【課題】 受光器や受光器が出力する信号を処理する回路の数の増加をせずに、２次反射による反射光の影響を除外することができる３次元形状測定装置を提供すること。
【解決手段】 異なった照射角度で２回の測定が行われ、そのときの反射光は同一の受光器に受光される。１回目の測定により求められた第一形状データに属する座標値が対象座標値とされ、２回目の測定により求められた第二形状データに属する座標値が比較座標値とされる。全ての対象座標値のそれぞれについて、その対象座標値により表される点を中心とした所定空間範囲内に存在する座標点を表す比較座標値の数Ｃがカウントされる。ＣがＭ以下であれば、その対象座標値が除外される。除外されなかった対象座標値が正規の座標値として抽出される。抽出された座標値を用いて精度の良好な３次元画像が生成される。 （もっと読む）

【課題】白色干渉を用いた被測定物の表面高さの測定において、短時間で測定光束の焦点位置を調節可能な寸法測定装置を提供する。
【解決手段】寸法測定装置１は、白色光源２と、白色光源２から放射された光を、被測定物の表面高さに応じた光路長を有する測定光束と参照光束とに分割する光線分割素子３と、光線分割素子３から出射された参照光束の光路長を変化させる参照光走査光学系５と、測定光束内に配置された焦点可変レンズ４１と、測定光束の光路長と参照光束の光路長が略等しい場合に生じる干渉信号を検出し、その干渉信号に対応する信号を出力する検出器６と、参照光束の光路長と測定光束の光路長が等しいときに測定光束が反射される位置において測定光束が焦点を結ぶように、焦点可変レンズ４１の焦点距離を調節し、かつ干渉信号の最大値に対応する参照光束の光路長を求めることにより、被測定物の表面高さを求めるコントローラ７とを有する。 （もっと読む）

【課題】目標領域におけるレーザ光の走査制御を簡易かつ高精度に行い得るビーム照射装置を提供する。
【解決手段】ミラー１１３が中立位置にあるときに、サーボ光が透明体２００の入射面と出射面に垂直に入射するよう、半導体レーザ３０３と透明体２００を配置する。これにより、サーボ光の走査軌跡が直線に近くなる。サーボ光の走査軌跡間の間隔を広げるには、透明体２００をミラー１１３に平行に配置すると良い。こうすると、ＰＳＤ３０８による照射位置検出の分解能を高めることができ、検出信号の品質を高めることができる。 （もっと読む）

【課題】 検者が所望する部分を高感度で観察できる。
【解決手段】 被検物に照射された測定光と参照光との干渉光によるスペクトル情報を検出するために配置された干渉光学系であって、光路長を変化させるために配置された駆動部と、を有する干渉光学系と、表示手段と、スペクトル情報をフーリエ解析して断層画像を取得し，表示手段に断層画像を表示する制御手段と、を備える光断層像撮影装置において、制御手段は、光路長が一致する深度位置より奥に被検物の表面が位置されるように駆動部の駆動を制御して被検物の断層像の正像を取得し、前記深度位置より手前に被検物の表面が位置されるように駆動部の駆動を制御して被検物の断層像の逆像を取得し、正像及び逆像に対応する分散補正処理，及び正像と逆像の両画像に対する画像合成処理，の少なくともいずれかを行い、処理後の画像を表示手段の画面上に表示する。 （もっと読む）

【課題】機械的な動作を低減することによって測定に要する時間を短縮し、且つモーションアーチファクトを抑制できる干渉測定装置を提供する。
【解決手段】干渉測定装置１は、複数の波長成分を含む光Ｐを出力する光源１１と、第１分岐光Ｐ_１が被測定物９により反射されて生じる第１反射光Ｒ_１と第２分岐光Ｐ_２が反射ミラー７３により反射されて生じる第２反射光Ｒ_２とを干渉させて当該干渉光ＲＩを出力する干渉光学系と、第１分岐光Ｐ_１の光路上に設けられた第１レンズ２１と、第２分岐光Ｐ_２の光路上に設けられた第２レンズ２２と、干渉光ＲＩの干渉パターンを撮像する撮像部５１とを備える。第１レンズ２１による各波長成分の焦点位置は第１レンズ２１の軸上色収差に起因して第１分岐光Ｐ_１の光軸方向に並んでおり、各波長成分毎に異なる光軸方向位置における干渉パターンを撮像部５１において撮像する。 （もっと読む）

【課題】位置検出信号に対するレーザ光（外乱光）の影響を抑制し、位置検出信号の精度を高めることができるビーム照射装置を提供する。
【解決手段】ＰＳＤ３０８からの出力信号に基づいてサーボ光の受光位置に応じた信号を生成するＰＳＤ信号処理回路３を備える。ＰＳＤ信号処理回路３は、目標領域に照射されるレーザ光の一部がＰＳＤ３０８に入射することにより生じる外乱信号をＰＳＤ３０８からの出力信号から除去する信号除去回路１５、１６、１７、１８を有する。 （もっと読む）

【課題】従来、分光器を用いて断層を計測する手法においては、離散フーリエ変換を用いていたため、断層の値は離散的な値しか表現できなかった。そのため、断層の計測精度の向上が求められていた。
【解決手段】本発明に係る断層像計測方法は、波数スペクトルから、層厚の光学距離に対応した情報を計算する第１の工程と、前記光学距離に対応した情報から、各層の情報を分離して抽出する第２の工程と、各層の情報をそれぞれ再度波数スペクトルに変換する第３の工程と、第３の工程の結果から干渉波数を求める第４の工程と、干渉波数と各層の光学距離とから干渉次数を算出する第５の工程と、干渉次数が整数であることを利用して各層の光学距離を計算する第６の工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】 光学部材の変動に影響されずに被検面の面位置を高精度に検出する。
【解決手段】 第１パターンからの第１測定光および第２パターンからの第２測定光を被検面（Ｗａ）へ導いて第１パターンの中間像および第２パターンの中間像を投射する送光光学系（４〜９）と、被検面によって反射された第１測定光および第２測定光を第１観測面（２３ａ）および第２観測面（２３ａ）へ導いて第１パターンの観測像および第２パターンの観測像を形成する受光光学系（２９〜２４）と、第１パターンの観測像および第２パターンの観測像の各位置情報を検出し、各位置情報に基づいて被検面の面位置を算出する検出部（２３〜２１，ＰＲ）とを備えている。送光光学系は、第１測定光の被検面への入射面に沿った第１パターンの中間像の投射倍率と、第２測定光の被検面への入射面に沿った第２パターンの中間像の投射倍率とを異ならせる。 （もっと読む）

【課題】 光学部材の変動の影響を抑制して被検面の面位置を高精度に検出する。
【解決手段】 面位置検出装置は、第１パターンからの第１の光と第２パターンからの第２の光とを被検面（Ｗａ）へ入射させて、被検面に対して第１パターンの中間像および第２パターンの中間像を投射する送光光学系（４〜１０）と、被検面で反射された第１の光および第２の光をそれぞれ第１観測面（２３Ａａ）および第２観測面（２３Ｂａ）へ導いて、第１パターンの観測像および第２パターンの観測像を形成する受光光学系（３０〜２４）と、第１観測面および第２観測面における第１パターンの観測像および第２パターンの観測像の各位置情報を検出し、各位置情報に基づいて被検面の面位置を算出する検出部（２３〜２１，ＰＲ）とを備えている。送光光学系は、例えば第２パターンの中間像を第１パターンの中間像に対して所定方向に反転された像として投射する。 （もっと読む）

【課題】誤検出を低減して欠陥検出の精度を高め、しかも検査時間の短縮とコスト低減とを同時に図る。
【解決手段】照明光学系は、光を焦点面上に集光して被検査物１００に照射するとともに前記焦点面上の集光点を走査させる。光分割部２０は、被検査物１００から得られる光を分割する。第１の光検出部２１Ａは、集光レンズ３１Ａ、光制限部３２Ａ及び光検出器３３Ａを有し、分割後の一方の光を検出する。第２の光検出部２１Ｂは、集光レンズ３１Ｂ、光制限部３２Ｂ及び光検出器３３Ｂを有し、分割後の他方の光を検出する。光制限部３２Ａと共役な平面と光制限部３２Ｂと共役な平面とは、前記焦点面の付近において、互いに光軸方向にずれている。 （もっと読む）

【課題】ＳＤ−ＯＣＴ方式において、測定範囲を確保し、かつ低コストで高分解能化を可能とする。
【解決手段】低コヒーレンス光を射出する光源と、前記光源から射出された光を測定光と参照光とに分割する光分割手段と、前記測定対象からの測定光の反射光と前記参照光とを合波する合波手段と、前記合波された前記反射光と前記参照光との干渉光の方向を時間に応じて変化させる光線偏向手段と、前記偏向された干渉光を分光する複数の異なる波長帯域を有する分光手段と、前記分光された干渉光を検出する干渉光検出手段と、前記検出された干渉光に基づいて前記測定対象の断層画像を取得する画像取得手段とを備え、前記光線偏向手段により前記干渉光の方向を時間に応じて変化させ、前記分光手段が前記干渉光を分光する波長帯域が時間に応じて変化するようにした。 （もっと読む）

【課題】波面測定方法および装置において、被測定面および参照面の相対移動の位置決め精度による測定誤差を低減して、波面測定の測定精度を向上することができるようにする。
【解決手段】被測定面および参照面の光軸方向の相対位置を測定基準位置が含まれる範囲で、一定の位相増分よりも細かいピッチで変化するように移動させて、相対位置の情報とｎ個の干渉縞画像の候補となるｍ個（ｍはｎより大きい整数）の候補画像とを取得する候補画像取得工程（ステップＳ１）と、ｍ個の候補画像のうちから解析候補画像群として、一定の位相増分を有すると見なすことができるｎ個の候補画像の組を複数選出する解析候補画像群選出工程（ステップＳ２〜Ｓ４）と、各組の解析候補画像群に応じた波面を算出する波面算出工程（ステップＳ５）と、各解析候補画像群の取得位置の位置ずれ量が最小となる波面を選択する波面選択工程（ステップＳ６）とを備える波面測定方法とする。 （もっと読む）

【課題】測定効率が向上した変位検出装置を提供する。
【解決手段】測定対象物Ｗの変位前後のスペックル像の相関から、測定対象物Ｗの変位量を検出する変位検出装置において、測定対象物Ｗの表面Ｓの光散乱を増加させる光散乱改善手段１２０と、測定対象物Ｗに光を照射する光照射手段１１０と、測定対象物Ｗの表面Ｓの一部を撮像した基準画像Ｄを取得する基準画像取得手段（基準画像取得プログラム）１７３ａと、基準画像Ｄから光散乱強度に関する所定の評価値を算出する算出手段（算出プログラム）１７３ｂと、所定の評価値が予め設定された合格判定条件を満たすか否かを判別する判別手段（判別プログラム）１７３ｃと、所定の評価値が合格判定条件を満たしていないと判別された場合、光散乱改善手段１２０を制御して、測定対象物Ｗの表面Ｓの光散乱を増加させる制御手段１７０Ａと、を備える。 （もっと読む）

【課題】到来する航空機等の対象物を適当な停止点まで正確且つ能率的に追跡する。
【解決手段】到来する対象物(12)を追跡するシステムは、光パルスを発生する手段(20)と、そのパルスを外方に、到来する対象物に投射し、その対象物からそのパルスを反射させる手段(21,22,24,25)と、その対象物から反射した光パルスを収集する手段(20)と、システムを較正すべく、投射光パルスを既知の角度方向にかつ既知の距離に配置された較正要素に指向させる手段(26)と、所定点から延びる仮想軸線に対する位置を検出し、その対象物とその所定点の間の距離を検出して、その対象物の位置の追跡を可能とする手段(62)と、を有し、レーザ走査に関する情報を反映し既知の形状を表わす輪郭テーブルと比較される比較テーブルを生成し、各反射パルスについて対象物のノーズから測定装置までの距離の分布を記録する距離分布テーブルを生成し、予定停止位置までの平均距離を計算する。 （もっと読む）

【課題】0.9〜1.2μｍの中心波長の光を発光する、高出力化可能な光半導体素子を得る。
【解決手段】 GaAs基板1と、該GaAs基板1の上方に設けられた、InGaAsからなる２層以上の量子井戸層を有する多重量子井戸構造5とを備えてなる、発光ストライプ幅が４μｍ以下の光半導体素子において、レーザ発振を抑制するレーザ発振抑制機構を有し、多重量子井戸構造5に、少なくとも、1.05μｍ以上の第１の中心波長の光を発光する量子井戸層5a₁と、第１の中心波長とは異なる第２の中心波長の光を発光する量子井戸層5a₂と、該量子井戸層間に設けられた、30ｎｍ以上、50ｎｍ以下の厚みの、GaAs基板に格子整合する組成の障壁層5bとを備える構成とする。 （もっと読む）

【課題】保護領域の設定等、光走査型光電スイッチの種々の設定が簡便に行える光走査型光電スイッチを提供する。
【解決手段】接続される機器の動作許可／動作不許可を示す安全信号を出力する光走査型光電スイッチに関する。光走査型光電スイッチの安全機能の状態および故障状態の情報の内の少なくとも１つの情報を表示する表示画面を有する表示部３８ａと、前記表示部３８ａの近傍に設けられ、表示部３８ａの表示内容を安全信号、判別結果、光走査型光電スイッチの設定内容、光走査型光電スイッチの安全機能の状態および故障状態の情報の内の１つの情報から他の前記情報に変更するための操作部３９とを備えている。 （もっと読む）

【課題】
欠陥を搬送中に早期に検知し、不良フイルムの流出を防ぐフイルム欠陥検査装置及びフイルム欠陥検査方法を提供すること。
【解決手段】
フイルム１２に幅方向への張力を負荷する張力付加機構１３を設け、フイルム１２に生じるツレシワの有無を検知するツレシワ検出部１４と、フイルムの欠陥を検知する測定部１５とを設け、測定部１５はツレシワ検出部１４よりもフイルム１２の搬送方向の下流側に位置し、ツレシワ検出部１４によりツレシワが無いと検知されたフイルム１２の欠陥を測定部１５により検知する。 （もっと読む）

【課題】光源の長いコヒーレンス長を実現できる、ＴＥＦＤ‐ＯＣＴ画像化に用いる周波数掃引レーザ光源を提供する。
【解決手段】ＴＥＦＤ‐ＯＣＴ画像化に用いる周波数掃引レーザ光源は、レーザ光源を備える光学ベンチ上に一体型クロックサブシステムを含む。クロックサブシステムは、光信号が走査帯域にわたって同調されると、周波数クロック信号を生成する。レーザ光源はさらに、光キャビティ内の可変同調フィルタと利得媒質との間にキャビティ拡張器を含み、レーザ強度パターン雑音の位置を制御するために、可変同調フィルタと利得媒質の間の光学的距離を増加させる。レーザはまた、キャビティ長の制御を可能にする一方でキャビティ内の複屈折を制御する、ファイバスタブを含む。 （もっと読む）

【課題】透明に近い細胞などの生体材料を非染色状態で試料とし、コントラストの低い試料を可視化する顕微鏡などの観察装置に最適な三次元画像取得装置およびその方法とこれを利用した加工装置の提供。
【解決手段】試料空間内の計測点に集光する光束を照射し、透過光量を計測する。透過光信号と参照信号から微弱な光吸収量を測定する。三次元走査しながら光吸収量を立体画素とする三次元マップを得る。この三次元マップに、計測点付近の光強度分布像をコンボリューション・カーネルとするデコンボリューション処理を行ない、非染色状態で透明に近い試料の三次元画像を得る。 （もっと読む）

【課題】ＣＣＤ本来の感度を得る事と、積分等の歪の無い生波形の後処理ができる事と、その例として測定対象物の角（エッジ）部分においても正確な距離情報を取得することができる３次元形状測定装置を提供すること。
【解決手段】本発明に係る３次元形状測定装置は、マッピングデータの処理を用いることにより、デジタル最高値を中心にして、デジタル最高値を示すＣＣＤから徐々に離れた位置に配設されているＣＣＤのデジタル値がこのデジタル最高値よりも徐々に低い値を示すという分布状態を把握することができ、これにより正確に測定対象物の表面に反射したレーザ光が本来収束すべきＣＣＤを特定する。アナログ回路が減る、部品点数が減る、発熱が減る、消費電力が減る、エコである。 （もっと読む）