【課題】合理的な測定時間内に十分な測定点数を伴った、シリコンウェーハの最表面層の歪分布を測定することが可能なシリコンウェーハ表面歪分布測定装置を提供する。
【解決手段】アルゴンイオンレーザ１０から発せられる波長約３６３．８ｎｍの紫外光を集光照射機構４０等を介して測定対象試料６０であるシリコンウェーハ上に集光させる。紫外光が照射されるシリコンウェーハ上の領域から発せられたラマン散乱光は、集光照射機構４０を介してモノクロメータ式の分光器８０に入射される。ＣＣＤ検出器９０の映像信号からラマン散乱光のエネルギ分布を演算し、紫外光が照射されるシリコンウェーハの領域における歪量を演算する。このシリコンウェーハ表面の歪分布は、コンピュータ１００等によりマッピング表示される。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、段差パターンのエッジ等により高さが急激に変化する箇所の算出高さを、空間キャリア法の原理を利用し、対象の表面形状をナノメートルオーダの精度で計測する技術を提供する。
【解決手段】
配線等のパターンを有する対象の表面形状を測定する方法であって、空間キャリア法の原理を利用して、対象に重畳するキャリア縞の方向を、影響を受けるパターンの方向と平行にならないよう傾斜角を調整し、パターンに沿って高さ演算を施し、対象のパターンエッジ近傍の表面形状を高精度に測定することを特徴とする微小高さ測定方法。 （もっと読む）

【課題】干渉計システムにおいて、大きな光学素子又は短い離間についての要請がなく、平面鏡干渉計を用いて測定するためのダイナミック測定レンジを向上すること。
【解決手段】
測定されている物体１２０への第１の方向に沿った第１の成分、及び該第１の方向に対して垂直な第２の方向に沿った第２の成分を含む光路１５６に基づいた測定値を示す第１の信号を提供する第１の測定チャネルと、前記第２の方向に沿った少なくとも１つの成分を有する測定値を示す第２の信号を提供する第２の測定チャネルと、前記第１の信号の測定値及び前記第２の信号の測定値を用いて、前記第１の方向に沿った測定値を求める処理システムと、を備える。
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【課題】 光学的技法は、半導体ウェーハなどの基板を特徴づけるために用いられることがあるが、既存の技法は、時間が掛かる、扱いにくいなどの問題がある。
【解決手段】 光学的技法を用いてサンプルを特徴づけるためのシステム及び技法を提供する。コヒーレント光がサンプルに入射し、回折パターンが検出されることがある。１若しくは複数のサンプル特性及び／または１若しくは複数のパターン特性を決定するために、回折パターン強度を示す情報が用いられることがある。例えば、応力、そり、曲率、汚染などのサンプル特性が決定されることがある。コヒーレント光は、単一波長の光であることがあるかまたは複数の波長の光であることがある。 （もっと読む）

【課題】 検出対象のパラメータを簡単に、正確に検出することができる検出対象のパラメータ検出方法及び検出装置を提供する。
【解決手段】 検光子１３の透過軸方向が入射面に対して任の角度ω_０傾き、偏光子１１の透過軸方向が入射面に対して０°及び９０°傾いている時の透過光強度に基づいて比ｒを求める。また、検光子１３の透過軸方向が入射面に対して任意の角度ω傾き、偏光子１１の透過軸方向が入射面に対して任意の角度α傾いている時の透過光強度を、相異なる少なくとも２つ以上のωとαの組み合わせに対して検出する。そして、検出した複数の透過光強度と比ｒに基づいて検出対象１２のリタデーションや厚さを求める。 （もっと読む）

【課題】 光干渉法と偏光解析法を1台の装置において可能にすることによって、基板上に形成した透明な薄膜の屈折率と膜厚や、基板のたわみや膜の段差などを試料面内で２次元的に測定できるようにするとともに、測定精度を向上させた表面測定装置を提供する。
【解決手段】 ある偏光状態にある平面波を試料１に照射し試料１の反射による偏光状態の変化をセンサー１１によって測定することを特徴とする光学式表面測定装置において、反射側のレンズ７の焦点に偏光素子８を置くことを特徴とする表面測定装置。 （もっと読む）

【課題】光ファイバに所定の伸び歪みを容易に与えることができる、光ファイバ支持装置及び光ファイバの伸長方法を提供する。
【解決手段】光ファイバ２０を取り付ける第１の取付け部１２−１を所定位置に有し、少なくとも一端において嵌合孔３０を有する第１の支持部材１０−１と、光ファイバ２０を取り付ける第２の取付け部１２−２を所定位置に有し、少なくとも一端において第１の支持部材１０−１の嵌合孔３０と嵌合する嵌込部３１を備えた第２の支持部材１０−２とを有し、嵌合孔３０と嵌込部３１が嵌合されて、第１の支持部材１０−１と第２の支持部材１０−２が直線配置されたとき、第１の支持部材１０−１と第２の支持部材１０−２との嵌合深さを変更することにより、第１の取付け部１０−１と第２の取付け部１０−２の距離が変更されるように、光ファイバ支持装置１を構成する。 （もっと読む）

【課題】ラインセンサの解像度に見合った高い検出精度でエッジ位置を検出することのできるエッジ検出方法およびエッジ検出装置を提供する。
【解決手段】ラインセンサの出力を正規化処理した正規化光量分布と、前記フレネル回折による光量分布パターンを近似した近似式との相関を該近似式における基準位置を異ならせてそれぞれ計算し、相関値がピークとなる位置を前記被検出体のエッジ位置として検出する。特にラインセンサの正規化出力とフレネル回折パターンの近似式との光量の差の絶対値の総和を相関値として計算する。 （もっと読む）

【課題】 簡単な構成で撮像装置の受光感度を上昇させ、精度の高い位置および指示方向計測を実現することができる位置および指示方向計測システムを提供する。
【解決手段】 位置および指示方向計測システムは、同心円状の縞模様光１１を投射する投射装置１２と、投射装置から射出された縞模様光１１を撮像する撮像装置１３，１４と、撮像装置から得られた縞画像に基づいて投射装置１２の位置および指示方向を求める演算装置１５とを備える。撮像装置１３，１４は、縞模様光１１を集光するための集光レンズ１６，１７と、集光レンズを介して得られた縞模様光を縞画像に変換する画像センサ１８，１９とを有する。画像センサの受光面は集光レンズの合焦位置を除く位置に配置される。 （もっと読む）

【課題】物体の検査の光測定システムの精度を向上させる。
【解決手段】物体（１２）の表面に光を投影するための光源（２２）と、物体の表面から反射された光を受信するための画像システムとを含む光測定システム（１０）で使用するためのマスク（５２）を生成するための方法（１００）。この方法は、検査される物体のプロファイルを決定すること（１０２）、および決定されたプロファイルに基づいてマスクを生成すること（１０４）を含み、マスクが、光源から見た物体のプロファイルに事実上一致するプロファイルを有する、それを通り抜けて広がる開口部（１７２）を含む。 （もっと読む）

【課題】電源投入後実際の映像を投写する前に、速やかに台形ひずみの補正が可能なプロジェクタを提供する。
【解決手段】プロジェクタ０は、スクリーンに映像を投写する映像投写部１と、赤外光を反射する赤外反射性の塗料であらかじめ所定のパターンが形成されたスクリーンに赤外光を投光する赤外投光部２と、このパターンから反射した赤外光を受光し且つ受光位置に応じたパターンの画像データを出力する赤外受光部３１，３２と、この画像データを処理してスクリーンまでの距離やスクリーンの傾斜角を演算する演算部とを備えている。このパターンは、赤外光を反射する赤外反射性の塗料で形成されており、通常の投写時には映像の鑑賞の妨げにならず、測定時にはスクリーンに向かって投光される赤外光を反射し、以ってパターンがプロジェクタから光学的に撮像可能になる。 （もっと読む）

【課題】従来に多色印刷を行いときの色の位置合わせでは、トナーの反射率が光源の色彩によって異なったり、トナー担持体の反射光により反射形状が乱れたりするので、種々の補正手段が必要であり、高価なものとな成ると共に精度も不足気味であった。
【解決手段】本発明により、複数の異なる色による画像形成部を有した多色画像形成装置の色ずれ補正において、単一偏光光を投光する投光部と透光光とは異なる偏光光を受光する受光部とを有する光センサと、トナー位置検出用パターンとして発光波長に対し反射率の高いトナーは単独で形成したパターンと、発光波長に対して反射率の低いトナーは反射率の高いトナーを下地として形成したパターンとを有し、各トナーパターンを光センサで検出して各色の色ずれを補正する多色画像形成装置とすることで課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】チップ形電子部品などにおける複数の検査項目を、１台の検査用カメラで検査できる電子部品の外観検査方法を提供することを目的とするものである。
【解決手段】電子部品の被検査体３に対して、第１の照明系１１を点灯し検査用カメラ１から検査用の撮影画像をメモリ３１に取込む第１ステップと、第１の照明系１１を消灯し、第１の照明系１１による検査項目以外を検査する第２の照明系１２を点灯して検査用カメラ１から検査用の撮影画像をメモリ３１に取込む第２ステップと、メモリ３１に蓄積された検査用の撮影画像における画像処理および演算判定を画像処理演算判定部３３で行う第３ステップとからなる電子部品の外観検査方法である。 （もっと読む）

対象物の再構成で使用するシステムおよび方法が開示されている。システムは、照明ユニット、及び画像化ユニットを備える（図１参照）。照明ユニットは、コヒーレント光源および光源から対象物に伝播する照明光の光路内に収容されたランダムスペックルパターンの発生器を備え、それにより対象物上にコヒーレントランダムスペックルパターンを投影する。画像化ユニットは、照明領域の光応答を検出して画像データを発生するように構成される。画像データは、投影スペックルパターンを有する対象物を示し、パターンの参照画像に対する対象物の画像におけるパターンのずれを示す。これが対象物の３次元の実時間再構成を可能にする。
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【課題】 センサから測定面までの距離を測定する安価で小型なセンサを提供する。
【解決手段】 発光素子と複数の受光素子とを一体的に備え、複数の受光素子それぞれの光軸が交わらないように配置した。 （もっと読む）

【課題】 表示装置に用いられる蛍光体パネルにおける蛍光体の塗布状態を検査する検査装置で、蛍光体の欠落や印刷ずれを検査する。
【解決手段】 紫外線照射手段４が検査対象となる蛍光体パネル２に対して一方の面の側から紫外線を照射し、白色光照射手段５が検査対象となる蛍光体パネル２に対して前記一方の面の側から白色光を照射し、撮像手段７、８が検査対象となる蛍光体パネル２に対して紫外線及び白色光が照射される面の側とは反対の面の側から画像を撮像し、検出手段１２が、撮像手段７、８により撮像された画像に基づいて、蛍光体３による発光色が撮像されるべきであるが他の色が撮像された画素に対応した蛍光体パネル２の面上の位置に蛍光体の異常が存在することを検出する。 （もっと読む）

【課題】複数の界面を持つ光透過性のある被測定物の各界面の位置を測定する。
【解決手段】白色光源からの光を参照面および被測定物に照射して反射光を干渉させ、参照面を移動させたときの干渉縞を撮像し、界面を１つもつ基準面による干渉強度信号から直流成分を減じたスペクトルの複素共役データと、被測定物の複数の界面による干渉距度信号から直流成分を減じたスペクトルの積をとり逆フーリエ変換し相関を求めることで被測定物の界面の位置を求められる。 （もっと読む）

【課題】蛍光塗料を用いて離型剤を可視化することを図り、金型のキャビティ形成面に塗布された離型剤の分布や塗布厚を簡易観察により判別して、離型剤塗布状態の良否を判定することが可能である離型剤塗布状態検出方法及び離型剤塗布状態検出装置を提案する。
【解決手段】蛍光物質を含有する離型剤が塗布された金型のキャビティ形成面８に紫外光を照射し、前記キャビティ形成面８にて発される可視光の発光強度に基づいて離型剤塗布状態を検出して、離型剤の分布や塗布厚などの、前記キャビティ形成面８への離型剤塗布状態の良否を判定する。離型剤塗布状態のうち塗布量の多少を推定するに際しては、離型剤塗布量と可視光の発光強度との関係を示す測定ゲージを用いる。 （もっと読む）

【課題】 多種の記録媒体と記録ヘッドとの間のギャップの検出を正確に行い、検出精度保持のために自動校正することが可能な記録装置及びその装置に適用される距離検出方法を提供することである。
【解決手段】 光を第１及び第２の角度で夫々照射する第１及び第２のＬＥＤと、夫々から照射され測定面で反射された正反射光と乱反射光とを受光する互いに離間した第１及び第２のフォトトランジスタを一体的に備えた光学センサを用いる。この光学センサにより
記録媒体に光を照射して記録媒体からの反射光を測定し、次に、既知の高さをもつ被測定部材に光を照射してその被測定部材からの反射光を測定する。そして、記録媒体に対して照射した光の反射光により、さらに被測定部材に対して照射した光の反射光により第１及び第２フォトトランジスタから得られる各出力信号に基づいて、記録ヘッドと記録媒体との間の距離を検出する。 （もっと読む）

【課題】 透明体による全遮光状態を判定することのできる機能を備え、例えば透明体の位置制御に用いるに好適なエッジ検出装置を提供する。
【解決手段】 ラインセンサと、このラインセンサに向けて単色光を照射する光源と、上記単色光の光路に位置付けられた透明体のエッジにおけるフレネル回折の光強度分布から前記ラインセンサの画素配列方向における上記透明体のエッジ位置を検出するエッジ位置解析手段と、更に上記エッジ位置解析手段にて前記透明体のエッジ位置が検出できないとき、前記ラインセンサによる全受光量が予め記憶した該ラインセンサの全入光状態での全受光量よりも小さいときには前記透明体による全遮光状態として判断する全遮光状態判断手段とを備える。 （もっと読む）