【課題】被計測物を精度よく計測することができる３次元計測装置およびそれに用いられる照明装置を提供する。
【解決手段】３次元計測装置１は、被計測物８に円偏光を照射する照明手段２と、照明手段２を移動させる移動手段３とを備える。また、３次元計測装置１は、被計測物８の被照射面からの反射光を受けて上記被照射面を撮像する撮像手段４と、撮像手段４で撮像された撮像画像を用いて反射光の偏光状態を検出し、被計測物８の被照射面の向きを求める演算手段５とをさらに備える。照明手段２は、円偏光を被計測物８の一部に照射する。移動手段３は、被計測物８において被照射面の位置が変わるように照明手段２を移動させる。 （もっと読む）

【課題】画像の領域の大きさを使用者の操作精度によらず容易かつ均一に得ることが可能な画像処理装置および画像処理プログラムを提供する。
【解決手段】画像データに基づく初期画像ＩＭにおいて抽出される領域Ａ４が表示部２６０の画像表示領域２６１に表示される。表示された領域Ａ４に外接する外接矩形Ｐが作成される。作成された外接矩形Ｐが表示部２６０の画像表示領域２６１に表示されるとともに、作成された外接矩形Ｐの予め定められた部分の寸法または面積を示す特徴量が算出される。使用者は、入力装置を用いて表示部２６０の画像表示領域２６１に表示された外接図形Ｐを回転させることができる。 （もっと読む）

【課題】 複数の３次元形状計測法、表面計測手法を相補的に組み合わせることで、測定対象の形状によらず高い計測精度を確保した３次元形状検査方法およびその装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明は、検査対象の参照モデルの形状データである参照データを格納する格納部と、前記参照データから第１の形状データを取得する領域を特定する領域特定部と、前記領域特定部で特定した領域について前記第１の形状データを取得する第１の３次元形状センサと、前記領域特定部で特定した領域以外の領域について前記検査対象の前記第１の形状データとは異なる第２の形状データを取得する第２の３次元形状センサと、前記第１の形状データと前記第２の形状データとを統合する相補的統合部とを備えることを特徴とする３次元形状検査装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】受光部のフォーカス調整を容易に行う。
【解決手段】画像取得装置は、ガラス基板９上における線状の撮像領域を撮像する撮像ユニット２と、ガラス基板９を撮像領域と交差する方向に移動する移動機構とを備える。撮像ユニット２は、光照射部２１および受光部２３を有し、光照射部２１により撮像領域に光が照射され、撮像領域からの光が受光部２３のラインセンサへと導かれる。画像取得装置では、受光部回動機構が受光部２３を回転することにより受光部２３の光軸Ｊ２とガラス基板９の法線Ｎとのなす検出角θ２が変更される。撮像ユニット２は、光軸Ｊ２に沿って受光部２３を移動する受光部移動機構をさらに備え、検出角θ２の変位量に基づいて受光部移動機構を制御することにより、光軸Ｊ２上においてラインセンサの受光面と共役な位置Ｐがガラス基板９の表面に配置される。これにより、受光部２３のフォーカス調整が容易に行われる。 （もっと読む）

【課題】透明性基板上に形成された不透明なデバイスパターンを観察像において明確に識別することができる観察方法、および観察装置を提供する。
【解決手段】デバイスパターン３が形成されている側に粘着シート４を貼り付けたうえで透明なステージ７に固定し、ステージ７の上方から同軸透過照明光Ｌ１と斜光透過照明光Ｌ２とを重畳的に照射するとともに、ステージ７の下方側からステージ７を介して裏面観察手段６で観察することで、観察像においては、デバイスパターン３に対応して、暗い（黒色の）デバイスパターン像が観察され、デバイスパターン像ＩＰ１以外の部分は明るく観察される。また、気泡５に対応する部分ＩＢ１についても十分に明るく観察される。これにより、観察像においてデバイスパターン３の形状を明確に特定することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】コントラストの高いパターン画像の表示を低コストにて実現する。
【解決手段】パターン画像表示装置の画像取得部１３は、光照射部１３１、ラインセンサ１３２、角度変更機構、および、表示対象であるガラス基板９を移動する移動機構を備える。光照射部１３１からは、ガラス基板９の薄膜パターンに対して透過性を有する波長の光が出射される。光照射部１３１からの光の照射角θ１およびラインセンサ１３２により撮像が行われる検出角θ２は、常に同じであり、これらの角度は角度変更機構により変更される。パターン画像表示装置では、予め画像のコントラストが高くなる照射角および検出角の設定角度が求められ、照射角および検出角が設定角度とされる。これにより、単一波長の光源を用いてコントラストの高い画像をラインセンサ１３２により取得し、ディスプレイに表示することができ、パターン画像表示装置の製造コストも削減することができる。 （もっと読む）

【課題】複数の視野に分割された対象を高精度に測定することができるマシンビジョン検査システムおよびその位置測定結果の決定方法を提供する。
【解決手段】マシンビジョン検査システムは、第１動作状態においてスケールベースの測定により第１対象ＦＥ１の位置を測定する。第２動作状態では、第１対象から第２対象に至る途中で重複画像ＣＩＡ〜ＣＩＣを撮影し、画像相関を利用して重複画像ＣＩＡ〜ＣＩＣの相互の画像変位を測定し、第１対象の位置と画像変位のセットとを合わせて第２対象ＦＥ２の位置を測定する。 （もっと読む）

【課題】パターンのムラ欠陥の生じない描画条件を導出し、製品の歩留まりを向上する。
【解決手段】基板上に描画するパターンのムラ欠陥が発生しない描画条件を導出する方法であって、基板上に形成するパターンを生成するパターン情報生成工程Ｓ１と、パターンに対して、複数の描画項目の組み合わせによる、２通り以上の描画条件を設定する描画条件設定工程Ｓ２と、前記生成されたパターンを抜き取り、補助基板上に、前記各描画条件のもとに、矩形領域をなす補助パターンを形成する補助パターン描画工程Ｓ３と、補助基板に対して照明光を入射し、補助パターンから生じる回折光を光電変換素子にて画像として取得し、ムラ欠陥に関するムラ評価値とムラ発生周期とを求めことにより、複数の描画条件の中からムラ欠陥が生じない描画条件を導出する描画条件判定工程Ｓ４とを含むパターンの描画条件導出方法である。 （もっと読む）

【課題】物体表面の反射特性に鏡面反射成分を含むことを必要とせず、物体表面までの距離の計測も必要とせずに面法線を計測する。
【解決手段】面法線計測システム１は、ガイドレールＲｘ，Ｒｙに沿って、互いに直行する平面内を移動して物体ＯＢＪに対する照明方向を変化させる照明装置３０と、物体ＯＢＪを撮影する撮影装置４０と、撮影装置４０によって撮影された画像に基づいて物体ＯＢＪの表面の面法線を計測する面法線計測装置１０とを備える。面法線計測装置１０は、物体ＯＢＪの画像を２値化し、画素ごとに、照明方向と明暗とが対応付けられた陰影ベクトルを作成し、予め形状が既知の参照物体について作成した参照陰影ベクトルと面法線とが対応付けられたデータベースを参照して、物体ＯＢＪの陰影ベクトルと最も類似する参照陰影ベクトルに対応付けられた面法線を、その画素における面法線と推定する。 （もっと読む）

【課題】投影装置の動作をフレームごとに制御することを可能にする。
【解決手段】投影装置を制御するための投影制御装置は、複数の色成分で構成された映像信号を受信し、受信した映像信号の各フレームについて特定の色成分の情報を制御情報として抽出し、抽出された制御情報に基づいて投影装置の動作を制御するための投影制御情報をフレームごとに生成し、生成した投影制御情報を投影装置に供給する。 （もっと読む）

【課題】被加工物の厚みを正確に検出することができる非接触式の厚み検出装置および厚み検出装置を装備した研削機を提供する。
【解決手段】被加工物に対して透過性を有する所定の波長領域を有する発光体と、集光器とを備えた検出光照射手段と、検出光照射手段によって照射されチャックテーブルに保持された被加工物の上面および下面で反射した反射光を集光する集光レンズと、集光レンズによって集光された反射光の干渉を回折する回折格子と、回折格子によって回折した反射光の所定の波長域における光強度を検出するイメージセンサーと、イメージセンサーからの検出信号に基づいて分光干渉波形を求め、被加工物の上面で反射した反射光の光路長と被加工物の下面で反射した反射光の光路長との光路長差に基づいて被加工物の厚みを求める制御手段とを具備し、検出光照射手段は、P偏光を被加工物の上面に対して所定の入射角をもって照射する。 （もっと読む）

【課題】被検査物の表面の凹凸パターンのサイズ変動を検査するマクロ検査装置を提供する。
【解決手段】被検査物２の表面の凹凸パターンのサイズ変動を検査するマクロ検査装置１００である。マクロ検査装置１００は、被検査物２を乗せるためのステージ１と、被検査物２の表面に対して所定の角度方向から被検査物２側に光を照射する拡散光源５と、被検査物２の表面からの反射光を受光可能なラインセンサ９と、被検査物２とラインセンサ９との間に設けられ、反射光のうち拡散光源５のエッジ部からの光束に起因する反射光束が、ラインセンサ９の両端の少なくとも一方に設けられた所定領域でのみ受光されるように、反射光をラインセンサ９に導くための光学系と、を備える。 （もっと読む）

【課題】被検面の形状を高精度に計測する。
【解決手段】被検面１０の形状を計測する面形状計測装置であって、光源１からの光を参照光と被検光とに分割して被検光を被検面１０に照射する計測ヘッド１１０と、計測ヘッド１１０を収納する収納部と、光源１からの光を計測ヘッド１１０へ入射させ、被検面１０に対する被検光の入射角度を変える変更部１２０と、被検面１０で反射され計測ヘッド１１０に戻ってくる被検光と参照光との干渉光を検出する検出部と、計測ヘッド１１０の位置を計測する位置計測部１１６−１１８と、検出結果および計測結果を用いて被検面１０の形状を求める処理部９とを備え、変更部１２０は、光源１からの光を計測ヘッド１１０の収納部の外側から計測ヘッド１１０に入射させ、光源１からの光が計測ヘッド１１０に入射する位置を変えることによって入射角度を変える。 （もっと読む）

【課題】安定した３次元認識画像を形成して正しい部品認識結果を得ることができる画像形成装置および画像形成方法ならびに部品実装装置を提供する。
【解決手段】計測対象面への入射方向を挟んで対称に配置され受光面の計測対象面に対する傾斜角度が各対毎に相異なる２対の位置検出素子群２５Ａ，２５Ｂを有し、走査光の計測対象面からの反射光の受光位置を検出する位置検出部２５と、各位置検出素子が受光する光量が所定の範囲内にあるか否かを判定する受光量判定部３４と、同一の位置検出素子群に属する位置検出素子による反射光の受光位置検出結果の差異の大きさが所定の基準値以下であるか否かを判定する受光位置検出結果判定部３５とを備え、位置検出部２５の受光位置検出結果に基づき受光量判定部３４および受光位置検出結果判定部３５の判定結果を加味して計測対象面の３次元認識画像を形成する構成とする。 （もっと読む）

【課題】微小な電子部品であっても、その外形を示すエッジを正確に検出することができる基板の外観検査装置および外観検査方法を提供する。
【解決手段】照明パターン選択手段（照明パターン選択部４７）は、複数の方向からの照明光を同時に照射する照明パターン１と、照明パターン１よりも高い輝度で複数の方向からの照明光を別々に照射する照明パターン２と、から照明光照射手段（照明２０）による照明光の照射パターンを選択し、画像取得手段（カメラ１０）は、照明パターン２が選択された場合には、別々に照射された複数の方向別の照明光毎に画像を取得する。このようにして取得した画像には、電子部品の実装面に略平行な面（上面）および実装面に略垂直な面（側面）により形成されるエッジが、電子部品の側面からの拡散光によって電子部品の外形として表され、エッジ検出手段（エッジ検出部４８）はこれらの画像から電子部品の外形を示すエッジを検出する。 （もっと読む）

【課題】３次元形状の計測処理を高速化すること。
【解決手段】スリット状の光線を計測対象物に対する照射位置を変更させながら照射する照射部と、前記光線が照射された前記計測対象物を順次撮像する撮像部と、前記撮像部によって撮像された画像を走査することによって前記画像における前記光線の位置を検出する位置検出部と、前記位置検出部による走査対象の画像よりも以前に前記撮像部によって撮像された画像における前記光線の位置に基づいて前記走査対象の画像における走査領域を決定する走査領域決定部とを３次元形状計測装置へ設ける。 （もっと読む）

【課題】トロリ線以外の構造物の影響を無くしトロリ線の偏位量を正確に測定する。
【解決手段】トロリ線測定装置は、トロリ線に向けて光を投光し、その反射光を受光することによってトロリ線の外形を測定する。このトロリ線の外形を測定する際に、剛体電車線区間では剛体部やイヤー部からのノイズが多く正確に測定することが困難である。そこで、このトロリ線測定装置は、剛体電車線区間でトロリ線及びその近傍の電車線設備（剛体部及びイヤー部）の画像を撮影し、撮影された画像に基づいて電車線設備の偏位を測定し、その測定結果をトロリ線の外形の測定に反映させるようにした。 （もっと読む）

【課題】検査に適切な明るさやコントラストの画像を取得し、膜厚むら検査装置及び方法を提供する。
【解決手段】表面に皮膜が形成された基板を一方向に移動させながら、基板に形成された皮膜の膜厚むらを検査する装置及び方法であって、皮膜の厚みを検出する膜厚検出部を備え、光源部は、撮像部側に配置された反射照明部３ａと、基板を挟んで撮像部に対向する位置に配置された透過照明部３ｂを備え、撮像部４は基板との相対角度を調節する撮像部角度調整手段を備え、反射照明部は反射照明部と基板との相対角度を調節する反射照明角度調整手段を備え、透過照明部は透過照明部と基板との相対角度を調節する透過照明角度調整手段を備え、膜厚検出部からの膜厚情報に基づき、反射照明角度調節手段及び透過照明角度調整手段を制御し、反射照明の光量及び透過照明の光量を調節する制御部を備えたことを特徴とする膜厚むら検査装置及び方法。 （もっと読む）

【課題】グイ位相に伴って生じる計測誤差を低減する。
【解決手段】計測装置１００は、光源から射出された光を参照光と被検光とに分割する分割部１１０と、前記参照光を反射する参照面１１１と、前記被検光を被検面１１３に集光する集光部１１２と、前記被検面でキャッツアイ反射された被検光と前記参照面で反射された参照光との干渉光を検出する第１検出器１１４とを含む計測ヘッド１０１と、前記計測ヘッドを前記被検面に沿って駆動する駆動部１４０と、前記計測ヘッドの位置を検出する第２検出器１５０と、前記被検光の前記被検面における回折によって生じるグイ位相を取得し、前記第１検出器により検出された干渉光の情報から前記被検光と前記参照光との間の位相差を算出し、前記第２検出器により検出された前記計測ヘッドの位置と前記取得されたグイ位相と前記算出された位相差とから前記被検面の形状を算出する処理部１１５と、を備える。 （もっと読む）

【課題】オーバーレイ測定、非対称性測定、およびインダイオーバーレイターゲットの再構築を可能にする。
【解決手段】四分くさび光デバイス（ＱＷ）は、基板から散乱した放射の回折次数を別々に再誘導し、第１方向および第２方向の各々に沿って照明から回折次数を分離する。例えば、０次（０、０’）および１次（−１、＋１’）を、各入射方向について分離する。マルチモードファイバ（ＭＦ）での捕捉の後、スペクトロメータ（Ｓ１−Ｓ４）を使用して波長（Ｉ_０’（λ）、Ｉ_０（λ）、Ｉ_＋１’（λ）、およびＩ_−１（λ））の関数としての空間的に再誘導された回折次数の強度を測定する。そして、これをオーバーレイエラーの計算、または単一格子の非対称パラメータの再構築に用いる。 （もっと読む）