分布に基づいて、実像と鏡像間の点の対応付け、およびひずみ算出時の微分を行う。
【００３６】
物体へ入射する物体光の光軸に対して、角度kの方向に撮像素子を配置し、実像および鏡像の変位前後のホログラムを記録する。ホログラムの再生像のうち、実像の変位前後の位相差をDf1、鏡像の変位前後の位相差をDf2とすると、物体のx方向変位dxおよびz方向変位dzは、式（４）と（５）で表される。
（４）
（５）
【００３７】
またx方向変位dxをx方向空間座標分布によって微分することで、物体のx方向のひずみexは、式（６）から求められる。
（６）
【００３８】
図３は、撮像素子７ａ、７ｂ、７ｃで撮影した２次元格子のホログラムの再生像を表し、再生像１は撮像素子７ａ、再生像２は撮像素子７ｂ、再生像３は撮像素子７ｃで撮影したものである。それぞれの再生像ごとに求めた、x方向の格子の位相接続後の位相分布とy方向の格子の位相接続後の位相分布を矢印の下に示す。それぞれの図には、基準面１１上の任意の１点Pが再生像と位相分布上に存在する位置が図示されている。再生像１と２、３において、x方向の位相とy方向の位相が共に同一の点は、基準面１１上における同一点である。そのため、x方向の位相とy方向の位相が得られることによって、各再生像での対応関係が各画素ごとに得られることになる。図中の点Pは、x方向とy方向ともに同一の位相値となっている。なお、図３においては、点Pが格子線上にあるように描かれているが、点Pが格子線上になくても同様のことが言える。
【００３９】
図４は、ｘ、y、ｚの各方向に微小に移動できるステージの上に取り付けられている基準面１１を示す。基準面をｘ、y、ｚの各方向に所定の量だけ微小に移動させ、その移動前後において、撮像素子７ａ、７ｂ、７ｃで撮影した２次元格子のホログラムの再生像とその位相分布を求める。移動前後における各画素の位相差を求めると、微小量の移動に対する位相差の値が得られることになる。すなわち各撮像素子の再生像の１画素ごとに、基準面の変位量に応じた位相差を得ることができる。
【００４０】
特開２００７−２４０４６５において開示されているように、変位の３方向成分を得るためには、独立した３方向の感度ベクトルを得ておけばよい。感度ベクトルは、物体光の入射方向と撮影方向から決まるベクトルであるため、それぞれ異なる位置に配置された撮像素子７ａ、７ｂ、７ｃによって、３個の感度ベクトルが得られることになる。この３個の感度ベクトルが一次独立となっている場合には、得られた感度ベクトルを用いて、物体上の１点に対応するそれぞれの撮像素子を用いて得られた再生像上の点の位相差から、その１点のx方向とy方向、z方向の変位をそれぞれ求めることができる。図４に示すように、ｘ、y、ｚの各方向に微小に移動できるステージの上に取り付けることで、特開2007-240465において開示されている校正方法を適用することができる。このような構成にすることによって、基準面１１をx、y、z各方向に微小量ずつ変位させることで、基準面の全ての位置において、感度ベクトルを求めることが可能となる。そのようにして得られた感度ベクトルから、計測対象の表面上の任意の点におけるx、y、z各方向の変位成分を求めることが可能となる。
【００４１】
さらに、本手法の場合は、再生像の対応点を見つけるために用いる基準面と感度ベクトルを求めるために用いる基準面が同一であるために、それらの位置ずれがまったく発生しないという効果がある。
【００４２】
図５は、基準面１１を計測物体に置き換えたものを表す。ビームスプリッタ５ａを透過した物体光は、計測物体に到達し、分散される。分散した物体光は、撮像素子７ａ〜７ｃに入射し、参照光とともに干渉縞を形成し、ホログラムとして撮影される。
【００４３】
図６は、撮像素子を２台使用した場合の光学系平面図であり、図８は計測対象物の前に鏡を用いて撮像素子を１台使用した場合の光学系平面図である。基本的な計測方法は、撮像素子を３台使用した場合と同じであるが、図８の場合は、鏡を設置しているので、鏡像も撮影される。このことで、撮像素子を２台使用した場合と同じ状態になる。
【００４４】
図９は、ある位相を撮影した実像と鏡像の画像である。参照光の光路長を変化させることで位相をシフトさせる。この位相の変化を複数回撮像素子で撮影することで、図１０のような位相分布を得ることができる。この位相分布を位相解析（例えば位相シフト法等）すると図１１のような位相分布図が得られる。
【００４５】
図１２のような亀裂の入った橋梁にＰＺＴアクチュエーター５０で加えた状態を、図８の光学系で計測を行うと、図１３のように位相分布が得られる。この位相分布を解析すると図１４のような結果が得られる。実像と鏡像の２つを合成すると、図１５のような変位・ひずみ分布が分かる。
【００４６】
以上、具体例を挙げて本発明を詳細に説明してきたが、本発明の特許請求の範囲から逸説しない限りにおいて、あらゆる変形や変更が可能であることは当業者に明らかである。例えば、撮像素子の台数を増やすことで、より高精度な変位・ひずみ分布を計測を行うことも可能である。したがって、本発明は上記の実施形態に限定されるものではない。
【符号の説明】
【００４７】
１、２１、３１ 光学系
２、２２、３２ 計測用レーザー光源
３、２３、３３ スペイシャルフィルタ
４ａ〜４ｂ、２４ａ〜２４ｂ、３４ａ〜３４ｂ レンズ
５ａ〜５ｃ、２５ａ〜２５ｂ、３５ ビームスプリッタ
６ａ〜６ｇ、２６ａ〜２６ｅ、３６ａ〜３６ｂ 光学素子
７ａ〜７ｃ、２７ａ〜２７ｂ、３７ 撮像素子
８ａ〜８ｃ、２８ａ〜２８ｂ、３８ ＮＤフィルタ
９、２９、３９ａ〜３９ｂ 鏡
１０、３０、４１ ＰＺＴステージ
１１ 基準面
１２ 微小変位ステージ
４０ 絞り
５０ ＰＺＴアクチュエーター
ｍ３６ｃ 第３光学素子（鏡像）
ｍ３７ 撮像素子（鏡像）
Ｏ 計測対象物
Ｏ’ 計測対象物（鏡像）
【技術分野】
【０００１】
本発明は、物体の変位分布やひずみ分布計測で使用する光学系とその計測手法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
現在、構造物の変位やひずみ分布計測をすることは、多くの産業分野における重要な課題である、特に橋梁などインフラ構造物の欠陥検査を効率よく行うことは重要であり、高速で効率のよい変位・ひずみ分布計測が必要とされている。
【０００３】
特許文献１には、複数台の撮像素子を備えて物体光を１つにし、物体光と参照光を平行に入射しない構成で、位相シフト回数の低減やシャッター切り替え工程の省略で計測を高速に行うことが記載されている。
【０００４】
また、特許文献２には、（ａ）３つの異方向から計測物体に物体光を照射し、（ｂ）物体光と同一波長の３つの参照光と計測物体からの反射光との干渉像を、各参照光の位相を互いに異なる速度で物体光に対して変化させつつ、複数枚２次元撮像素子で撮影し、（ｃ）フーリエ変換を用いて位相変化速度の異なる干渉成分を抽出することで３つの物体光による干渉縞を分離し、（ｄ）各干渉像より、各物体光の照射方向に応じた方向の計測物体の変位分布を計測することで物体の３次元変位を計測することが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１１−０５９０１７号公報
【特許文献２】特開２００７−２４０４６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら特許文献１では、カメラの配置が互いに平行でなくてはならず、配置に制約があることと、得られる干渉縞の強度が低いため、計測精度が落ちるという２点の問題がある。
【０００７】
さらに特許文献２では、物体光を３方向から入射する必要があり、それぞれの物体光ごとに位相シフト機構を取り付ける必要があるため、高価になるという問題もあった。
【０００８】
本発明は、上記問題点を解決するために、安価で小型の変位・ひずみ分布計測光学系と計測手法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
発明者らは、上記問題を解決するために、鋭意検討した。その結果、複数の撮像素子を使用することで三次元の変位・ひずみ分布計測ができることを見出した。さらに、鏡を用いることで、通常では計測できない計測対象物の裏側まで計測ができ、１台の撮像素子で２台分の計測ができることを見出した。
【００１０】
即ち、本発明の変位・ひずみ分布計測光学系は、複数の撮像素子を用いたデジタルホログラフィを用いた光学系であって、１つのレーザー光源を、物体に照射する物体光と、前記複数の撮像素子へ照射する参照光に分離するための手段と、計測対象物を置く場所に、特定のパターンを持つ基準面を解析領域に設置する手段、とを備えることを特徴とするものである。
【００１１】
また、本発明における変位・ひずみ分布計測光学系は、鏡面に計測対象物が写り込むように、計測対象物の近傍に１枚または複数枚の鏡を設置することを特徴とするものである。
【００１２】
また、本発明における変位・ひずみ分布計測光学系は、前記基準面は、複数方向にそれぞれ微小移動できるステージに取り付けられていることを特徴とするものである。
【００１３】
また、本発明における変位・ひずみ分布計測光学系は、前記基準面の格子パターンが格子模様であることを特徴とするものである。
【００１４】
また、本発明における変位・ひずみ分布計測光学系は、前記基準面の格子パターンが、２次元であることを特徴とするものである。
【００１５】
また、本発明における変位・ひずみ分布計測光学系は、前記基準面は、ステージに取り付けられており、移動することができることを特徴とするものである。
【００１６】
また、本発明における変位・ひずみ分布計測手法は、複数の撮像素子で得られたホログラムから、基準面上の同一の部分が再生された点を各再生像において検出することで、各再生像における画素毎の対応付けを行うことを特徴とするものである。
【００１７】
また、本発明における変位・ひずみ分布計測手法は、格子パターンの位相を用いることを特徴とするものである。
【００１８】
また、本発明における変位・ひずみ分布計測手法は、ランダムなパターンによる対応点の検出手法を用いることを特徴とするものである。
【００１９】
また、本発明における変位・ひずみ分布計測手法は、基準面をステージによって複数の位置に移動させ、移動させた各位置で撮影されたホログラムから得られた複数の再生像を用いて、位相シフト法によって算出された位相分布を用いることで、基準面上の同一の部分が再生された点を検出することを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、複数の撮像素子を使用することで、光学素子の数を減らし、２次元の変位・ひずみ分布計測を行うことができる装置を小型にすることができる。さらに、計測対象物の近傍に鏡を設置することにより、撮像素子の数を減らし、さらに小型の装置とすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の一実施例を示す変位・ひずみ分布計測光学系の平面図であり、光学系内を通る参照光と物体光の光路を表す。
【図２】本発明における基準面計測時の撮像素子と物体光の光路を表す。
【図３】撮像素子で撮影した２次元格子のホログラム再生像を表す。
【図４】２次元格子を表示した状態の基準面の拡大図を表す。
【図５】本発明における物体計測時の撮像素子と物体光の光路を表す。
【図６】本発明の実施例を表す平面図であり、参照光と物体光の光路を表す。
【図７】格子プレートを表す。
【図８】本発明の実施例を示す鏡を用いた場合の平面図であり、参照光と物体光の光路を表す。
【図９】実像と鏡像の基準面撮影時の位相分布を表す。
【図１０】基準面撮影時の位相解析した時の位相分布を表す。
【図１１】位相解析された位相分布を位相接続した画像を表し、点Ａと点Ｂは同一点である。
【図１２】計測に用いた試料を表す。
【図１３】計測された画像の実像と鏡像を表し、点Ａと点Ｂは同一点である。
【図１４】計測された実像と鏡像の変位分布を表し、点Ａと点Ｂは同一点である。
【図１５】計測試料の変位分布を表す。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明について図面を用いて説明する。
【００２３】
図１は、本発明の変位・ひずみ分布計測光学系の一実施例を表す平面図である。
変位・ひずみ分布計測光学系１は、計測用レーザー光源２と、スペイシャルフィルタ３と、レンズ４ａ・４ｂと、ビームスプリッタ５ａ〜５ｃと、光学素子６ａ〜６ｇと、撮像素子７ａ〜７ｃと、ＮＤフィルタ８ａ〜８ｃと、鏡９と、ＰＺＴステージ１０と、を備えている。
【００２４】
計測用レーザー光源２は、物体光と参照光の光源であり、例えば波長６３２．８ｎｍ、出力７ｍＷのHe−Neレーザー光源を用いることができる。
【００２５】
計測用レーザー光源２から照射された光は、レンズ４ａによって集光された後、スペイシャルフィルタ３によって不規則な変動の成分が取り除かれる。
【００２６】
レンズ４ｂは、スペイシャルフィルタ３から出力された光を平行光として出力する。
【００２７】
ビームスプリッタ５ａは、レンズ４ｂから出力された光を、物体光と参照光に分ける。分けられた参照光は、光学素子６ａを透過し、ＰＺＴステージ１０に取り付けられている鏡９に入射し反射する。反射された参照光は、再度光学素子６ａに入射し、ビームスプリッタ５ｂの方向に反射する。ビームスプリッタ５ｂ・５ｃは光学素子６ａの方向から入射してきた参照光をさらにもう１筋の参照光に分ける。ＰＺＴステージ１０は、光学素子６ａを透過してきた参照光の光路長を変化させることで、位相シフトを行う。また、所定量の位相シフト時に撮像素子７ａ〜７ｃによって撮影される。
【００２８】
光学素子６ｂ・６ｄ・６ｆは、ビームスプリッタ５ｂ・５ｃによって分けられた参照光を反射させる。また、光学素子６ｃ・６ｅ・６ｇは、撮像素子７ａ〜７ｃへ参照光を入射させる。光学素子としては、例えばハーフミラーを用いることができる。
【００２９】
撮像素子７ａ〜７ｃは、ビームスプリッタ５ａ〜５ｃと光学素子６ａ〜６ｇを経て入射した参照光を撮影する。また、参照光と、計測対象物Ｏに照射し反射された物体光とで構成される干渉縞を、ホログラムとして撮影する。
【００３０】
ＮＤフィルタ８ａ〜８ｃは、物体光と参照光の明るさが同じ程度になるように、参照光の明るさを調整する。
【００３１】
図２は、基準面計測時の撮像素子と物体光の光路を表し、図４は２次元格子パターンが貼り付けられている基準面の拡大図である。この基準面は、x、y、z方向にそれぞれ微小に移動するステージ（例えばピエゾステージ等）に取り付けられている。ビームスプリッタ５ａを透過した物体光は、まっすぐ基準面１１に入射する。
【００３２】
基準面１１は、ｘ、y方向にそれぞれ移動するステージに取り付けられている。基準面には、特定のパターンを使用したり、図７に示すような１次元の格子、または２次元の格子を用いることができる。格子パターンを用いる場合には、上記のステージによって格子の位相シフトを行い、位相シフト法によって格子の位相分布を求め、そこから対応点を求めることができる。また、ランダムなパターンを投影する時には、例えば、デジタル画像相関法などで対応点を見つけることができる。
【００３３】
（空間座標分布の測定）
ここで、変位・ひずみ分布を求めるための実像と鏡像の対応点を、それぞれの象の空間座標分布から求める原理を、鏡を用いた場合で説明する。
【００３４】
i，jを再生された画像上での座標、xを実際の基準面上でのx方向の空間座標とする。正弦波格子を張り付けた基準面の再生強度分布は、格子の位相を 2p/NずつシフトさせながらN枚得られる。ここでαnは、式（１）のように基準面の格子の位相シフト量を表す。
（１）
【００３５】
これらの強度分布に対して位相シフト法を用いると，基準面の格子の初期位相θ (i,
j )は、式（２）のようになる。ここで、α(i, j, an)は、位相シフト量αnの場合の画面上での座標(i, j )における再生像の強度を表す。
（２）
この式（２）より得られた位相θ(i, j )を位相接続し、位相接続された位相φ(i, j )を求め、格子周期pを用いることで空間座標分布x (i, j )が、式（３）に示すように求められる。
（３）
この空間座標分布に基づいて、実像と鏡像間の点の対応付け、およびひずみ算出時の微分を行う。
【００３６】
物体へ入射する物体光の光軸に対して、角度kの方向に撮像素子を配置し、実像および鏡像の変位前後のホログラムを記録する。ホログラムの再生像のうち、実像の変位前後の位相差をDf1、鏡像の変位前後の位相差をDf2とすると、物体のx方向変位dxおよびz方向変位dzは、式（４）と（５）で表される。
（４）
（５）
【００３７】
またx方向変位dxをx方向空間座標分布によって微分することで、物体のx方向のひずみexは、式（６）から求められる。
（６）
【００３８】
図３は、撮像素子７ａ、７ｂ、７ｃで撮影した２次元格子のホログラムの再生像を表し、再生像１は撮像素子７ａ、再生像２は撮像素子７ｂ、再生像３は撮像素子７ｃで撮影したものである。それぞれの再生像ごとに求めた、x方向の格子の位相接続後の位相分布とy方向の格子の位相接続後の位相分布を矢印の下に示す。それぞれの図には、基準面１１上の任意の１点Pが再生像と位相分布上に存在する位置が図示されている。再生像１と２、３において、x方向の位相とy方向の位相が共に同一の点は、基準面１１上における同一点である。そのため、x方向の位相とy方向の位相が得られることによって、各再生像での対応関係が各画素ごとに得られることになる。図中の点Pは、x方向とy方向ともに同一の位相値となっている。なお、図３においては、点Pが格子線上にあるように描かれているが、点Pが格子線上になくても同様のことが言える。
【００３９】
図４は、ｘ、y、ｚの各方向に微小に移動できるステージの上に取り付けられている基準面１１を示す。基準面をｘ、y、ｚの各方向に所定の量だけ微小に移動させ、その移動前後において、撮像素子７ａ、７ｂ、７ｃで撮影した２次元格子のホログラムの再生像とその位相分布を求める。移動前後における各画素の位相差を求めると、微小量の移動に対する位相差の値が得られることになる。すなわち各撮像素子の再生像の１画素ごとに、基準面の変位量に応じた位相差を得ることができる。
【００４０】
特開２００７−２４０４６５において開示されているように、変位の３方向成分を得るためには、独立した３方向の感度ベクトルを得ておけばよい。感度ベクトルは、物体光の入射方向と撮影方向から決まるベクトルであるため、それぞれ異なる位置に配置された撮像素子７ａ、７ｂ、７ｃによって、３個の感度ベクトルが得られることになる。この３個の感度ベクトルが一次独立となっている場合には、得られた感度ベクトルを用いて、物体上の１点に対応するそれぞれの撮像素子を用いて得られた再生像上の点の位相差から、その１点のx方向とy方向、z方向の変位をそれぞれ求めることができる。図４に示すように、ｘ、y、ｚの各方向に微小に移動できるステージの上に取り付けることで、特開2007-240465において開示されている校正方法を適用することができる。このような構成にすることによって、基準面１１をx、y、z各方向に微小量ずつ変位させることで、基準面の全ての位置において、感度ベクトルを求めることが可能となる。そのようにして得られた感度ベクトルから、計測対象の表面上の任意の点におけるx、y、z各方向の変位成分を求めることが可能となる。
【００４１】
さらに、本手法の場合は、再生像の対応点を見つけるために用いる基準面と感度ベクトルを求めるために用いる基準面が同一であるために、それらの位置ずれがまったく発生しないという効果がある。
【００４２】
図５は、基準面１１を計測物体に置き換えたものを表す。ビームスプリッタ５ａを透過した物体光は、計測物体に到達し、分散される。分散した物体光は、撮像素子７ａ〜７ｃに入射し、参照光とともに干渉縞を形成し、ホログラムとして撮影される。
【００４３】
図６は、撮像素子を２台使用した場合の光学系平面図であり、図８は計測対象物の前に鏡を用いて撮像素子を１台使用した場合の光学系平面図である。基本的な計測方法は、撮像素子を３台使用した場合と同じであるが、図８の場合は、鏡を設置しているので、鏡像も撮影される。このことで、撮像素子を２台使用した場合と同じ状態になる。
【００４４】
図９は、ある位相を撮影した実像と鏡像の画像である。参照光の光路長を変化させることで位相をシフトさせる。この位相の変化を複数回撮像素子で撮影することで、図１０のような位相分布を得ることができる。この位相分布を位相解析（例えば位相シフト法等）すると図１１のような位相分布図が得られる。
【００４５】
図１２のような亀裂の入った橋梁にＰＺＴアクチュエーター５０で加えた状態を、図８の光学系で計測を行うと、図１３のように位相分布が得られる。この位相分布を解析すると図１４のような結果が得られる。実像と鏡像の２つを合成すると、図１５のような変位・ひずみ分布が分かる。
【００４６】
以上、具体例を挙げて本発明を詳細に説明してきたが、本発明の特許請求の範囲から逸説しない限りにおいて、あらゆる変形や変更が可能であることは当業者に明らかである。例えば、撮像素子の台数を増やすことで、より高精度な変位・ひずみ分布を計測を行うことも可能である。したがって、本発明は上記の実施形態に限定されるものではない。
【符号の説明】
【００４７】
１、２１、３１ 光学系
２、２２、３２ 計測用レーザー光源
３、２３、３３ スペイシャルフィルタ
４ａ〜４ｂ、２４ａ〜２４ｂ、３４ａ〜３４ｂ レンズ
５ａ〜５ｃ、２５ａ〜２５ｂ、３５ ビームスプリッタ
６ａ〜６ｇ、２６ａ〜２６ｅ、３６ａ〜３６ｂ 光学素子
７ａ〜７ｃ、２７ａ〜２７ｂ、３７ 撮像素子
８ａ〜８ｃ、２８ａ〜２８ｂ、３８ ＮＤフィルタ
９、２９、３９ａ〜３９ｂ 鏡
１０、３０、４１ ＰＺＴステージ
１１ 基準面
１２ 微小変位ステージ
４０ 絞り
５０ ＰＺＴアクチュエーター
ｍ３６ｃ 第３光学素子（鏡像）
ｍ３７ 撮像素子（鏡像）
Ｏ 計測対象物
Ｏ’ 計測対象物（鏡像）
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の撮像素子を用いたデジタルホログラフィを用いた光学系であって、
１つのレーザー光源を、物体に照射する物体光と、前記複数の撮像素子へ照射する参照光に分離するための手段と、
計測対象物を置く場所に、特定のパターンを持つ基準面を解析領域に設置する手段、
とを備える変位・ひずみ分布計測光学系。
【請求項２】
鏡面に計測対象物が写り込むように、計測対象物の近傍に１枚または複数枚の鏡を設置することを特徴とする、請求項１に記載の変位・ひずみ分布計測光学系。
【請求項３】
前記基準面は、複数方向にそれぞれ微小移動できるステージに取り付けられていることを特徴とする、請求項１に記載の変位・ひずみ分布計測光学系。
【請求項４】
前記基準面の格子パターンが格子模様であることを特徴とする、請求項１、２または３に記載の変位・ひずみ分布計測光学系。
【請求項５】
前記基準面の格子パターンが、２次元であることを特徴とする、請求項１、２または３に記載の変位・ひずみ分布計測光学系。
【請求項６】
前記基準面は、ステージに取り付けられており、移動することができることを特徴とする、請求項１乃至５に記載の変位・ひずみ分布計測光学系。
【請求項７】
請求項１または２において、複数の撮像素子で得られたホログラムから、基準面上の同一の部分が再生された点を各再生像において検出することで、各再生像における画素毎の対応付けを行う変位・ひずみ分布計測手法。
【請求項８】
格子パターンの位相を用いることを特徴とする、請求項７に記載の変位・ひずみ分布計測手法
【請求項９】
ランダムなパターンによる対応点の検出手法を用いることを特徴とする、請求項７に記載の変位・ひずみ分布計測手法。
【請求項１０】
基準面をステージによって複数の位置に移動させ、移動させた各位置で撮影されたホログラムから得られた複数の再生像を用いて、位相シフト法によって算出された位相分布を用いることで、基準面上の同一の部分が再生された点を検出することを特徴とする、請求項７に記載の変位・ひずみ分布計測手法。
【請求項１】
複数の撮像素子を用いたデジタルホログラフィを用いた光学系であって、
１つのレーザー光源を、物体に照射する物体光と、前記複数の撮像素子へ照射する参照光に分離するための手段と、
計測対象物を置く場所に、特定のパターンを持つ基準面を解析領域に設置する手段、
とを備える変位・ひずみ分布計測光学系。
【請求項２】
鏡面に計測対象物が写り込むように、計測対象物の近傍に１枚または複数枚の鏡を設置することを特徴とする、請求項１に記載の変位・ひずみ分布計測光学系。
【請求項３】
前記基準面は、複数方向にそれぞれ微小移動できるステージに取り付けられていることを特徴とする、請求項１に記載の変位・ひずみ分布計測光学系。
【請求項４】
前記基準面の格子パターンが格子模様であることを特徴とする、請求項１、２または３に記載の変位・ひずみ分布計測光学系。
【請求項５】
前記基準面の格子パターンが、２次元であることを特徴とする、請求項１、２または３に記載の変位・ひずみ分布計測光学系。
【請求項６】
前記基準面は、ステージに取り付けられており、移動することができることを特徴とする、請求項１乃至５に記載の変位・ひずみ分布計測光学系。
【請求項７】
請求項１または２において、複数の撮像素子で得られたホログラムから、基準面上の同一の部分が再生された点を各再生像において検出することで、各再生像における画素毎の対応付けを行う変位・ひずみ分布計測手法。
【請求項８】
格子パターンの位相を用いることを特徴とする、請求項７に記載の変位・ひずみ分布計測手法
【請求項９】
ランダムなパターンによる対応点の検出手法を用いることを特徴とする、請求項７に記載の変位・ひずみ分布計測手法。
【請求項１０】
基準面をステージによって複数の位置に移動させ、移動させた各位置で撮影されたホログラムから得られた複数の再生像を用いて、位相シフト法によって算出された位相分布を用いることで、基準面上の同一の部分が再生された点を検出することを特徴とする、請求項７に記載の変位・ひずみ分布計測手法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【公開番号】特開２０１２−２２０３４９（Ｐ２０１２−２２０３４９Ａ）
【公開日】平成２４年１１月１２日（２０１２．１１．１２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−８６７９７（Ｐ２０１１−８６７９７）
【出願日】平成２３年４月８日（２０１１．４．８）
【新規性喪失の例外の表示】特許法第３０条第１項適用申請有り １．平成２２年１０月９日・１０日・１１日 日本機械学会Ｍ＆Ｍ２０１０材料力学カンファレンスで発表 ２．平成２３年２月１６日 国立大学法人和歌山大学大学院の平成２２年度知的計測クラスタ修士論文発表会で発表
【出願人】（５０４１４５２８３）国立大学法人 和歌山大学 (62)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１１月１２日（２０１２．１１．１２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年４月８日（２０１１．４．８）
【新規性喪失の例外の表示】特許法第３０条第１項適用申請有り １．平成２２年１０月９日・１０日・１１日 日本機械学会Ｍ＆Ｍ２０１０材料力学カンファレンスで発表 ２．平成２３年２月１６日 国立大学法人和歌山大学大学院の平成２２年度知的計測クラスタ修士論文発表会で発表
【出願人】（５０４１４５２８３）国立大学法人 和歌山大学 (62)
【Ｆターム（参考）】
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