【課題】対象面の面形状を計測する。
【解決手段】対象面に向かって光ビームを投射する投射部と、対象面で反射された光ビームを受光して対象面の局所的形状を特定する特定部と、光ビームの投射角度を維持しつつ光ビームを並進させる並進部と、光ビームの並進に伴って特定部が順次特定する局所的形状を蓄積して、対象面の連続的形状を算出する算出部と、光ビームの投射角度を変更する変更部と、変更部が投射角度を第一角度から第二角度に変更した場合に、特定部に、第一角度による対象面への投射位置に第二角度により光ビームを投射させ、且つ、当該投射位置における局所的形状を再び特定させる制御部とを備える。 （もっと読む）

【課題】光の干渉現象を利用して検出した干渉光（光ビート信号）が正規の像を取得させるものであるのか折り返し像を取得させるものであるのかを簡易に判定することができる光干渉計測方法を提供する。
【解決手段】光源ユニットから射出された光を測定光と参照光とに分割し、前記参照光と、前記測定光が照射された測定対象１１から反射または後方散乱した光と、が干渉した干渉光を検出し、前記参照光の光路に設けられた光路長可変機構１３を駆動させて前記参照光の光路長を変化させ、前記参照光の光路長の変化に応じた前記干渉光の変化に基いて、検出された前記干渉光に基づく画像が正規の像か折り返し像かを判定し、その判定の結果に基いて前記干渉光から前記測定対象を計測する。 （もっと読む）

【課題】光コヒーレンストモグラフィ（以下「ＯＣＴ」という。）手法を用いて紙葉類の断面構造情報を検出する。
【解決手段】搬送機構部２０にセットされた検出対象である紙葉類１０に対し、ＯＣＴ信号検出部３０から低干渉性（コヒーレンス）光を照射し、紙葉類１０からの反射光を受光して、参照光との間で得られる干渉光の強さを検出する（ＯＣＴ生信号の検出）。得られたＯＣＴ生信号は、データ処理および判定部５０へ与えられて、データ処理および判定処理として、「反射率の深さ方向のプロファイル算出処理」（Ｓ１）、「反射率の深さ方向プロファイル解析処理」（Ｓ２）および「判定処理」（Ｓ３）が行われる。 （もっと読む）

【課題】光干渉断層画像診断を精度よく行うのに好適な基準格子等を提供する。
【解決手段】本発明に係る基準格子１００は、光干渉断層画像の診断に用いられる基準格子であって、光を透過する部材から構成され、当該部材に複数のグリッド線１１０を備え、複数のグリッド線１１０は、光干渉断層画像に表示される。そして、基準格子１００を対象物に固定し、基準格子１００及び対象物に低干渉光を照射し、当該基準格子１００及び当該対象物により当該低干渉光が反射された反射光に基づいて、当該基準格子１００及び当該対象物を測定し、基準格子１００が備えるグリッド線１１０間の測定寸法と当該グリッド線１１０間の実寸法との差に基づいて、測定された対象物の測定寸法に含まれる誤差を特定する。 （もっと読む）

【課題】低コストであり、且つ手間をかけずに迅速に粒径を測定することができるテラヘルツ波を用いた粒径測定装置及び粒径測定方法を提供する。
【解決手段】レーザ光を発するレーザダイオード１と、レーザダイオード１により発せられたレーザ光を第１レーザ光と第２レーザ光とに分割するビームスプリッタ２と、第１レーザ光が照射されることによりテラヘルツ波を発振するテラヘルツ波発振アンテナ５と、第２レーザ光に基づいた検出タイミングでテラヘルツ波を検出し、検出したテラヘルツ波の強度に応じた検出信号を生成するテラヘルツ波受信アンテナ８と、テラヘルツ波路中に測定対象物１００を設置した場合のテラヘルツ波受信アンテナ８により生成された検出信号に基づく信号強度データのみから特徴量を算出し、特徴量に対応する粒径のデータを保持するデータベース５８を参照することにより測定対象物１００の粒径を推定するデータ保持部５２、データ処理部５６とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板表面のレベル変動の測定時間を短縮する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、パターニングデバイスからパターンを基板（Ｗ）に転写するパターニングサブシステムを備える。パターニングサブシステムは、記録された基板表面のレベル変動の測定結果に従って制御される。レベルセンサ（ＬＳＰ，ＬＳＤ）は、レベルセンシング放射ビームを投影して基板表面の位置から反射させ、反射したセンシングビームを検出して位置の表面レベルを測定するために設けられる。レベルセンサは、少なくとも一つの移動光学素子（ＭＰ，ＭＤ）内蔵しており、基板表面を光学的移動（δＹ）により少なくとも一次元にスキャンして、レベルセンサと基板との間の機械的動作なしで異なる位置の表面レベルの測定結果を取得する。光路長等化手段は、成形リフレクタ及び／または追加的な移動ミラーを用いることにより、スキャンの間の焦点変動を回避するために配置される。 （もっと読む）

【課題】位相シフト法を用いる場合であっても被測定球面の形状を適切に測定することができるフィゾー型干渉計の提供。
【解決手段】フィゾー型干渉計１は、干渉計本体２と、測定装置３とを備える。干渉計本体２は、参照球面などで構成される光学系２２を備える。測定装置３は、強度取得部３１と、形状測定部３２とを備える。強度取得部３１は、参照球面の焦点と、被測定球面の焦点とを一致させたときの参照球面の位置を中央位置とし、この中央位置から等距離にある２つの位置を、それぞれ開始位置、及び終了位置としてｎ個の位置における干渉光の強度を等間隔で取得する。形状測定部３２は、ｉ個目の位置における干渉光の強度、及び（ｎ−ｉ＋１）個目の位置における干渉光の強度の係数を同一とする位相シフト法のアルゴリズムで被測定球面の形状を測定する。 （もっと読む）

【課題】試料表面を正確に検出することができるレーザ共焦点顕微鏡及び表面検出方法を提供する。
【解決手段】照明光を射出するレーザ光源２と、試料１１に照明光を照射する対物レンズ１０と、対物レンズ１０の焦点位置と試料１１の間の距離を変化させるステージ１７と、レーザ光源２と対物レンズ１０の間に配置され光を偏光特性で分離する偏光ビームスプリッタ３と、偏光ビームスプリッタ３と対物レンズ１０の間に固定されたλ／４板７と、偏光ビームスプリッタ３と対物レンズ１０の間で挿脱可能なλ／４板８と、焦点位置と光学的に共役な位置に配置された共焦点絞り１３と、共焦点絞り１３を通過した試料１１からの検出光の強度に応じた信号を出力する光検出器１４と、を含んでレーザ共焦点顕微鏡を構成する。多重反射試料を観察する場合にλ／４板８を偏光ビームスプリッタ３と対物レンズ１０の間に挿入して観察する。 （もっと読む）

【課題】被検物に対する被検面の形状測定データの座標を高精度に求めること。
【解決手段】マーク形成工程（Ｓ１）と、形状測定工程（Ｓ２）と、マーク検出工程（Ｓ３）と、座標算出工程（Ｓ４）とからなる干渉計測方法であり、Ｓ１のマーク形成工程では、被検物の被検面に基準マークを形成する。マーク検出工程では、形状測定工程で得られた形状測定データからエリアセンサの座標系を基準とする基準マークの位置を検出する。座標算出工程では、マーク形成工程にて形成された被検物の座標系を基準とする基準マークの位置情報と、マーク検出工程にて検出されたエリアセンサの座標系を基準とする基準マークの位置情報との対応関係を求める。この対応関係に基づき、形状測定工程により得られた形状測定データを被検物の座標系に変換する演算を行う。 （もっと読む）

【課題】ＩＣチップにダメージを与えないで最小厚さまでモールドを高速かつ精緻に、簡素な装置構成で除去できるモールド除去方法およびモールド除去装置を提供する。
【解決手段】モールドの除去条件を設定する工程と、レーザ光の出射位置にＩＣチップを設置する工程と、モールド部材の高さ位置方向の位置合わせを行い、計測用レーザを出射して該モールド部材のＸおよびＹ方向座標位置の反射／散乱光量を測定し、測定値を記憶する測定工程と、前記モールドの除去条件を満たすか判断する工程と、前記モールドの除去条件を満たしている場合はモールドの除去条件に応じて設定した加工条件でレーザ仕上げ加工を行う仕上加工工程と、前記モールドの除去条件を満たしていない場合は前記記憶したＸおよびＹ方向座標位置の測定値に応じて設定した加工条件でレーザ一次加工を行い、前記レーザ一次加工の完了後に前記測定工程の前に戻る一次加工工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】被記録媒体の移動方向と直行する被記録媒体の幅と幅方向に沿った厚さとが均一でない被記録媒体であっても、良好な転写性を得ることができる被記録媒体検出装置、画像形成装置、及び画像形成方法を提供する。
【解決手段】光源と、光源からの光を被記録媒体上に搬送方向と垂直な方向に偏向走査する走査光学段と、被記録媒体を透過した光を受光して電気信号に変換する変換手段と、変換手段からの電気信号に基づいて被記録媒体の厚さ及び幅を検出する検出手段と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】 表面の状態を適切に評価する。
【解決手段】 波長３８０ｎｍ〜５００ｎｍの光を出射し、該範囲以外の可視光領域の光を出射しない光源と、光源を出射した光を集光する集光光学系と、集光光学系で集光された光の光路上に配置され、評価対象物を保持し、集光光学系で集光された光が評価対象物の表面に入射するように、評価対象物を移動させることのできるステージと、集光光学系で集光された光がステージに保持された評価対象物の表面に入射して生じる光のうち、正反射光と透過光とを除いた結像されない光の、ある立体角内へ散乱する分のパワーを計測する計測装置とを有する半導体薄膜の表面評価装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】
レール近傍にあって頭面がレールに比べて比較的幅のある平面形状の物体をレールと誤検出することを防止することができるレール変位量測定装置におけるレール検出方法を提供することにある。
【解決手段】
この発明は、測定三角形が形成されたときのこの測定三角形において測定されるレールの位置とこの測定三角形において第１の距離検出器あるいは第２の距離検出器のいずれかにより測定されるレールの位置との位置誤差を算出して、この位置誤差が所定値の範囲にあるときに測定対象をレールとして検出する。 （もっと読む）

【課題】 隠れた位置にある目標の位置を検知できる視覚装置を提供する。
【解決手段】 プレート６の３次元位置を検知することができるが、プレート６の奥に位置するプレート７に形成された穴８の位置を検知することはできない。そこで、カメラ部３によって穴８を視認することができる位置まで視認装置１を下げ、この状態で反射機構部２の前面に設けたリング状のＬＥＤ照明装置９から発せられプレート７で第３の方向に反射した光Ｌ３は、前記ハーフミラー２１ｂ、２２ｂを透過し前記感知領域４の結像エリア４ｃに入光して結像する。これによって目標である穴８の２次元位置（カメラと穴８との水平距離）を検出することができる。 （もっと読む）

【課題】干渉計において、光源部からの光を干渉計本体部に導入するファイバを光源部に対して容易に着脱することができるようにする。
【解決手段】光源部５２、干渉計本体部、およびファイバ１２を有し、光源部５２からの平行光３１ａをファイバ１２の入射端に入射してファイバ１２の出射端から干渉計本体部の内部に導入する干渉計であって、ファイバ１２の入射端側を保持するとともに、光源部５２に対して着脱可能に設けられたファイバ保持部材２５と、ファイバ保持部材２５の内部に、ファイバ１２の入射端に焦点位置を合わせて配置された集光レンズ２６と、を備え、光源部５２は、平行光３１ａを出射するレーザ光源２０と、ファイバ保持部材２５を着脱可能に保持し、装着時に平行光３１ａが集光レンズ２６の光軸に沿って入射するようにファイバ保持部材２５を位置決めする固定部材２４と、を備える。 （もっと読む）

本明細書で開示される主題は、モバイル機器から遠隔の物体までの距離を測定すること、または遠隔の物体のサイズを測定することに関する。
（もっと読む）

【課題】高精度な人物認識および人物追跡により精度よく人数をカウントできる。
【解決手段】画素ごとに、カメラから測定対象までの距離を計測する計測部１０６と、測定対象が接地する平面に画素を写像した場合の画素位置と距離とを関連付けた距離情報と、画素位置において平面に対して垂直な高さ方向の距離を示す距離情報とを含む３次元データを画素ごとに格納する格納部１０７と、３次元データから、閾値以内となる距離情報を含む３次元データのみ抽出してクラスタリングし、人候補領域をサンプリングフレームごとに得るクラスタリング部１１５と、サンプリングフレームごとに得られた複数の人候補領域間の相関値に基づいて同一の人候補領域を判定し、同一の人候補領域の移動軌跡を追跡する追跡部１１７と、人候補領域が予め人候補領域より大きく設定した画素領域を通過した場合に、その通過数を通過人数としてカウントするカウント部１１８と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】ノイズ耐性が大きく、比較的短時間で位相つなぎを実行できる２次元位相データの位相つなぎ方法および、これを用いた干渉測定装置を提供する。
【解決手段】本発明は２次元の位相分布を表す位相データに含まれる位相ジャンプを補正するための位相つなぎ方法であって、ある測定点および該測定点の周囲にある複数の測定点を用いて局所的な近似面を生成する手法を用いて、各測定点に関連した複数の近似面を構築するステップ（ｓ２〜ｓ４）と、隣接する近似面の間に位相ジャンプがある場合、一方の近似面に対して位相２πを加算または減算することによって近似面の位相つなぎを行い、参照近似面を生成するステップ（ｓ５）と、参照近似面と該参照近似面の生成に使用した測定点との間に位相ジャンプがある場合、この測定点に対して位相２πを加算または減算することによって測定点の位相つなぎを行うステップ（ｓ６〜ｓ９）等を含む。 （もっと読む）

【課題】画像測定装置のための入射角高速可変照射装置を提供する。
【解決手段】画像測定装置のための入射角高速可変照射装置は、ビームを第１光路部に沿うように方向付ける光源と、ビームを受けるとともにビームを第２光路部に沿うように指向させるビーム指向構成と、それぞれの入射角度をなして構成された複数の表面部を含み、ビームを受けるとともにビームを第３光路部に沿うように視野に偏向させるビーム偏向構成とを含む。ビーム指向構成は、ビーム偏向構成へ向かうビームに狭いまたは広い発散のいずれかを提供する異なるビーム指向表面部を含む。照射装置は、照射の入射角度の高速調整だけでなく、角度前後の角度の範囲（狭いまたは広い）の高速調整をも可能にする。照射装置は、高輝度遠隔光源により提供される光とともに用いるために特に好適である。 （もっと読む）