【課題】被測定物の奥行き方向の空間分解能を低下させずに測定範囲を拡大できる三次元形状測定装置を提供する。
【解決手段】色が規則的に経時変化するチャープ光パルスを生成する第１パルス光源３０と、所定の波長の単波長光パルスを生成する第２パルス光源３２と、ワーク２４から反射されたチャープ光パルス１１０ａ、１１０ｂの第１反射光像を取得する反射光像取得部７８と、前記第２反射光像の二次元情報を参照し、ワーク２４から反射された単波長光パルス１１２の第２反射光像を取得する反射光像取得部７８と、前記第１反射光像の二次元情報及び色情報を用いてワーク２４の三次元情報を取得する三次元情報取得部８０と、前記チャープ光パルスをワーク２４に向けて照射するタイミングと、前記単波長光パルスをワーク２４に向けて照射するタイミングとを調整するタイミング制御部７０とを有する。 （もっと読む）

【課題】測定領域が狭小の場合のみならず比較的広大の場合であっても、被測定物の三次元形状を測定可能とする三次元形状測定装置を提供する。
【解決手段】色が規則的に経時変化する光パルスを生成するパルス光源３０及びチャープ導入装置３２と、生成された前記光パルスをワーク２４の表面２６に照射し、前記ワーク２４で反射された前記パルス光を所定のタイミングで所定の光量だけ切り出し、前記光パルスの反射光像を取得する反射光像取得部７０と、取得された前記反射光像の二次元情報及び色情報を用いてワーク２４の三次元情報を取得するカラー二次元検出器５２とを備え、反射光像取得部７０は、ワーク２４に照射される前記光パルスの照射領域４２を拡縮する焦点位置補正部６６と、拡縮された照射領域４２に応じて前記光パルスを切り出す前記所定の光量を調整するシャッタ動作補正部６８とを有する。 （もっと読む）

【課題】被覆膜の厚さと独立して、基板よりも反射率の低い被覆膜付きの基板上に存在するパターンの三次元形状を非破壊で測定することができる三次元形状測定装置を提供することである。
【解決手段】可視光に対して透明な被覆膜付きの基板上に設けられた不透明なパターンの物理的三次元形状を測定する三次元形状測定装置であって、第１波長の照明光と、前記第１波長と異なる第２波長の照明光とを切り替えて照射する光源部と、前記第１波長の照明光を照射したときの前記パターンと前記被覆膜との第１仮想段差と、前記第２波長の照明光を照射したときの前記パターンと前記被覆膜との第２仮想段差とを測定する光検出器と、前記第１仮想段差と前記第２仮想段差とに基づいて、前記パターンの物理的三次元形状を決定する処理部とを備える。 （もっと読む）

【課題】製造された全ての半導体基板の所定の測定点における少なくとも応力と膜厚とを自動的に測定し、かつ、的確に分析して高性能で生産性よい基板製造工程の確立に寄与する基板検査装置を提供できるようにする。
【解決手段】測定対象ウェハ３を移動可能な試料台４上に搬送する搬送装置と、試料台４上のウェハ３表面の測定点Ｐを観察する光学顕微鏡１０と、その測定点Ｐに多波長の偏光された光Ｌ₃を照射してウェハ表面に関する情報を出力するエリプソメータ光学系４０と、ウェハ３の測定点Ｐにレーザ光を照射してウェハ３に関する他の情報を出力するラマン分光光学系２０と、それら情報を用いて膜厚・屈折率及び応力・組成などの物理情報を解析し出力するコンピュータ６０とを備えている。 （もっと読む）

【課題】簡単なハードウェア構成で高解像度の３Ｄキャプチャが可能な３Ｄカメラを提供する。
【解決手段】３Ｄ作像装置３０は、一連のＩＲ光のパルスを射出する光源装置４２と、各々がＩＲ光に感度のある感光セルのアレイを有するカメラ６０と、被写体からの光を感光セルに、光の各光線が共通の焦点を通るように送るための撮像レンズと、光のパルスの射出と同期して、カメラ６０によってキャプチャされた画像を交互に記憶する２個のメモリ６４及び６６と、２個のメモリ６４及び６６に記憶された２個の連続した画像と、光源装置４２、カメラ６０及び対象点１０２の位置とを利用して、被写体の深度マップを計算する信号処理装置と、を含む。光源装置４２から射出される光のパルスは、交互に第１及び第２の強度を有する。 （もっと読む）

【課題】３つの位相の異なるデータを取得して、高い空間分解機能をもち、迅速でぶれのない三次元測定装置を提供する。
【解決手段】測定対象物４０に対して、同じ周期でそれぞれ位相が２π／３シフトした赤、緑、青の光成分パターンを投影する照射手段２０と、測定対象物４０からの反射光を撮像する撮像手段３０と、撮像手段３０により撮像された画像データの各座標における反射光を赤、緑、青の光成分パターンに分解し、赤、緑、青の光成分パターンの輝度データを演算して、各輝度の合計が一定値になるように補正パラメータを演算し、補正パラメータに基づき、撮像手段により撮像された赤、緑、青の光成分パターンの輝度データを補正して、測定対象物４０の位相情報を演算して、三次元形状の情報を算出する演算手段５０を有することを特徴とする三次元形状計測装置である。 （もっと読む）

【課題】 光源からの光により生じる対象物の影から対象物の形状をより適切に推定可能な形状推定システム等を提供することを目的とする。
【解決手段】 形状推定システム１において、影撮影装置５は、例えば、撮影部１９の周囲に複数の光源１５₁，・・・，１５_Nを配置し、例えば１回ずつ点灯させるＮ回点灯制御を行い、各点灯制御に同期して撮影部１９は撮影する。撮影データは撮影データ記憶部２１に記憶され、画像データ修正部２７によりノイズ除去等の修正処理が施され、特徴情報生成部２９は、例えば多段階のウェーブレット多重解像度解析を行い、各成分の二乗平均平方根を取ることにより得られる対象物３の影の特徴を示す特徴情報を生成する。対象物３が既知の形状であれば、学習部３１は例えば自己組織化マップを学習させる。対象物３が未知の形状であれば、推定部３５は学習後の自己組織化マップに提示して既知の形状の一つを対象物３の形状として推定する。 （もっと読む）

【課題】 光ファイバーセンサを機器内部に設けて、機器内部の歪みおよび温度を直接的に計測可能とした、電子機器を得ることを目的とする。
【解決手段】 筐体と、上記筐体の内部に、互いに間隔を空けて収納される複数の基板と、上記各基板の表面にそれぞれ固着され、温度計測用のファイバーグレーティングと歪み計測用のファイバーグレーティングとを複数個所有し、上記基板に一筆書きで配線された光ファイバーセンサとを備えて、電子機器を構成する。 （もっと読む）

本開示は、複数のノード（１２）を含み、各ノードは、指向性を有するセンサ（１８）と、通信モジュール（１４）と、指向性を有するセンサ（１８）から較正オブジェクト（２０）のローカルな測定値を受信し、通信モジュール（１４）を介して近傍ノード（１２）から較正オブジェクト（２０）の追加的な測定値を受信し、ローカルな及び追加的な測定値に応じて較正パラメータの初期集合を推定し、通信モジュール（１４）を介して近傍ノード（１２）から較正パラメータの追加的なセットを受信し、較正パラメータの追加的な集合に応じて較正パラメータの更新された集合を再帰的に推定するよう構成されたプロセッサ（１６）とを有する、センサネットワーク（１０）に関する。カメラノード（１２）の大規模ネットワーク（１０）を構成する更なるシステム及び方法が開示されている。
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【課題】照明手段を備えた二次元測定機において、測定物を常に高コントラストで撮像できるようにするとともに、常に充分な光量を得ることできるようにする。
【解決手段】測定物（１）を拡大する顕微鏡（５）と、測定物を照明する照明手段（１１）とを備えた二次元測定装置において、照明手段は、それぞれ異なる波長（λ_１、λ_２、λ_３、λ_４、λ_５）の光（１４）を出射する複数のＬＥＤ照明（１２）を備えており、複数のＬＥＤ照明のうちから選択した１つのＬＥＤ照明から出射された光（１４）が、コリメータレンズ（１３）で平行光線とされ、顕微鏡内に配置された半透明プリズム（１６）で測定個所（２０）に向けて反射される。 （もっと読む）

【課題】 ２波長露光など、誤計測要因が発生する状態において高精度な像面計測、ベストフォーカス計測、アライメント原点補正を可能にする。
【解決手段】 ２波長露光において、露光時と同様に2波長発振状態にてTTLキャリブレーション計測を行い、特に、露光領域内の軸外パターンでのフォーカス検出を行う際には、レンズ開口の法線方向（サジタル方向）パターンを用いてフォーカス位置を検出することで倍率色収差による像のにじみの影響を無くしたものである。さらに、単一波長露光時と２波長露光時のそれぞれにおいて最適なキャリブレーション計測チャートを選択する。
また、二波長露光における倍率色収差の影響のみに限定するものではなく、distやコマ、テレセン度などフォーカスにより像シフトが起こり計測誤差が発生する場合でも同様な構成手法により誤差量を減らすことが出来る。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で、被検体表面の比較的浅い凹凸や色の変化を検出する方法との装置を提供する。
【解決手段】タイヤ周方向に光軸を中心とした正規分布の強度分布を有する、赤色光を照射する第１のレーザー１１Ａと青色光を照射する第２のレーザー１１Ｂとを、タイヤ周方向に所定距離だけ離れて配置して、未加硫タイヤ５０のサイドウォール部５１表面に赤色光と青色光とを同時に照射するとともに、赤色光と青色光とが重なった部分をカラーラインカメラ１２で撮影して、赤色光及び青色光の反射光の強度Ｉ_r，Ｉ_bをそれぞれ算出した後、強度比Ｒ＝（Ｉ_r/Ｉ_b）を算出し、この強度比Ｒと予め求めておいた強度比と基準位置ｚ₀からの高さとの関係を表すＲ−ｚテーブル３４Ｔとを用いて、基準位置ｚ₀からの高さｈを算出し、サイドウォール部５１表面の凹凸状態を検出するようにした。 （もっと読む）

【課題】ハイパーレンズを用いてサンプルの光学特性の波長依存性の情報を入射光の波長以下のサイズで得る。
【解決手段】複数の光源波長と各光源波長に合わせて設計・作製したハイパーレンズ１００７をレーザ顕微鏡のレンズホルダ１００１に配置する。被観察物体の色素１００６をサンプルホルダ１００５に並べ、光源部１００３からの入射光１００８を入射し、ハイパーレンズ１００７を通過した光を顕微鏡３０７で受け、ＣＣＤカメラ３０９で観測する。光源波長毎に複数のサンプル像を取得し、複数のサンプル像を位置あわせ・強度合わせして重ね合わせる。 （もっと読む）

【課題】光沢面を有する測定部位における三次元形状を簡易な機構により短時間で測定できること。
【解決手段】測定部位Ｐの周りの三次元に渡る複数の位置各々で光源１２を点灯させて測定部位Ｐに対して順次異なる方向から光を照射し，測定部位Ｐからの正反射光の像をカメラ２０により撮像し，計算機３０により，光が照射されるごとの撮像画像における正反射光の像の位置と光の照射方向との対応関係を算出し，その位置に対応する測定部位Ｐ上の各測定点における外接平面の傾きを算出し，測定部位上の隣り合う点それぞれにおける外接平面の傾きに基づいて，測定部位Ｐの三次元形状値を算出する。 （もっと読む）

この発明は、光カーテンに適した平面検出器に関するものであり、この検出器は吸収した光に応じて電気的な信号を発生し、発生した信号用の多数のタッピング点を具えている。個々のタッピング点での信号の大きさは光が吸収された区分への距離に依存しており、複数タッピング点での信号間の大きさの比から、それぞれのタッピング点から光が吸収された区分への距離の比を算出できる。検出器（１０、２０、３０）は、有機材料でできたフレキシブルな層構造として形成されている。タッピング点（２、２４）は、層構造の端部から間隔を空けて配置されている。タッピング点（２、２４）への電気接続導線（３）は、その全長に亘って検出器の層構造に接続されている。 （もっと読む）

【課題】高温の被計測体の形状計測に際し、被計測体の表面異常を正確かつ容易に識別する。
【解決手段】 高温の被計測体１０の形状計測において、レーザ光源２０から輻射光と異なるピーク波長のレーザ光を被計測体１０に投光し、反射光撮像部４０で得たレーザ光に応じた反射光データに基づいて形状算出部６０が被計測体の形状を算出する。異常判定部１１０は、輻射光撮像部３０が被計測体１０の輻射光を撮像して得た輻射光画像から所定暗部を抽出し、該輻射光の暗部を前記高温の被計測体の表面異常と判定し、形状算出部６０が表面異常と判定された領域について正常と推定される形状を演算する。 （もっと読む）

【課題】 迷光の混入を防止して高精度に干渉計測を行うことのできる光学ユニットを提供する
【解決手段】 光学ユニット（３０１）は、相互に偏光面が直交する第１の偏光（Ｅ１）及び第２の偏光（Ｅ２）の一方を透過させて他方を反射させる第１偏光分離面（Ｓ１１）及び第２偏光分離面（Ｓ１２）を含み、第１ビーム及び第２ビームを相互に分離して異なる方向に射出させる偏光分離部（２０１）と、該第１ビームの偏光状態を変化させる第１偏光変換部（１５）と、偏光分離部から射出した第２ビームを反射して偏光分離部に再入射させる固定反射部（１８）と、該第２ビームの偏光状態を変化させる第２偏光変換部（１７）と、第１ビーム及び第２ビームを、各々その入射位置と異なる射出位置から各々その入射方向に逆向きに射出させて偏光分離部に再入射させるリトロレフレクター（１４）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 膜状の測定対象物の膜厚の時間変化を精度良く測定することが可能な膜厚測定装置、及び膜厚測定方法を提供する。
【解決手段】 第１波長λ_１の測定光成分、及び第２波長λ_２の測定光成分を含む測定光を測定対象物１５へと供給する測定光源２８と、測定対象物１５の上面からの反射光及び下面からの反射光の干渉光について、第１波長λ_１の干渉光成分、及び第２波長λ_２の干渉光成分に分解する分光光学系３０と、第１、第２干渉光成分のそれぞれの各時点での強度を検出する光検出器３１、３２と、膜厚解析部４０とを有して膜厚測定装置１Ａを構成する。膜厚解析部４０は、第１干渉光成分の検出強度の時間変化での第１位相と、第２干渉光成分の検出強度の時間変化での第２位相との位相差に基づいて、測定対象物１５の膜厚の時間変化を求める。 （もっと読む）

【課題】安価で高精度な光波干渉計測装置を提供する。
【解決手段】光波干渉計測装置は、複数のスペクトルを有する光束を射出する第１多波長光源２００ａと、第１多波長光源からの光束とは異なる波長を有する光束を射出する第２多波長光源２００ｂと、第１多波長光源２００ａ及び第２多波長光源２００ｂからの光束を分離する偏光ビームスプリッタ６と、第２多波長光源２００ｂからの光束を反射する参照面７と、第１多波長光源２００ａからの光束を反射する被検面８と、第１多波長光源２００ａ及び第２多波長光源２００ｂからの光束の干渉信号を分光する分波器９ａ、９ｂと、第１多波長光源２００ａ及び第２多波長光源２００ｂからの光束の単一波長同士の干渉信号を複数の波長について検出する検出装置１０ａ、１０ｂと、検出装置１０ａ、１０ｂからの信号を処理して参照面７と被検面８との間の光路長差を算出する解析装置１１とを有する。 （もっと読む）

【課題】検査速度及び検査信頼性を向上できる印刷回路基板の外観検査システム及び方法を提供する。
【解決手段】本発明の外観検査方法は、検査対象物の全体検査領域を第１領域と第２領域とで区分する段階と、異なる照明を使用する第１カメラと第２カメラとで検査対象物の全体検査領域を撮像する段階と、上記第１カメラから獲得された第１イメージを有して第１領域の良好或いは不良の可否を判断し、上記第２カメラから獲得された第２イメージを有して第２領域の良好或いは不良の可否を判断する判別段階を包含する。 （もっと読む）