【課題】移動体までの距離を安全に測定することができる干渉計を提供すること。
【解決手段】干渉計１Ａは、干渉計１Ａから射出される光の光量を調整可能に構成された調光手段３Ａと、受光手段４７，４９の受光量が所定の第１閾値以下か否かを判定する第１判定手段と、第１判定手段が、受光量が第１閾値以下と判定した場合、調光手段３Ａに、干渉計１Ａから射出される光の光量の低減を命じる低減信号を出力する低減信号出力手段とを備える。調光手段３Ａは、低減信号が入力された場合、光源から射出される光の光量を低減させる。従って、干渉計１Ａが反射体１０１を見失ってしまった場合、調光手段３Ａが干渉計１Ａから射出される光の光量を低減させることとなるので、干渉計１Ａの周囲で作業する人に干渉計１Ａから測定光が照射されてしまうことを防止でき、移動体２までの距離を安全に測定できる。 （もっと読む）

【課題】
回転対称形状であり、主に球面若しくは球面に近似できる非球面の形状で、曲率半径が小さな被測定物の表面の形状を、短時間で１ｎｍ程度の形状精度で測定可能、低コスト化可能な回転対称形状の超精密形状測定方法及びその装置を提供する。
【解決手段】
計測ビームが被測定物表面で反射され、反射ビームを光検出器で検出して表面の任意計測点の法線ベクトルを計測することから形状を求める法線ベクトル追跡型超精密形状測定方法において、光検出器５が受光面における反射ビームの変位を計測可能であり、光学系２の光軸と被測定物の中心線を一致させて計測ビームと反射ビームとが重なるように初期設定した後、試料系３又は光学系２の一方のみを２軸１組のゴニオメータ６，７で駆動して計測ビームで被測定物表面の測定範囲を走査し、反射ビームの角度変化からその点での法線ベクトルを算出する。 （もっと読む）

【課題】高スループットかつ高感度の欠陥検査装置を提供すること。
【解決手段】広帯域波長の照明を用いて結像性能を向上させることが有効である。そこで、従来の屈折型光学系より広帯域波長の照明が使用可能な反射型光学系を用い、更に良好な収差状態を得られるレンズ外周部の円弧形状のスリット状視野にする。しかしこの方式は、受光面での各検出画素寸法の違いによる明るさの差と、センサの出力配列を視野内の位置座標に対応付けることが課題である。課題を解決するために、明るさの差及び座標を画素位置に応じて個別に補正する。 （もっと読む）

【課題】測定対象物の検査方法を提供すること。
【解決手段】基板に装着された素子の検査方法において、素子に対応する形状テンプレートを生成する段階と、照明部の格子パターン光を基板に照射してピクセル別高さ情報を獲得する段階と、ピクセル別高さ情報に対応してコントラストマップを生成する段階と、コントラストマップと形状テンプレートとを比較する段階と、を含む。本発明によると、測定対象物を正確に抽出することができる。 （もっと読む）

【課題】レーザ光入射角が異なっても適確な溶接品質の評価が可能なレーザ溶接品質評価方法及び装置を提供する。
【解決手段】入射角が可変のレーザ光Ａを被溶接物Ｗに照射して行ったレーザ溶接の品質評価において、レーザ光照射位置及びその周辺のレーザ反射光Ｂの分布情報を取得する反射光分布情報取得回路１０と、被溶接物Ｗに対する入射角情報を取得する入射角情報取得回路１１と、反射光分布情報取得回路１０からのレーザ反射光分布情報を入射角情報取得回路１１からの入射角情報に対応付けて解析した結果と予め取得しておいた入射角情報毎のレーザ反射光分布情報の解析結果群とに基づいて溶接品質を判定する溶接品質判定回路１３とを設ける。レーザ光入射角に応じてレーザ反射光分布情報を解析し、変化する溶融金属及びキーホールの形成状態（溶接品質）をレーザ入射角毎に評価可能とした。 （もっと読む）

【課題】外乱振動や空気の揺らぎがある場合であっても、高い測定精度で被測定物の形状測定を可能にする形状測定方法及び装置等を提供する。
【解決手段】光源１から出射した可干渉光束１１を分岐して被測定物７と参照鏡８とに照射する分岐装置６と、被測定物７と参照鏡８との間に相対運動を生じさせる駆動装置２０と、被測定物７で反射した物体光１２と参照鏡８で反射した参照光１３とを重ね合わせて干渉縞を形成する重畳装置６と、前記干渉縞を連続的に撮像して連続撮像データを得る撮像装置１０と、前記連続撮像データから被測定物７の３次元形状を計算する計算装置２１とを有する。計算装置２１は、相対運動によって物体光１２と参照光１３の周波数がドップラー効果により変調することにより両光の周波数差のスペクトルから位相シフトスペクトルを得て、位相シフトスペクトルと連続撮像データとから被測定物７の３次元形状を計算する。 （もっと読む）

【課題】パターン付基板を検査対象とした欠陥検査において，実際の検査対象物物が存在しない状態で、検査条件を設定することにより、検査装置の稼働率を向上させる。
【解決手段】パターン設計データ１１１から得られるパターンデータを基本パターンに分解（１２１）し、プロセス条件データ１１２、材料定数データ１１３、装置パラメータ１１５を加味して基本パターンの検出出力の計算を行い（１２２）、基本パターンの検出出力を統合して推定画像を作成する（１２４）。一方、基本欠陥データ１１４、材料定数データ１１３、装置パラメータデータ１１５を用いて欠陥の出力データを作成する（１２３Ａ）。推定画像１２４および欠陥データ１２３Ａを用いて検査装置の検査条件を設定する。これによって検査条件をオフラインで設定でき、装置の稼働率を向上させることが出来る。 （もっと読む）

【課題】測定対象物の歪曲を適切に補償した検査領域の設定方法を提供する。
【解決手段】ステージに測定対象物を配置し、測定対象物に対する基準データを呼び出し、測定対象物に対する測定データを獲得し、測定対象物に対する測定データと測定対象物に対する基準データから少なくとも一つの特徴オブジェクトを選択し、基準データおよび測定データから選択された特徴オブジェクトに対する少なくとも一つの特徴変数をそれぞれ抽出し、特徴変数および定量化した変換公式を用いて測定対象物の変化量を算出し、算出された変化量を補償して検査領域を設定する。 （もっと読む）

【課題】 受光素子の受光面上における干渉光の位置ずれに基づく撮影画像の画質の低下を抑え、従来の調整機構では解消できなかったレベルでの感度調整を行うことができ、好適で信頼度の高い断層画像や光学表面プロファイルを得ることのできる眼科撮影装置を提供する。
【解決手段】 キャリブレーション用の光束を分光光学系に導光する導光手段と、キャリブレーション用の光束を干渉させるための光学部材と、キャリブレーション用の光束を受光手段に受光させることによって得られる分光情報に基づいて導光手段からのキャリブレーション用の光束の出射位置と受光手段との相対的な位置関係を調整する調整手段と、調整手段によって相対的な位置関係が調整された後の受光手段にて得られる干渉されたキャリブレーション用の光束の分光情報に基づいて，受光手段の各画素に対する各波長成分の分布状態を補正するための補正情報を演算により求める演算手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】液浸型露光装置においてウエハ上に形成された計測用マークを検出する。
【解決手段】マークが形成されたウエハの表面に撥液膜を形成し（ステップ６００）、該撥液膜を介してマークが形成されたウエハ上の領域に光を照射し、該光の物体からの戻り光を受光して前記領域を撮像し（ステップ６０８）、該撮像結果からマークの形成状態を検出する（ステップ６１０）。このため、検出に際して液体の付着が問題とならず、常時液浸タイプの露光装置においても、結像式アライメントセンサ等を用いてマークの形成状態の高精度な検出を、支障なく行うことが可能となる。さらに、撥液膜の膜厚等に応じて検出光の波長帯域を決定し（ステップ６０２）、その波長の検出光を用いて前記領域を撮像することにより、撥液膜による薄膜干渉の影響を受けることなく、マークの形成状態を正確に検出することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】シルエットとして投影できない形状のエッジでも、非接触で、加工途中のワークなどを精度高く、かつ、リアルタイムで輪郭形状を数値的に測定可能とする光学的なエッジ検出装置を提供すること
【解決手段】本発明のエッジ検出装置は、投影光学系の光軸１６ａと平行な光線を遮光するアンチピンホールフィルタ２５を備えた投影光学系と、投影光学系の光軸１６ａと一定の偏角θをもって配設された光源モジュール１１と、撮像素子２６と、コンピュータとを備え、光源モジュール１１の平行光に照射されたワーク１７からの反射光による投影画像を撮像素子で撮像し、エッジ近傍の信号強度を判定し、２本の帯状の高輝度の部分に挟まれた低輝度の線状部分をエッジと判定する。そのため、ワークのエッジを正確に検出でき、これを画像処理により数値処理することでＣＡＤやＮＣ制御と連動させることができる。 （もっと読む）

【課題】光ファイバに対して安定的に圧力を付与し、光ファイバを通過する光の偏光状態の経時的変動を抑える。
【解決手段】偏光コントローラ１０００は、回転部１０２０の平面部１０２１とブロック１０３０の平面部１０３２とを光ファイバ２０００に当接させ、調整ネジ１１００によって回転部１０２０とブロック１０３０とを相対的に移動させることにより、平面部１０２１と平面部１０３２との間隔を変更して光ファイバ２０００に圧力を印加する。更に、偏光コントローラ１０００は、サブファイバ３０００を有している。サブファイバ３０００は、平面部１０２１と平面部１０３２との間に配置され、光ファイバ２０００と略等しい径を有する。 （もっと読む）

干渉計システムは、２つの間隔を空けて配置された参照フラットを含み得る。前記２つの間隔を空けて配置された参照フラットは、２つの平行参照表面間に光キャビティを形成する。第１のおよび第２の基板表面が対応する第１の参照表面および第２の参照表面に実質的に平行な様態で、前記第１のまたは第２の基板表面の間の空間が前記参照表面または減衰表面のうち対応するものから３ミリメートル以下の位置に来るように、前記基板を前記キャビティ内に配置するように基板ホルダが構成され得る。前記キャビティの直径方向において対向する両側においてかつ前記キャビティ光学的に結合して、干渉計デバイスが設けられ得る。
（もっと読む）

【課題】高速に変化または移動する観察対象であっても精度よく厚さ寸法を測定する。
【解決手段】所定の波長の光を出射する光源３と、該光源３から出射された光を観察対象Ａに照射する照明光学系４と、該照明光学系４により観察対象Ａに照射された光の観察対象Ａにおける透過光を集光する集光光学系５と、透過光を複数の光路に分岐する光路分岐手段６と、該光路分岐手段６により複数の光路に分岐された透過光を撮影する複数の撮像素子７Ａ，７Ｂ，７Ｃとを備え、該撮像素子７Ａ，７Ｂ，７Ｃが、集光光学系５による焦点位置と撮像素子７Ａ，７Ｂ，７Ｃの撮像面７ａ，７ｂ，７ｃとの距離を光軸方向に異ならせて配置されている観察装置１を提供する。 （もっと読む）

【課題】簡素な構成であって、広範囲なプローブ個体ばらつきに対応でき、しかも測定のための調整が容易である光断層画像測定装置を提供する。
【解決手段】複数のプローブ１０を取り替えて使用するとき、各プローブ１０毎の長さのばらつきによる測定光Ｌ１および反射光Ｌ３の光路長にばらつきが生じた場合であっても、本実施の形態によれば測定対象Ｓからの断層信号が複数生じるため、光路体ＯＰＳの光路長を一体で微調整するだけでいずれかの断層画像を迅速に且つ容易に捉えることができる。 （もっと読む）

【課題】凹面部と凸面部と軸外停留点部を有する被検面の形状を測定できるようにする。
【解決手段】被検面８０の凹面部８１を測定する場合には、球面波からなる測定光が一旦収束した後に発散しながら凹面部８１に照射されるように、凸面部８２を測定する場合には、球面波からなる測定光が収束しながら凸面部８２に照射されるように、干渉光学系２に対する被検面８０の測定光軸Ｌ方向の位置をサンプルステージ用いて変化させる。また、軸外停留点部８３を測定する場合には、平面波からなる測定光が軸外停留点部８３に照射されるようにする。 （もっと読む）

【課題】多重波長を用いた３次元形状の測定装置及び測定方法を提供すること。
【解決手段】本発明の多重波長を用いた３次元形状の測定装置は、検査対象物を測定位置に移送させる移送ステージと、検査対象物に対して第１等価波長を有する第１パターン光を第１方向に照射する第１プロジェクターと、検査対象物に対して第１等価波長と波長が異なる第２等価波長を有する第２パターン光を第２方向に照射する第２プロジェクターと、移送ステージの検査対象物から反射される第１パターン光による第１パターンイメージと前記第２パターン光による第２パターンイメージとを撮影するカメラ部と、第１プロジェクターと第２プロジェクターとを制御し、第１パターンイメージと第２パターンイメージとがカメラ部で撮影されると、第１パターンイメージ及び第２パターンイメージを受信して検査対象物の３次元形状を算出する制御部と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】凹面部と凸面部を有してなる被検面の形状を光干渉計測できるようにする。
【解決手段】被検面８０の凹面部８１を測定する場合には、測定光が一旦収束した後に発散しながら凹面部８１に照射されるように、凸面部８２を測定する場合には、測定光が収束しながら凸面部８２に照射されるように、干渉光学系２に対する被検面８０の測定光軸Ｌ方向の位置をサンプルステージ６を用いて変更する。また、被検面８０に測定光が照射されたときに被検面８０の一部領域から反射されて撮像系４に入射する不要光の発生を防止するために、所定の遮光パターンを被検面８０に投影する透過型液晶表示素子７０を、光源部２０と分岐光学素子３との間の光路上に配置する。 （もっと読む）

【課題】チョクラルスキー炉における原料融液の液面位置（メルトレベル）の位置測定方法及び位置測定装置を提供する。
【解決手段】測定箇所７ａで反射した反射光を、集光レンズ１３ａで集光して二次元光センサ１３ｂで受光し、受光された反射光の輝度に基づいて三角測量の原理を利用して測定箇所７ａの位置を測定する方法であって、二次元光センサ１３ｂにおいて反射光が測定箇所７ａの位置を表す方向を第１方向Ｄ１といい、第１方向Ｄ１と直交する方向を第２方向Ｄ２という場合に、第２方向Ｄ２に沿う反射光の輝度を示す第２波形についてその重心である第２方向重心を算出する第２方向重心算出工程と、第２方向重心に基づいて第１方向Ｄ１に沿う反射光の輝度を示す第１波形についてその中心である第１方向中心位置を算出する第１方向中心位置算出工程と、第１方向中心位置に基づいて測定箇所の位置を算出する測定箇所算出工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】３次元形状の測定の際生じる影領域を除去する。
【解決手段】３次元形状測定装置はＸ−Ｙステージと、第１及び第２照明と、前記第１及び第２照明の一側に設置される複数個の投影レンズと、前記照明と前記投影レンズの間に複数個の格子が形成される格子板と、前記格子板を前記第１及び第２照明の照射方向と垂直な方向に移動さる投影部移送手段と、からなる投影部と、前記投影部の一側に位置して互いに一定な間隔を置いて設置される多数個のミラーと、前記多数個のミラーの下側に設置され多数個のミラーを経由した光の特性を調節して透過させる第１及び第２フィルタと、前記フィルタの間に設置され検査対象物に光を照射する第３照明からなる光経路変換器と、第３フィルタと、前記第３フィルタを経由した光を結像するために第３フィルタの上側に設置される結像レンズと、前記結像レンズを透過した映像を撮影する結像カメラと、からなる結像部を具備する。 （もっと読む）