【課題】凸レンズの周縁の形状を簡易な構成で精度良く検出することができるエッジ検出方法およびエッジ検出装置を提供すること。
【解決手段】凸レンズ１００を撮像する撮像部２を用いて凸レンズ１００の周縁の形状を検出させるためのエッジ検出方法であって、出射開口１１ａが形成されたマスク１１の出射開口１１ａを通じて撮像部２へ向けて拡散光を発し、出射開口１１ａと撮像部２との間の撮像光学系３の被写界深度内に凸レンズ１００を配置し、撮像部２の撮像面４ａに、拡散光が凸レンズ１００を透過して撮像部２へ入射した第一拡散光Ｌ１と、拡散光が凸レンズ１００の外部を通って撮像部２へ入射した第二拡散光Ｌ２とによってマスク１１の像を投影させ、第二拡散光Ｌ２による明部とマスク１１の像による暗部との境界の形状に基づいて凸レンズ１００の周縁の形状を検出することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】撮像位置設定装置において、被写界深度が拡大された撮像レンズを通した撮像素子による撮像で得られる画像の品質をより高い品質で安定させる。
【解決手段】撮像レンズ１０のレンズナイキスト周波数が撮像素子２０のセンサナイキスト周波数の１倍以上、４倍以下である、被写界深度の拡大された撮像レンズ１０を通して形成される光学像を、撮像素子２０で撮像する際の撮像位置を定める際に、ピーク位置測定手段２１０により、撮像レンズ１０における無限遠被写体についてのデフォーカスＭＴＦピーク位置を測定し、判定手段２８０により、撮像レンズ１０が、この撮像レンズ１０のデフォーカスＭＴＦピーク位置に関する複数の条件式を全て満足するものであることを判定し、位置設定手段２９０が、上記複数の条件式を全て満足すると判定された撮像レンズ１０について、撮像位置に関する条件式を満足するようにその撮像位置を定める。 （もっと読む）

【課題】撮像環境の変化を検出し、工具寸法を高精度に測定できるように撮像条件を自動的に調整したり、画像を補正するようにした、撮像式工具測定装置および撮像式工具測定方法を提供する。
【解決手段】撮像部１２からの工具像にかかる信号、または画像前処理部２０からの処理信号に基づいて撮像環境・条件を検出する撮像環境・条件検出部２５と、撮像環境・条件検出部２５の検出情報を基に、撮像の適正条件を判断し、調整指令を導出する撮像条件判断・調整指令部２７と、前記撮像条件判断・調整指令部２７からの調整指令信号により、撮像条件を調整する調整手段と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】 対象物の高さを高精度かつ迅速に計測することが可能な計測装置を提供する。
【解決手段】 計測範囲内にある対象物の高さを計測する計測装置は、複数の波長を含む光を出射する光源と、軸上色収差を有する光学ユニットを含み、前記光源から出射された光を複数の光束に分割して、前記計測範囲を含むが異なる焦点範囲に前記複数の光束を前記光学ユニットによって集光させる第１光学系と、前記複数の光束について前記対象物の表面に焦点位置を有する波長を検出する検出部と、前記第１光学系と光路の一部を共有していて、前記第１光学系によって集光され前記対象物の表面で反射された前記複数の光束を前記検出部に導く第２光学系と、前記複数の光束から１つの光束を選択し、該選択された光束の前記検出部により検出された波長を用いて前記対象物の高さを算出する処理部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】レーザースキャナを用いた得た三次元点群位置データを補完する三次元点群位置データを撮影画像から得る技術において、当該撮影を行う条件における撮影手段のキャリブレーションを効率よく簡便に行う。
【解決手段】第１の視点から建物１２０のレーザースキャンを行い、三次元点群位置データを得る。他方で、第２の視点から第１の視点でオクルージョンとなる建物１２０の部分のステレオペア画像の撮影を行う。そして、第２の視点で得たステレオ画像と第１の視点で得た三次元点群位置データとの対応関係を求めることで、当該三次元点群位置データを利用してのステレオペア画像撮影装置１２４のキャリブレーションを行なう。 （もっと読む）

【課題】検査対象物の表面や欠陥の形状に関わらず、欠陥を精度良く検出できるようにする。
【解決手段】検査対象物の表面に生成される照射パターンが少なくとも十字形状及びリング形状となる２種類以上のパターン光を発光部６０１から検査対象物の表面に照射する。そして、所定の方向に走査しながら前記検査対象物の表面にパターン光を照射するようにする。一方、撮像部６０２は、照射されたパターン光により生成される照射パターンを含む画像を撮影し、画像処理部６０３は、前記撮影された画像に含まれる照射パターンの形状の変化に基づいて前記検査対象物の表面の欠陥を検出する。 （もっと読む）

【課題】同一パターンとなるように形成された２つのパターンの対応する領域の画像を比較して画像の不一致部を欠陥と判定するパターン検査装置において、膜厚の違いなどから生じるパターンの明るさむらの影響を低減して、高感度なパターン検査を実現する。また、多種多様な欠陥を顕在化でき，広範囲な工程への適用が可能なパターン検査装置を実現する。
【解決手段】同一パターンとなるように形成された２つのパターンの対応する領域の画像を比較して画像の不一致部を欠陥と判定するパターン検査装置を、複数の検出系とそれに対応する複数の画像比較処理方式を備えて構成し、又、異なる複数の処理単位で比較画像間の画像信号の階調を変換する手段を備えて構成し、画像間の同一パターンで明るさの違いが生じている場合であっても、正しく欠陥を検出できるようにした。 （もっと読む）

【課題】簡便な構成でターゲット面と垂直な成分を含む方向の変位量を測定することができる画像相関変位センサを提供すること。
【解決手段】本発明の一態様にかかる画像相関変位センサは、照射光を出射する照射部１３０'と、ターゲット面３００で生成したスペックルフィールドを複数回に亘って撮像するために用いられ、ターゲット面近傍においてターゲット面の法線方向から傾斜した光線路Ａと、光線路Ｂ'と、光線路Ａ，Ｂ'の少なくとも一方を偏向する素子１１０'と、を有する撮像部２４０と、光線路Ａにおいて撮像することにより得られた複数画像と光線路Ｂ'において撮像することにより得られた複数画像とに基づいて、ターゲット面３００の法線成分を含む方向の変位を計算する処理部２００と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】複数の視差候補の中から最適な視差を精度よく選択することができる画像処理装置等を提供する。
【解決手段】画像取得部１１は、同一被写体について視差のある２つの画像を取得する。特徴点候補取得部１２は、画像取得部１１により取得された一方の画像から特徴点候補を取得する。視差候補取得部１３は、ステレオマッチングを行い、他方の画像から特徴点候補毎の視差候補をそれぞれ取得する。特徴点選択部１４は、取得された特徴点候補の中から所定の条件を満たすものを特徴点として選択する。隣接点取得部１５は、特徴点選択部１４により選択された特徴点に隣接する隣接点を、特徴点毎にそれぞれ取得する。視差決定部１６は、特徴点と、視差候補と、隣接点と、に基づいて、確率伝搬法によるアルゴリズムを用いた処理を実行し、各特徴点に対応する視差を決定する。 （もっと読む）

【課題】対象面に対して光を照射し、その反射光を検出することによって当該表面の位置を検出するにあたって、適切な出射光量の値を簡易に決定できる技術を提供する。
【解決手段】光源から、光源に対して相対的に移動する対象面（基板Ｗの上面）に対して、出射光量を変化させながら間欠的に光を照射させるとともに、その反射光の光量分布データを受光部に取得させて、対象面内の異なる位置Ｐ（１），Ｐ（２），・・・Ｐ（Ｎ）で反射した反射光の光量分布データをサンプルデータとして次々と取得していく。続いて、取得された複数のサンプルデータのうち、受光量が許容範囲内にあるものを有効データとして抽出し、有効データを与えた最大の出射光量を、位置検出を行う位置検出用光源の出射光量の最適値とする。 （もっと読む）

【課題】回折格子が配置された面の垂直方向の変位のみを容易に検出することができる変位検出装置を提供する。
【解決手段】変位検出装置１は、照射光学系２と、干渉光学系３と、受光部４と、変位検出部５とを備えている。照射光学系３は、回折格子１００の格子構造が周期的に並んでいるＸ方向に垂直な面に対して異なる角度でそれぞれ光束を回折格子に入射させる。干渉光学系３は、回折格子１００に入射された入射光Ａ１，Ｂ１のＭ次回折光Ａ３，Ｂ３どうしを干渉させて干渉光を生じさせる。受光部４は、干渉光を受光して干渉信号を検出する。変位検出部は、干渉信号の変化から回折格子が設けられた面の垂直方向の変位を検出する。 （もっと読む）

【課題】反射画像の輝度を適切な輝度に調整することができ、被計測物の三次元形状を正確に計測することが可能な三次元形状計測装置を提供すること。
【解決手段】三次元形状計測装置１００は、輝度が正弦波状に変化する縞状の光パターンを異なる位相で複数回、被計測物に投影する投影手段１０と、光パターンが投影された被計測物の反射画像を撮像する撮像手段２０と、被計測物の反射画像を基に、被計測物の三次元座標を計測する計測手段３１と、を有し、光パターンを被計測物に投影する前に、投影手段１０より所定の光を被計測物に投影し、所定の光が投影された被計測物の反射画像における各画素の輝度階調値と、所定の光の輝度階調値と、を基に、被計測物の光の最大反射率を算出する反射率算出手段３２と、最大反射率に応じて、撮像手段２０が受光する受光量を調整する調整手段３３と、を備える。 （もっと読む）

【課題】比較的大きなサイズの欠陥を高感度で検出できると共に、高さ又は深さの変化量が１ｎｍ又はそれ以下の微細な欠陥も検出できる検査装置を実現する。
【解決手段】照明光源１からの照明ビームを被検査基板２１に向けて投射する対物レンズ２０と、入射した照明ビームを、互いに干渉性を有する第１及び第２のサブビームに変換すると共に、基板の表面で反射したサブビーム同士を合成し、基板表面の高さ又は深さと関連する位相差情報を含む干渉ビームを出射させる微分干渉光学系１６と、出射した干渉ビームを受光する光検出手段２８と有する。微分干渉光学系のリターデーション量は、ｍを零又は正の整数とした場合に、第１と第２のサブビームとの間に（２ｍ＋１）π又はその近傍の位相差が形成されるように設定し、前記光検出手段から出力される出力信号のバックグランドの輝度レベルがほぼ零となる検査状態において基板表面を照明ビームにより走査する。 （もっと読む）

【課題】測定対象物の波長毎の反射率を精度良く測定することができる反射率測定装置及び反射率測定方法、並びに本発明による反射率測定装置を備えた膜厚測定装置及び本発明による反射率測定方法を含む膜厚測定方法を提供する。
【解決手段】
反射率測定装置１は、照射光Ｌ１を測定対象物へ供給する測定光源３０と、照射光Ｌ１の強度及び測定対象物からの反射光Ｌ２の強度を波長毎に検出する分光検出部８０と、照射光Ｌ１の波長毎の強度の検出値を、基準測定対象物からの反射光Ｌ２の波長毎の強度の検出値に相当する値に変換する変換係数Ｋ（λ）を記録する係数記録部９２と、照射光Ｌ１の波長毎の強度の検出値及び変換係数Ｋ（λ）より求まる、基準測定対象物からの反射光Ｌ２の波長毎の強度に相当する値に基づいて、波長毎の反射率を算出する反射率算出部９３とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】撮像装置のキャブリレーションに用いる校正基準点を、小規模な装置環境で高精度に取得する。
【解決手段】校正対象の撮像装置２０に対してレーザ光のような広がりのない光を照射する発光装置１０、撮像装置１０の向きを調節する角度調節装置３０、該角度調節装置３０に角度指令を与える角度制御装置４０、撮像装置２０より得られる撮像画像から集光点位置を検出し、校正基準点を算出する画像処理装置５０を有する。 （もっと読む）

【課題】測定ポイントの探索を短時間で行うことができ、尚かつ、エアギャップ画像と透明部材画像との間のコントラストを改善して、エアギャップを高精度で測定できるエアギャップ測定装置を提供する。
【解決手段】エアギャップ測定装置は、測定対象物ＯＢＪが、対向配置された一対の透明部材の間のエアギャップであって、前記一対の透明部材を前記エアギャップの厚さ方向に交差する方向から拡散光で照明するための面発光光源１０と、面発光光源１０と透明部材との間に設けられ、開口形状が可変である絞り部材２０と、透明部材およびエアギャップの透過画像を撮像するための撮像ユニット３０と、同軸落射照明用光源５０などで構成され、同軸落射照明用光源５０と撮像ユニット３０の結像光学系３１とによる同軸落射照明光が、その中心部に非照明部が存在するスポット光である。 （もっと読む）

【課題】記録媒体浮き検出の誤動作を防ぐことができる記録媒体浮き検出装置及びインクジェット記録装置を提供する。
【解決手段】検出ビームを出射、受光するための投光ユニット、受光ユニットを有する投光受光手段と、前記検出ビームの光路を平行移動させるための投光用平行平板と、を備え、前記投光用平行平板は、互いに平行な入射面と、出射面とを有する平板であり、前記検出ビームに垂直な回転軸を中心に回動することにより、前記入射面から入射した前記検出ビームを屈折させて前記出射面から前記検出ビームの光路を前記搬送面から離れる方向に平行移動させて出射するように構成され、所定のタイミングで、前記検出ビームを前記搬送面から離れる方向に平行移動させる記録媒体浮き検出装置。 （もっと読む）

【課題】マスクステージの回転中心の座標を精度良く求め、これによりマスクと基板との位置決めを高精度で行うことができるマスクの位置決め装置及びマスクの回転中心算出方法を提供する。
【解決手段】位置決め装置７０は、回転機構１６ｘを具備するマスクステージ１０と、マスクＭ及び基板Ｗに設けられた複数のアライメントマークＭｍ、Ｗｍを検知するための複数のアライメントカメラ１８と、アライメントカメラ１８により得られた画像を用いて各アライメントマークＭｍ、Ｗｍの位置が合うようにマスクステージ１０の動作を制御する制御装置７１と、を備える。アライメントカメラ１８は、各アライメントカメラ１８にそれぞれ対応するアライメントマークＭｍ、Ｗｍを撮像し、マスクステージ１０を回転させた後、各アライメントマークＭｍ、Ｗｍを再度撮影して、マスクステージ１０の回転中心Ｅの座標を算出する。 （もっと読む）

【課題】被測定マスク基板に焼き付きを生じさせることなく、非破壊での測定を可能とするとともに、個々の露光条件を考慮して精度良く微細加工処理が施された基板上のパタン幅を露光機における実効的なパタン幅として測定することが可能なパタン幅測定装置を提供する。
【解決手段】空間領域及び／又は時間領域でのコヒーレントな光を、被検パタンを微細加工した被検マスク基板２に照射する照射部１０と、照射部１０により照射された被検マスク基板２上の被検パタンからの回折光を受光する撮像素子１５と、撮像素子１５による受光結果である画像情報を記録する記録部１６ａと、記録部１６ａに記録された受光結果である画像情報を解析して、微細加工処理が施された被検マスク基板２上のパタン幅を測定する測定処理部１６とを備える。 （もっと読む）

【課題】２つの表面領域を同期測定できるクロマティックポイントセンサ装置（ＣＰＳ装置）の動作方法を提供すること。
【解決手段】２光束アッセンブリが取り付けられた１光束ＣＰＳ光学ペンを用いたセンサ装置の第１測定光束および第２測定光束を、それぞれ第１表面領域および第２表面領域に位置合わせする。２つの反射光が２光束ＣＰＳの共焦点開口部を通過する。第１測定光束および第２測定光束にそれぞれ起因する第１測定および第２測定を含んだ少なくとも１の測定セットを実行する。様々な位置での測定セットの実行のため、少なくとも第１表面領域を移動させる。各測定結果は、極めて良好な分解能（例えば、少なくとも１０ｎｍの分解能）で決定される。本センサ装置と動作方法は、干渉計または他の高額で複雑な構成要素を使わないで、高い分解能と精度を必要とする測定に適用できる。 （もっと読む）