【課題】 位相シフトマスクの位相欠陥を高速に検出するレチクル検査装置。
【解決手段】 レーザ１、光偏向器２、集光レンズ３を備えた走査型顕微鏡方式の走査光学系を有し、レンズ５が走査微小集光スポットの作るフォトマスク（レチクル）４の位相欠陥透過像をフーリエ変換像に変換する。空間フィルタ６がフーリエ変換像を強度変化に変換して、簡易かつ高速に位相欠陥を検出する。 （もっと読む）

【課題】１回の測定で複数のデータを処理して１個の基板の膜厚測定の短時間化を図ることが可能な分光膜厚測定装置を提供する。
【解決手段】液晶カラーフィルタ基板Ｂのカラーパターン内部及びパターン無し部のレジスト等の膜厚を測定及び分光特性を測定する分光膜厚測定装置である。一つの光源装置１から複数の測定部へ測定光Ｌ１を照射する。複数の測定部からの各反射光Ｌ２がイメージング分光器１２に入射して、各反射光をそれぞれ独立に分光する。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】
セグメント型半径方向空間光変調器（５０）が、中心軸（４０）に対し各種角配向に配置され半径方向に伸びる複数の活性光学モジュレータセクタ（５００、５１０、５２０、５３０、５４０、５５０、５６０、５８０、６００、６１０、６２０、６３０、６４０、６５０）を含む活性光学領域（５４）を有する。このセグメント型半径方向空間光変調器（５０）は、照合および近接照合のため他の画像に対し記録し、保存し、再生し、検索し、比較するため、形状により画像の特徴抽出されつつあるため、フーリエ変換光学パターン（３２）の部分を、画像から分離して隔離するのに用いられる。画像は、フーリエ変換光学パターン（３２）の光力を増加するためおよび、照合に加えて近接照合を識別するため別の画像形状特徴に対する比較を評価するため、新たな形状内容を追加することなく、多重画像にすることができる。
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【課題】特定の波長（もしくは小帯域波長範囲）のみを有する放射線ソースを用いて、変形したおそれのあるアライメントマーカを使用する場合に、アライメントの質を向上させるアライメントシステムを提供する。
【解決手段】基板上のマーカ構造はラインエレメントとトレンチエレメントを含み、ラインエレメントとトレンチエレメントの各々は第一方向に長さを有し、かつ、第一方向に垂直な第二方向にて交互に反復配列して配置され、反復配列はシーケンス長を有し、マーカ構造は少なくとも１つのピッチ値を有し、ラインエレメント及びトレンチエレメントの幅は、マーカ構造のシーケンス長にわたって最少ライン幅値と最大ライン幅値の間で変わる。ラインエレメントおよびその隣接するトレンチエレメントのペアのデューティサイクルはマーカ構造のシーケンス長にわたりほぼ一定とし、ピッチ値はシーケンス長にわたり最少ピッチ値から最大ピッチ値まで変動する。 （もっと読む）

【課題】発熱物体の位置検出の高精度化を実現することができるうえに、装置全体の簡略化及び小型化を図ることができる発熱物体の位置検出装置を提供する。
【解決手段】光送信部２と、発熱物体Ａが発する赤外線ＩＲ及び発熱物体Ａで反射した反射光ＬＲを集光する集光レンズ３と、赤外線ＩＲ及び反射光ＬＲを分光する分光手段４と、分光手段４を経た赤外線ＩＲを検出する赤外線センサ５と、分光手段４を経た反射光ＬＲを検出する光受信部６と、赤外線センサ５及び光受信部６からのデータに基づいて発熱物体Ａまでの距離を測定する信号処理手段７を備えた位置検出装置とし、赤外線画像で捕捉した発熱物体Ａの方位及び距離を検出する。 （もっと読む）

半導体ウェハのパターン形成領域の層厚を測定するための厚さ測定装置は、パターン形成領域から取られた反射データを得、そこから周波数スペクトルを得るためのスペクトルアナライザと、前記スペクトルを探索して前記スペクトル内のピーク周波数を見出すためのピーク検出器であって、前記探索をそれより前の学習段階で見出されたピーク周波数に対応する領域に限定するように動作可能であるピーク検出器と、前記ピーク周波数付近の前記スペクトルをフィルタリングするための、前記ピーク検出器に関連付けられた周波数フィルタと、前記学習段階で得たパラメータを使用して、前記フィルタリングされたスペクトルの最尤適合を実行し、少なくとも所望の層厚を得るための最尤フィッタと、を備える。高分解能の非実時間学習段階でそれより前に得られたパラメータを用いて最尤適合を実行することにより、実時間に高分解能の結果が提供できる。
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加工物の形状、輪郭および／または粗さを測定するための測定装置（１）は、大きな開口数を有する非接触光プローブに基づいている。プローブは、少なくとも２つの光受容体が関連付けられる少なくとも２つの異なる焦点を有する。２つの光受容体は、加工物表面がプローブの測定範囲内に維持されるように、光プローブを追跡するための位置決め装置（１３）を制御するための差分信号を生成する。差分信号は、センサ器具（３）の位置の高速かつ正確な追跡をもたらすことが分かっている。
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【課題】 光学システムにおいて、位相および振幅情報を含む波面分析、ならびに３Ｄ測定を実行する方法および装置、特に、光学システムの画像面のような、中間面の出力の分析に基づく方法および装置を提供する。
【解決手段】 薄膜コーティング、または多層構造の個々の層が存在する表面トポグラフィの測定について記載する。多重波長分析を、位相および振幅マッピングと組み合わせて利用する。マクスウェルの方程式の解に基づき、仮想波面伝搬を用いて、波面伝搬および再合焦によって位相および表面トポグラフィの測定を改良する方法について記載する。このような位相操作方法によって、または広帯域およびコヒーレント光源の組み合わせを利用する方法によって、光学撮像システムにおいてコヒーレント・ノイズの低減を達成する。本方法は、集積回路の分析に適用され、コントラストを高めることにより、または１回のショット撮像における３Ｄ撮像によってオーバーレイ測定技法を改善する。 （もっと読む）

行程長を調整可能な干渉測定装置と、照明装置（１）と、光線の成形および／または案内および／または結像のための光学素子と、固定光源と、眼のアライメンント状態の把握のための検出素子と、干渉信号を検出するための光検出器と、長さ測定システムと、制御・解析装置とを備えた眼軸長測定装置。固定光源（２）は、可視光を発し、照明装置は、眼内における散光成分がごくわずかしか発生しない波長９００ｎｍ〜１１００ｎｍの測定光を発する。本解決法は、眼の眼軸長および／または角膜曲率および／または前房深度を測定するための複合装置に利用すると有利である。埋め込み用眼内レンズの決定に必要なデータの非接触式測定、および、伝送エラーの回避のほか、感度が高められる。
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本発明は、照明光を短波長化しなくても、確実に繰り返しピッチの微細化に対応できる表面検査装置および表面検査方法の提供を目的とする。そのため、被検基板２０の表面に形成された繰り返しパターンを直線偏光Ｌ１により照明する手段１３と、表面における直線偏光Ｌ１の振動面の方向と繰り返しパターンの繰り返し方向との成す角度を斜めに設定する手段１１，１２と、繰り返しパターンから正反射方向に発生した光Ｌ２のうち、直線偏光Ｌ１の振動面に垂直な偏光成分Ｌ４を抽出する手段３８と、偏光成分Ｌ４の光強度に基づいて、繰り返しパターンの欠陥を検出する手段３９，１５とを備える。 （もっと読む）

本発明は、
-像焦点面における物体の基本的な表面の光学フーリエ変換像を形成する手段と、
-検出手段によって提供された情報から少なくとも１つの物体の寸法的および／または構造的な特徴に関連するデータを生成する処理手段と、
を含むことを特徴とする、物体の寸法的または構造的な特徴を測定するための装置に関する。
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パターン化と非パターン化ウェハの検査システムを提供する。１つのシステムは、検体を照明するように構成された照明システムを含む。システムは、検体から散乱された光を集光するように構成された集光器をも含む。加えて、システムは、光の異なる部分に関する方位と極角情報が保存されるように、光の異なる部分を個別に検出するように構成されたセグメント化された検出器を含む。検出器は、光の異なる部分を表す信号を生成するように構成されていてもよい。システムは、信号から検体上の欠陥を検出するように構成されたプロセッサを含むこともできる。他の実施形態におけるシステムは、検体を回転・並進させるように構成されたステージを含むことができる。１つの当該実施形態におけるシステムは、検体の回転および並進時に、広い走査パスで検体を走査するように構成された照明システムを含むこともできる。
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【課題】 液晶分子が存在する液晶層のみのリタデーション（ｄＬＣ・△ｎ）を求めることができ、セル厚を求めることができる液晶表示装置、そのセル厚測定装置及び測定法並びに位相差板を提供する。
【解決手段】 液晶領域中の液晶分子が電圧無印加時に略垂直に配向する液晶層と、液晶層を挾持する１対の基板と、を備える液晶表示装置の液晶セル５の厚さを測定するセル厚測定装置において、面内にリタデーションを有する１対の１軸性位相差板をその遅相軸方向をそろえて両外側表面に取付けた液晶セルを搭載するステージ１と、偏光子２３を有し、かつ、位相差板の遅相軸方向に対して方位角方向４４°〜４６°の偏光光を出射する光源２と、偏光光に対して偏光子とクロスニコルに配設された検光子３１を有し、かつ、偏光光の透過光量を検出する光検出器３と、位相差板に垂直な方向から偏光光の極角方向入射角を変化させる回転装置４と、を備える。 （もっと読む）