【課題】従来は作業者が肉眼で確認しながら各ヘッドユニットごとにノズルとレーザー変位センサーの位置を測定したので、ノズルとレーザー変位センサーの位置測定に長時間が掛かって、精度が低下した。
【解決手段】ノズル及びレーザー変位センサーとカメラ間に透過状態変換部材を配置し、レーザー変位センサーで発光されるレーザーの結像点とノズル位置をカメラで撮影してレーザーの結像点とノズルの吐出口の位置を迅速で正確に測定する。 （もっと読む）

【課題】周波数応答が高くて安価な撮像素子を利用できるレーザ超音波検査手法、または、分解能が低い安価な撮像素子を利用しても大きな光強度変化から小さな光強度変化まで検出することが可能なレーザ超音波検査手法を提供する。
【解決手段】レーザ超音波検査装置は、レーザ光源２と、レーザ光を照射レーザ光Ｉｉとリファレンス用レーザ光Ｉｒとに分岐させるレーザ光分岐機構３と、照射レーザ光を被検査対象面１に照射するレーザ照射機構３０と、被検査対象面１で反射した照射レーザ光を集光するレーザ集光機構３１と、照射レーザ光とリファレンス用レーザ光とを受光して干渉計測を行なうためのフォトリフラクティブ結晶６と、フォトリフラクティブ結晶６で干渉を受けたレーザ光の波長を変換する波長変換機構１４と、波長が変換されたレーザ光を受光する受光機構１３と、を有する。 （もっと読む）

【課題】
表面検査装置では、より粒径の小さいＰＳＬを使用することで、より小さい欠陥を検査することが可能となる。しかし、ＰＳＬの粒径は、有限である。このことから、従来の表面検査装置では、近い将来に半導体製造工程の検査で必要となるＰＳＬに設定の無いほど小さい粒径の欠陥をどのように検査するかということに関しては配慮がなされていなかった。
【解決手段】
本発明は、被検査物体で散乱，回折、または反射された光の、波長，光量，光量の時間変化、および偏光の少なくとも１つを模擬した光を発生する光源装置を有し、前記光を表面検査装置の光検出器に入射させる
【効果】
より微小な欠陥を検査することができる。 （もっと読む）

【課題】目標領域におけるレーザ光の走査位置を精度良く検出できるビーム照射装置を提供する。
【解決手段】ビーム走査用のミラー１１３に伴って回動する透明体２００を配する。この透明体２００にサーボ光を照射し、透明体２００によって屈折されたサーボ光をＰＳＤ３０８にて受光する。ＰＳＤ３０８の受光光量に応じた出力（ＡＰＣ用出力）を生成し、この出力が基準値（Ｖref）に一致するよう、半導体レーザ３０３の出力を制御する。このように制御することで、透明体２００が回動しても、ＰＳＤ３０８の受光光量は略一定となり、ＰＳＤ出力に含まれる誤差を抑制できる。 （もっと読む）

【課題】被測定物の表裏面の三次元測定を高精度かつ高速に行う。
【解決手段】レンズ２０と基準球２０Ａ，２０Ｂと基準平面３０の三次元形状を表面側及び裏面側のいずれ側からでも表裏両面において測定可能な被測定物形状測定治具１０を用いて、基準球２０Ａ，２０Ｂの中心点座標と、基準平面３０の平面の傾きと、レンズ２０のＲ１面及びＲ２面のそれぞれの頂点座標Ｐｒ１，Ｐｒ２及び光軸Ｌ１，Ｌ２の方向を得て、Ｒ２面側測定データをＹ軸回りに１８０°回転させ、Ｒ１面側及びＲ２面側測定データを、例えば基準球２０Ａの中心点座標Ｏ１が一致するように平行移動させ、Ｒ１面に対するＲ２面の偏心ｄ及び傾きθを求める。 （もっと読む）

【課題】被測定物体の異なる部位を描写する複数のＯＣＴ画像を基に被測定物体の物理量を高い確度で計測可能な技術を提供する。
【解決手段】光画像計測装置１は、低コヒーレンス光Ｌ０を信号光ＬＳと参照光ＬＲとに分割し、参照光ＬＲの光路を光路長の異なる二つの光路に分割することで参照光ＬＲを二つの参照光ＬＲａ、ＬＲｂに分割する。更に、光画像計測装置１は、これら二つの光路をそれぞれ経由した参照光ＬＲａ、ＬＲｂと被検眼Ｅを経由した信号光ＬＳとを干渉させて、被検眼Ｅの二つの深度位置（眼底Ｅｆ、角膜Ｅｃ）のそれぞれにおける形態を反映した干渉光ＬＣを生成し、この干渉光ＬＣを検出して検出信号を生成する。そして、光画像計測装置１は、この検出信号に基づいて眼底断層画像と角膜断層画像を形成し、これら断層画像を解析して被検眼Ｅの角膜網膜間距離を求める。 （もっと読む）

【課題】、基板を照射する照明光の光量を高い精度で検出して、基板表面の検査精度を向上させることができる、表面検査装置および照明光の光量制御方法を提供する。
【解決手段】 ウェハ１０を載置保持するホルダ２０と、ホルダ２０により載置保持されたウェハ１０の表面に照明光を照射する照明光学系３０と、照明光が照射されたウェハ１０の表面からの光を検出する撮像光学系４０と、撮像光学系４０で検出された光に基づいて、ウェハ１０の表面における欠陥の有無を検査する画像処理装置５０とを有する表面検査装置１において、ホルダ２０の照明光を受ける位置に設けられた反射部６１と、照明光が照射された反射部６１からの正反射光の光量を検出する光量検出部６２と、光量検出部６２により検出された光量に基づいて照明光の光量制御を行う制御装置５５とを有する。 （もっと読む）

本発明は、厚さまたは表面形状の測定方法に関するものであって、本発明に係る厚さまたは表面形状の測定方法は、白色光干渉計を用いた、基底層上に積層された薄膜層の厚さまたは表面形状の測定方法であって、互いに異なる厚さを有する複数のサンプル薄膜層を想定し、各サンプル薄膜層に対する干渉信号をシミュレーションすることにより、各厚さに対応するシミュレーション干渉信号を生成するステップと、前記薄膜層に白色光を照射して前記薄膜層に入射する光軸方向に対する実際の干渉信号を取得するステップと、前記実際の干渉信号から前記薄膜層の厚さとなり得る複数の予想厚さを求めるステップと、前記予想厚さに対応する厚さを有するシミュレーション干渉信号と前記実際の干渉信号とが実質的に一致するか否かを比較するステップと、前記実際の干渉信号と実質的に一致するシミュレーション干渉信号の厚さを前記薄膜層の厚さに決定するステップとを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】波長の異なる２種類の光波の光軸のずれに基づく測定誤差を防止し、高精度な測定が実現可能な２波長レーザ干渉計を提供する。
【解決手段】波長の異なる２種類のレーザ光Ｌ１，Ｌ２を出射する２波長レーザ光源１１と、２種類のレーザ光をそれぞれ参照光Ｌ１１，Ｌ２１と測定光Ｌ１２，Ｌ２２に分割する光分割手段、および、参照光および測定光が参照面および被測定面によって反射された光を重ね合わせる光重ね合わせ手段を有する２波長ビームスプリッタ１５と、この重ね合わされた光から、波長ごとに、被測定面の変位量を求め、これら波長ごとに求められた変位量を用いた演算によって空気屈折率補正された被測定面の変位量を求める演算部２４とを備える。２波長レーザ光源と光分割手段との間には、２波長レーザ光源から出射された波長の異なる２種類のレーザ光を一旦分離したのち互いの光軸を重ね合わせる光軸重ね合わせ光学系１３が設けられている。 （もっと読む）

【課題】露光装置の構成の複雑化やコストの増加を抑えながら照度センサの位置を高精度に検出する。
【解決手段】露光装置ＥＸは、照明系ＩＬによって照明される原版１１のパターンを投影光学系１３によって基板１４に投影して基板１４を露光する。露光装置ＥＸは、照明系ＩＬによる照明領域を規定する遮光部材１０と、投影光学系１３の像面において照度を計測するための照度センサ１８の該像面における位置を検出する制御部ＣＮＴとを備える。制御部ＣＮＴは、投影光学系１３の像面に対して光が入射する位置が該像面に沿って移動するように遮光部材１０を移動させながら得られた照度センサ１８の出力に基づいて該像面における照度センサ１８の位置を検出する。 （もっと読む）

【課題】２次元画像生成時にＺ軸真直度の機械的な誤差に基づく画素のずれを補正し、２次元画像の２点間の幅測定を正確に行える次元測定装置を提供する。
【解決手段】共焦点顕微鏡１０は、Ｚステージ２１によりＺ軸方向に移動可能に設けられ、試料１６に対して異なるＺ位置での焦点画像を測定カメラ１８で撮像し、制御ユニット２０へ出力する。制御ユニット２０は、Ｚステージ２１のＺ軸真直度のずれに基づく画素のずれを補正する補正テーブル２０１を備えている。制御ユニット２０は、カメラ画像取込時にＺ軸の高さ位置をリニアスケール２３から読取り、補正テーブル２０１に記憶されている補正データに基づいてカメラ画素の位置を補正し、最大値メモリに保持されている最大輝度値と比較して２次元画像を生成し、Ｚ軸真直度のずれに起因する画素の位置ずれを防止する。 （もっと読む）

【課題】エリプソメータを用いた膜厚計測方法及び膜厚計測装置において、膜形成前後の計測位置の位置ずれを回避する。
【解決手段】レーザ光出射部１３と試料１０との間に減光フィルタ１５を挿入して試料１０の表面におけるレーザ光の投影光の中心を判定し、レーザ光が所定位置に照射されるようにする。その後、減光フィルタ１５を退避させ、試料１０の表面の偏光状態を計測する。次に、試料１０の面上に薄膜を形成した後、レーザ光出射部１３と試料１０との間に減光フィルタ１５を挿入して試料１０の表面におけるレーザ光の投影光の中心を判定し、レーザ光が所定位置に照射されるようにする。その後、減光フィルタ１５を退避させ、試料１０の表面の偏光状態を計測する。次いで、薄膜形成前後における偏光状態の変化から、薄膜の厚さを求める。 （もっと読む）

【課題】大型サイズのガラス板のような透明板状体であっても、安定しかつ正確に、気泡や異物等の欠陥を検出する。
【解決手段】欠陥検出装置は、透明板状体の内部を照明する照明光源ユニットと、透明板状体の対向する上面及び下面の少なくとも一方の面の側に設けられ、透明板状体を撮影する、直列状に配列した複数の撮影カメラを有する撮影カメラユニットと、撮影カメラから出力された受光信号を用いて透明板状体の欠陥を検出する検出器と、を有する。直列状に配列した複数の撮影カメラの、少なくとも両側に位置する撮影カメラには、光強度を減らす減光フィルタが設けられている。透明板状体と撮影カメラとを相対的に移動させて透明板状体を撮影する。 （もっと読む）

【課題】厚さ測定方法に関し、より詳細には、透明な薄膜層と基底層との境界面に対する干渉光の位相変化を測定し、マイクロ以下の単位の厚さを有する透明な薄膜層の厚さを正確に測定できる厚さ測定方法を提供すること。
【解決手段】干渉計を用いて基底層上に積層された対象層の厚さを測定するための厚さ測定方法であって、前記対象層と実質的に同じ材質で設けられ、互いに異なる厚さを有したサンプル層から前記サンプル層の厚さに対する位相差の相関式を取得するステップと、空気層と前記基底層との境界面で、前記基底層に入射される光軸方向に対する第１の干渉信号を求めるステップと、前記対象層と前記基底層との境界面で、前記光軸方向に対する第２の干渉信号を求めるステップと、前記光軸方向に対して実質的に同じ高さで、前記第１の干渉信号の位相と前記第２の干渉信号の位相との間の位相差を求めるステップと、前記位相差を前記相関式に代入して、前記対象層の厚さを決定するステップとを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】検査時における照明光の光量を安定させた表面検査装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る表面検査装置１は、被検基板の表面に照明光を照射する照明部が、ランプハウス６１からの光のうち所定の波長領域の光を透過させるバンドパスフィルターが設けられた波長選択機構７０，７５を有し、当該バンドパスフィルターを透過して得られた所定の波長領域の光を照明光として被検基板の表面に照射するように構成されており、紫外光を遮断するＵＶカットフィルター６５がランプハウス６１と波長選択機構７０，７５との間の光路上に挿抜可能に設けられ、非検査時にＵＶカットフィルター６５が光路上に挿入されて、ＵＶカットフィルター６５を透過した光が波長選択機構７０，７５のバンドパスフィルターに照射されるようになっている。 （もっと読む）

【課題】非接触で、加工途中のワークなどを精度高く、かつ、リアルタイムで輪郭形状を数値的に測定可能とする光学的なエッジ検出装置を提供すること
【解決手段】本発明のエッジ検出方法は、光源モジュール１１と、０次光の光量を遮光するアンチピンホールフィルタ２５とを備えた投影光学系を備えるレンズ鏡筒１３と、撮像素子２６と、コンピュータとを用い、光源モジュール１１の平行光を遮るように置かれたワーク１７の投影画像を撮像素子で撮像し、コンピュータは、エッジ近傍の信号強度を判定し、２本の帯状の高輝度の部分に挟まれた低輝度の線状部分をエッジと判定するエッジ判定の手順を実行する。そのため、ワークのエッジを正確に検出でき、これを画像処理により数値処理することでＣＡＤやＮＣ制御と連動させることができる。 （もっと読む）

【課題】高いパターン欠陥検出精度を有する表面検査装置を提供すること。
【解決手段】被検査基板１４に所定の方向に偏光された光を照射する照明光源装置１１と、前記被検査基板で反射された光により、前記被検査基板の表面像を検出する撮像素子１９と、前記撮像素子の光入射側に配置され前記所定の方向と略直交する方向の偏光を透過する検光子１７と、前記照明光源装置と前記検光子との間に配置された反射鏡１３、１５とを有し、前記反射鏡の有効光束に対するＦナンバーが４．５以上である表面検査装置１００。 （もっと読む）

【目的】光源を小型化すると共に、従来必要であったインコヒーレント化するための機器を省略可能な検査装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の検査装置１００は、それぞれ基本波を発光する複数の面発光レーザ素子１４６を有する光源１４０と、複数の面発光レーザ素子１４６から発光された複数の基本波をフォトマスク１０１に照射する照明光学系１７０と、フォトマスク１０１を載置するＸＹθテーブル１０２と、を備えたことを特徴とする。本発明の一態様によれば、光源を小型化すると共に、従来必要であったインコヒーレント化するための機器を省略することができる。 （もっと読む）

【課題】表面を斜めの検査角度において高い解像度で検査できるようにする方法及び装置を提供する。
【解決手段】表面に対して斜めのビュー角度に沿って表面のエリアを像形成するための装置は、ビュー角度に向けられた光学軸に沿ってエリアから光学放射を収集することによりエリアの初期傾斜像を形成するように適応された無限焦点光学リレー(192)を備えている。傾斜補正ユニット(194)が、初期像の傾斜を補正するように結合されて、実質的に無歪の中間像を形成する。中間像を像検出器に収束するために拡大モジュール(19８)が結合される。 （もっと読む）

【課題】一対の基板が複数のスペーサ部材により所定の間隔を置いて対向配置され、両基板間に液晶が充填されてなる液晶表示パネルおいて、両基板間に所定の液晶セル厚よりも大きい液晶セル厚部分があることによって画像表示ムラが発生してしまうことが防止される液晶表示パネルの製造方法を提供すること。
【解決手段】一対の基板が複数のスペーサ部材により所定の間隔を置いて対向配置され、両基板間に液晶が充填されてなる液晶表示パネルの製造方法において、両基板間に液晶が充填された状態で光学的手法により液晶セル厚ムラの有無およびその液晶セル厚ムラの位置を検出し、その検出された液晶セル厚ムラの位置を両基板の外側から加圧してその液晶セル厚ムラの位置の液晶セル厚が他の部分の液晶セル厚と均一になるようにした。 （もっと読む）