【課題】一対の基板が複数のスペーサ部材により所定の間隔を置いて対向配置され、両基板間に液晶が充填されてなる液晶表示パネルおいて、両基板間に所定の液晶セル厚よりも大きい液晶セル厚部分があることによって画像表示ムラが発生してしまうことが防止される液晶表示パネルの製造方法を提供すること。
【解決手段】一対の基板が複数のスペーサ部材により所定の間隔を置いて対向配置され、両基板間に液晶が充填されてなる液晶表示パネルの製造方法において、両基板間に液晶が充填された状態で光学的手法により液晶セル厚ムラの有無およびその液晶セル厚ムラの位置を検出し、その検出された液晶セル厚ムラの位置を両基板の外側から加圧してその液晶セル厚ムラの位置の液晶セル厚が他の部分の液晶セル厚と均一になるようにした。 （もっと読む）

【課題】観察対象物体の断層像を、高い解像力とコントラストを持って観察し、計測にも応用可能な光画像計測装置を提供する。
【解決手段】光源（１）からの光ビームが軸回転するニポウディスク（７）のピンホールの配列に応じて走査され、ビームスプリッター（１２）により対象物体（１８）へ向かう探索光と、参照光路へ向かう参照光とに分割される。対象物体からの探索光と、参照光路を介した参照光は、ビームスプリッターで合成され、干渉光を発生する。この干渉光は２次元撮像手段（２２）で検出され、その映像信号から対象物体内部の反射強度情報が取得される。このような構成では、ニポウディスクによる光ビーム走査手段と２次元撮像手段を利用しているので、干渉光学系を簡単に実現することができる。 （もっと読む）

【課題】外観検査において感度を高く設定すると虚報も多く検出してしまうため、高感度で検査することができないという問題があった。そのため、全体の欠陥捕捉率を高く維持しながら虚報を抑制することにより実質感度を向上する技術が必要であった。
【解決手段】
検出欠陥の画像をもとに画像特徴量を算出し、検出欠陥の位置座標をもとに座標特徴量を算出し、画像特徴量と座標特徴量のいずれかに対するしきい値処理からなる決定木に従って虚報判定を行う構成とする
【効果】上記画像特徴量と座標特徴量を利用し、決定木に従って虚報判定を行うことにより、実欠陥と虚報の識別を精度よく行うことができるため、虚報を抑制しつつ高感度に検査することができる。 （もっと読む）

【課題】多方向からパターン照明を検査対象物に照射する多方向映写式モアレ干渉計及びこれを用いた検査方法を提供する。
【解決手段】この干渉計は、検査対象物（１）をＸ、Ｙ方向に移動させるＸ−Ｙステージ(１０)と、Ｘ−Ｙステージに位置した検査対象物(１)で反射されるパターン映像を撮影する結像部(１１０)と、パターン照明を照射受けて光経路を変更させて照射する第１回転鏡部(１２０)並びに第２回転鏡部(１３０)と、第１並びに第２回転鏡部から夫々照射されるパターン照明を検査対象物に照射する多数の第１並びに第２固定鏡部(１４０,１５０、１６０,１７０)と、第１及び第２回転鏡部(１２０,１３０)にパターン照明を照射させるパターン照明を発生する第１パターン照明発生部(１８０)と、を有する。 （もっと読む）

【課題】光学式の位置寸法測定装置によって、測定対象物体が光を透過および／または反射する物質により構成される場合であってもエッジを正確に検出する。
【解決手段】投光器１００は、半導体レーザ１３０と、ＡＰＣ回路１５０と、コリメートレンズ１６０と、光量減衰フィルタ１７０とを含む。ＡＰＣ回路１５０は、モニタ用フォトダイオード１４０の受光量に基づいて、レーザ光出力が目標出力に維持されるようにレーザチップ１３５への供給電流をフィードバック制御する。光量減衰フィルタ１７０は、測定対象物体３００からの反射光５１０に代表される外乱光が、モニタ用フォトダイオード１４０へ至る経路上に配置され、ＡＰＣ回路１５０によるフィードバック制御に悪影響を与えないように外乱光を減衰させる。 （もっと読む）

【課題】露光中の対象光路と参照光路との間の光路長差の変動量を抑制して、測定対象の高さ方向への走査速度にかかわらず安定した干渉像の撮像を可能とし、精度良く測定対象の表面形状を計測する。
【解決手段】表面形状計測装置の駆動信号発生回路９が制御部１０から与えられるｚステージ駆動信号と同期信号と露光時間とに基づいて、参照光路と対象光路との間の光路長差の露光中の変動量が必要高さ分解能以下になるような、上記同期信号と同期する参照ミラー駆動信号を作成して、作成された参照ミラー駆動信号を参照ミラーコントローラ８に与え、参照ミラーコントローラ８が該参照ミラー駆動信号に基づいて参照ミラー４３を駆動し、制御部１０が、カメラ５によって撮像された撮像データに基づいて、対象光路方向の干渉強度変化を求め、該干渉強度変化を分析して、測定対象２の表面高さを算出する。 （もっと読む）

【課題】
検査装置並びに高さ計測装置において、照明手段を、試料上の所望の領域にレーザ光を斜方入射させて均一な強度分布でかつ高い光利用効率で照明することでより低いレーザパワーでも充分に検査又は計測を行えるようにして、比較的小型のレーザ光源を用いること可能にする。
【解決手段】
照明手段を、光学素子の回折光学素子により、照射部を介して試料上に照射される照明光が試料上の直線状の領域を直線状の全領域に渡ってほぼ均一の強度分布で直線状の全領域に渡って焦点が合った状態で照射するように照明光の光束の断面形状と強度分布とを変換するように構成した。 （もっと読む）

【課題】被検眼の画像を取得するときに被検眼を効果的に固視させる。
【解決手段】眼底観察装置1（光画像計測装置）は、低コヒーレンス光Ｌ０を眼底Ｅｆに向かう信号光ＬＳと参照ミラー１７４に向かう参照光ＬＲとに分割し、眼底Ｅｆを経由した信号光ＬＳと参照ミラー１７４を経由した参照光ＬＲとを重畳させて干渉光ＬＣを生成し、この干渉光ＬＣを検出して断層画像を形成する。放射状の複数の走査線Ｒｉに沿って信号光ＬＳを走査することにより、放射状の複数の断面における断層画像Ｇｉが得られる。３次元画像形成部２３１は、走査線Ｒｉの間隔が閾値以下である領域における３次元画像を形成する。また、眼底Ｅｆの領域を指定すると、この指定領域のサイズに応じた本数の走査線Ｒｉを自動設定する。また、走査線Ｒｉの本数を指定すると、その指定本数に応じた領域の３次元画像を形成する。 （もっと読む）

【課題】導光手段からの干渉光の出射位置と干渉光を受光する受光面との位置関係を容易に調整可能な光画像計測装置を提供する。
【解決手段】眼底観察装置（光画像計測装置）１は、ＣＣＤ１８４の受光面に対する計測光の照射状態（照射位置、照射方向）を特定する照射状態特定部２１１と、特定された計測光の照射状態に基づいて光ファイバ１６５のファイバ端１６５ａの位置や向きを変更するファイバ端駆動機構２４４を備え、それにより、光ファイバ１６５のファイバ端１６５ａとＣＣＤ１８４の受光面との相対的な位置や方向を自動的に変更することができる。このようにファイバ端１６５ａと受光面とを適正な位置関係に配置させた状態で眼底Ｅｆの計測を実施する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、従来よりも簡便にレーザビームの照射位置及び／又は繰り返し位置精度を取得することのできる照射位置検出装置及びその位置検出方法を提供することを課題とする。
【解決手段】レーザ光源１１から出射されたレーザビームをＹ軸方向に偏光させる第１のガルバノミラー２６と、第１のガルバノミラー２６により偏光されたレーザビームをＸ軸方向に偏向させる第２のガルバノミラー３１とを備えたガルバノミラー装置１４により偏向されたレーザビームの照射位置を検出する照射位置検出装置１０であって、ガルバノミラー装置１４により偏向されたレーザビームを平面部材１６の上面１６Ａに照射した際に形成されるレーザ照射領域Ａにレーザビームの照射位置を検出する少なくとも１つの受光手段を設けた。 （もっと読む）

【課題】 露光装置に適用してその装置ダウンを防ぎ（延命し）、またスループット低下、光学系ユニット劣化を早期に警告することができる計測装置を提供する。
【解決手段】 光源１２と、蓄積型の２つの光検出器９、１０と、前記光源からの光の量を調節する、前記２つの光検出器に共通の調光器１１と、前記２つの光検出器の出力が許容範囲内になるように前記調光器を制御する制御器１３とを有し、前記調光器により光量が調節された光で照明された２つの対象物からの光を前記２つの光検出器でそれぞれ検出することにより計測を行う。ここで、前記制御器は、前記調光器を制御することにより前記２つの光検出器のうち一方のみの出力が該許容範囲内になった場合に、前記２つの光検出器のうち他方の出力が該許容範囲内になるように該他方の蓄積時間を設定する。 （もっと読む）

【課題】 平滑面及び粗面を同時に観察可能な形状観察装置を提供する。
【解決手段】 光を発する光源11、光が照射されるパターンを有するパターン素子21、パターンを透過した光を集光するフーリエレンズ13、光源11と共役な位置に配置され、光を通す照射光透光部を含む照射光フィルタ31A、フーリエレンズ13を透過した光をコリメートする投影レンズ14、コリメートされた光で照射された被観察物51表面の反射光を集光する集光レンズ15、及び照射光透光部と共役で反射光を減光する反射光減光部を含む反射光フィルタ32を備える。 （もっと読む）

【課題】鏡面である対象面上の各位置における傾斜方向および傾斜角を容易かつ精度よく求める。
【解決手段】欠陥検出装置１では、点光源である光源部１１からの光束がビームスプリッタ１４１およびレンズ１４２を介して平行光として対象面９１に照射され、対象面９１からの反射光がピンホール板１５が位置する集光面に集光される。ピンホール板１５のピンホール１５１を透過した光は、レンズ１６を介して平行光とされてイメージセンサ１７へと導かれる。反射光は対象面９１の各位置の傾斜方向および傾斜角に応じた集光面上の位置に集光されるため、取得される画像では傾斜方向および傾斜角が同じ領域が明るくなる。したがって、ピンホール板１５をＸＹ移動機構２１により移動しつつイメージセンサ１７にて画像の取得を繰り返すことにより、対象面９１上の各位置の傾斜方向および傾斜角を求めることができる情報を容易かつ精度よく取得することができる。 （もっと読む）

【課題】 光断層画像化装置において、光プローブの揺れによる干渉信号レベルの揺らぎを防止する。
【解決手段】 測定対象内に挿入される光ファイバ１２を収容した光プローブ１０を、光断層画像化装置本体１Ａに接続してなる光断層画像化装置１において、光プローブ１０の測定対象Ｈ外に延びる部分の少なくとも一部を、すくなくとも光断層画像取得時に固定する固定手段５Ａを備える。 （もっと読む）

【課題】変位の測定にホモダイン式のレーザ干渉計を使用した追尾式レーザ干渉計における、トラッキングエラーが増加すると変位の測定とＳＮ比が低下するという問題点を解決する。
【解決手段】レトロリフレクタ１０８に入射するレーザビームの光軸と、レトロリフレクタ１０８の中心位置との間の距離をトラッキングエラー量ΔＴｒとして検出し、検出されたトラッキングエラー量ΔＴｒから、干渉計１０７で変位の測定に用いるリサージュ信号の振幅を一定に保つためのレーザビームの光量の調整量を求め、前記トラッキングエラー量ΔＴｒに応じて、レーザビーム光量を調整する。 （もっと読む）

【課題】面内測定に好適な条件と高さ測定に好適な条件とを簡単に切り換えられる測定顕微鏡装置を提供する。
【解決手段】測定顕微鏡装置は、被検体Ｓを載置するＸＹステージ１０と、被検体Ｓを光学的に観察するための観察光学系２０と、被検体Ｓに二つの指標像をそれぞれ異なる方向から投影する指標投影光学系３０と、被検体Ｓを照明する落射照明光学系４０と、指標投影光学系３０と落射照明光学系４０の光量の比率を連動して切り換える光量調節部５０とを有している。 （もっと読む）

【課題】レーザのビームプロファイリングを用いて、レーザを被加工対象物に結像もしくは集光する対物用光学素子の焦点合わせを可能とする。
【解決手段】レーザ加工装置３に設けられたビーム観察装置１には、レーザが照射される測定基準面１３を有する観察用基板１４が配置されている。また、ビーム観察装置１には、ＣＣＤカメラ１５が備えられ、かつ、ＣＣＤカメラ１５で撮像された画像を表示する画像モニタ２０が接続されている。ＣＣＤカメラ１５は、測定基準面１３に照射されたレーザの照射形状を撮影するように、測定基準面１３に焦点が合わせられている。ＣＣＤカメラ１５に撮像されるとともに表示された測定基準面１３におけるレーザの照射形状に基づき、前記対物用光学素子の焦点を前記測定基準面に合わせる。 （もっと読む）

【課題】半自動溶接中に溶接士の挙動、溶融プール形状ならびにワイヤ突出し長さ等に関する複数の情報を同時に取得し、溶接施工の良否の判定をすみやかに行うことのできる溶接作業情報計測方法および装置を提供すること。
【解決手段】減光フィルタと帯域通過フィルタを有する複数の視覚センサ７，８，９，１０を備え、前記視覚センサによってそれぞれの視野を撮像することによって溶接ワイヤの突出し長さ、溶融プール形状及び溶接士の挙動に関する複数の情報を同時に取得するようにした構成とする。 （もっと読む）

【課題】光軸の位置と角度（2 目的）の同時自動調整を行う、
【解決手段】レーザ光の光軸の位置と角度のずれを自動調整する、光軸自動調整装置であって、レーザ光の光路上に設置される少なくとも２個の光軸調整用ミラー、前記各ミラーに少なくとも２個備えられる制御機構、光軸の位置と角度を同一または別々のセンサで検出する1または２の光軸検出センサ、当該センサからの受光信号に基づき前記制御機構を
駆動するコントローラに制御信号を出力する調整装置を備え、前記調整装置は、多目的最適化手法に従い、光軸の位置と角度に関する複数のパレート最適解を得るように前記制御信号を出力する光軸自動調整装置。 （もっと読む）

物体のホログラムを生成する装置および方法は、物体から光のような受信電磁放射線を受けるように構成されている電磁放射組立体を含む。電磁放射組立体は、受信電磁放射線を回折させ、回折された電磁放射線を透過させるためさらに構成されている。像捕捉組立体は、回折された電磁放射線の像を捕捉し、捕捉された像から物体のホログラムを生成するように構成されている。
（もっと読む）