【課題】検出領域の周りに発光素子や受光素子を多数配置した構成や専用の入力部材を用いなくても、対象物体の位置を検出することのできる位置検出機能付き投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】位置検出機能付き投射型表示装置１００においては、画像投射装置２００に設けた位置検出用光源部１１の発光素子１２から位置検出光Ｌ２を出射し、対象物体で反射した位置検出光Ｌ３を光検出器３０で受光することにより、対象物体の座標を検出する。その際、共通の発光素子１２から出射された位置検出光Ｌ２の強度分布を強度分布変換装置１６によって変換し、各方向で強度が変化する強度分布を順次形成する。 （もっと読む）

【課題】オートコリメータを使用したレンズの偏心測定精度を改善する。
【解決手段】オートコリメータ１００を用い、かつ光軸を有する光学素子１を回転させて上記光学素子における上記光軸と回転軸との偏心を調整する偏心調整方法であって、光源１３０が発する光束から回折光学素子１１２によりそれぞれ異なる次数の回折光１３１，１３２を上記光学素子の光学作用面１ａ及びフランジ面１ｃに照射し、受光部１２０で検出された検出結果から、上記光学作用面における光軸と上記光学素子の上記回転軸とが一致するように上記光学素子を位置決めする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、フォトマスクの特性を検出することができるフォトマスクの特性検出装置およびフォトマスクの特性検出方法を提供する。
【解決手段】被検出体に形成されたパターンの光学像に基づいて検出データを作成する検出データ作成部と、前記パターンに関する参照データを作成する参照データ作成部と、特性の検出対象となるパターンに対応する参照パターンと、前記参照パターンの位置情報と、を前記参照データから抽出する抽出部と、前記参照パターンに基づいて特性を検出する領域を設定するとともに、前記位置情報に基づいて前記検出データから前記特性の検出対象となるパターンを抽出する第１の領域設定部と、前記特性を検出する領域における前記特性の検出対象となるパターンの特性を受光面上に結像された光学像を光電変換することで検出する検出部と、前記検出された特性を集計する集計部と、を備えたことを特徴とするフォトマスクの特性検出装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】複数の測定用端子の位置を測定する時間と誤差を低減する。
【解決手段】頭部２５に接触または近接させた複数のプローブ１３の検出信号に基づいて頭部の血流変化を測定し、かつプローブ９，１３の位置を測定する測定装置１は、プローブ９，１３の周囲で所定の位置関係に配置された複数の位置マークを有するターゲットと、ターゲットを少なくとも異なる２方向から撮影する撮影部２２，２３と、撮影画像内で検出した複数の位置マークを、所定の位置関係を利用してプローブごとのグループに分類し、複数の位置マークの三次元座標を計測する三次元座標計測部と、三次元座標計測部で計測した複数の位置マークが含まれる仮想平面をプローブごとに求め、仮想平面に法線を想定し、プローブ９，１３の位置Ｐ１，Ｐ２を法線方向に移動させることによって、プローブ９，１３の頭部２５表面からの浮き度合いを補正するフロートオフセット補正部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 原液中のフロックの凝集状態を撮影して、凝集剤の添加量及び凝集剤撹拌機の回転数を調整する汚泥処理装置及び汚泥処理方法を提供する。
【解決手段】 凝集フロックを撮像する撮像部１１と、凝集フロックの画像の輝度信号を電気信号に変換し、電気信号から画像を２値化し、２値画像を生成する変換部１２と、２値画像に表示された凝集フロック面積を算出する算出部１３と、凝集フロック測定面積と凝集フロック基準面積とを比較する比較部１４と、比較結果に応じて、凝集剤供給ポンプ２９及び凝集剤撹拌機２１の回転数を制御する制御部１５と、比較結果に応じて、警報を発する出力部１６とを備え、算出部１３は、予め同一の凝集剤添加率において複数回分の凝集フロック面積を算出し、複数回分の凝集フロック面積の平均値である凝集フロック平均面積を算出し、凝集フロック平均面積に基づいて凝集フロック基準面積を算出する。 （もっと読む）

【課題】マクロ検査ツールの適用性を広げ、高スループットで半導体ウェハからより詳細な検査情報を得る。
【解決手段】ウェハ検査方法は、ウェハ上に繰り返し配列されている個々の微細構造を解像するには不十分な結像解像度でウェハの全表面を結像させるステップを含む。本発明によれば、微細構造のフィーチャの特性は、微細構造を結像において直接解像することができないとしても、被選択検出信号群からの１若しくは複数の値の計算によって決定される。このようにして、記録される画像にマスク（１０９）が施され、画像の非マスク部分（１１１）は平均化によってさらに処理される。非マスク部分（１１１）は、ウェハのメモリ部分を含むように選択される。フィーチャ特性は、線幅、側壁の角度、微小寸法（ＣＤ）などを含むことができる。互いに異なる照明波長または偏光状態で撮影した複数の画像を組み合わせることもできる。 （もっと読む）

【課題】パターンマッチングにより位置認識を行う際、サーチエリアのサイズを小さくしても、認識エラーが発生する危険性を極めて低くできるようにする。
【解決手段】パターンマッチング処理手段１０２は、カメラによって撮像された画像上のサーチエリア内において、テンプレートとの相関値が最も高くなる第１のエリアの位置を求める。判別手段１０２は、テンプレートに最も類似した本来の認識すべきエリアである第２のエリアが、サーチエリアからはみ出しているか否かを判別する。サーチエリア変更手段１０４は、第２のエリアがサーチエリアからはみ出していると判別された場合、第１のエリアの相関値を利用して第２のエリアのはみ出し量を推測し、推測したはみ出し量に応じて上記画像上に設定するサーチエリアのサイズおよび位置を変更する。 （もっと読む）

【課題】半導体デバイスの微細化に対して、プロセスマージンが狭小な場合でも半導体パターンの形状計測を高精度で行うことができるパターン形状計測方法を提供する。
【解決手段】パターン形状計測方法において、ベストマッチとなる計算波形が選出不可能な場合は、形状パラメータの内、少なくとも１つのパラメータを、パターン形状計測に依らない計測方法を用いる他計測装置にて得られた情報に基づいて固定値とし、再度、ライブラリと検出波形のマッチングを行い、ベストマッチとなる計算波形を選出するステップと、ベストマッチした計算波形より対象パターンの形状情報を求める。 （もっと読む）

【課題】多数の空間領域を面状に演算処理する場合に、高いフレームレートでも演算量が膨大にならず、撮像範囲における人物動作の方向と距離の変化量を高精度に検出する。
【解決手段】ＴＯＦ式距離画像センサ３１からの距離情報に基づいて人物の動作情報を検出する高速人物動作検知制御手段４は、ＴＯＦ式距離画像センサ３１からの距離情報に基づいて時系列に複数の距離フレームを生成する距離フレーム生成部４３１と、少なくとも２つの距離フレームに基づいて、人物に距離変化のない距離情報である距離平衡フレーム（背景画像フレーム）を生成する距離平衡フレーム生成部４３２と、複数の距離フレームについてそれぞれ距離平衡フレームとのフレーム差分を演算し、フレーム差分から人物の動作情報として人物の距離の変化量と変化方向を算出するフレーム差分演算部４６とを有している。 （もっと読む）

【課題】種々の形状の検出対象物に対してもそれぞれ高速で且つ精度良く対象物の３次元形状を検出できるようにした、形状検出装置及びこれを用いたロボットシステムを提供する。
【解決手段】ランダムに配置された複数の検出対象物を収納したストッカと、ストッカ内の複数の検出対象物の画像及び距離を取得する距離画像センサと、距離画像センサの検出結果と設定されたアルゴリズムとに基づいてストッカ内の検出対象物のそれぞれの位置及び姿勢を検出するセンサコントローラと、センサコントローラが使用するアルゴリズムを選択し、センサコントローラのアルゴリズムの設定を行なうユーザコントローラとを有して構成する。 （もっと読む）

マイクロリソグラフィ投影露光装置は、光学面（４６；Ｍ６）と、光学面上の複数の別々の区域において光学面に関連するパラメータを測定する測定デバイス（９０）とを含む。測定デバイスは、個々の測定光ビーム（９４）を光学面上の区域に向けて誘導する照明ユニット（９２）を含む。各測定光ビームは、区域のうちの測定光ビームに関連付けられた少なくとも一部分と、隣接区域のうちの測定光ビームに関連付けられていない少なくとも一部分とを照明する。検出器ユニット（９６）は、各測定光ビームが光学面と相互作用した後に各測定光ビームに関する特性を測定する。評価ユニット（１０２）は、選択された区域に関連付けられた測定光ビームと、選択された区域に隣接する区域に関連付けられた少なくとも１つの測定光ビームとに対して検出器ユニット（９６）によって判断された特性に基づいて選択された区域に関する面関連パラメータを判断する。 （もっと読む）

【課題】基板上に成膜された薄膜の厚さを精度良く測定可能な膜厚測定装置及び膜厚測定方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板２上に成膜されて且つレーザ加工装置１から照射される加工用レーザによってスクライブ溝Ｇｖが形成される薄膜の厚さを測定する膜厚測定装置６であって、レーザ加工装置１から薄膜に照射された加工用レーザのガラス基板２平面内における照射位置が格納された照射位置情報に基づいて、検査対象薄膜３ａに形成されたスクライブ溝Ｇｖの位置を特定する。そして、特定した位置に形成されているスクライブ溝Ｇｖの深さを測定し、その測定値に基づいて検査対象薄膜３ａの厚さを取得する。 （もっと読む）

【課題】赤外光を用いた場合であっても、測定用マークの位置を高精度に測定することができる技術を提供する。
【解決手段】赤外光を測定マークに照射し、測定用マークの像を撮像素子の撮像面に形成する光学系を用いて、測定用マークの位置を測定する測定方法であって、前記光学系によって赤外光を前記測定用マークに予め定められた時間照射した後、赤外光の照射を遮断した状態において、前記光学系の光学素子から放射される赤外光による画像を撮像する第１の撮像ステップと、赤外光を照射した状態において、前記光学系の光学素子及び前記測定用マークで反射された赤外光にる画像を撮像する第２の撮像ステップと、前記第２の撮像ステップで撮像した第２の画像から前記第１の撮像ステップで撮像した第１の画像を差し引いた第３の画像を生成する生成ステップと、第３の画像に基づいて、前記測定用マークの位置を算出する算出ステップと、を有する。 （もっと読む）

【課題】 粗微動ステージにおいて、微動ステージの位置を高精度に計測する。
【解決手段】 粗動ステージＷＣＳに保持された微動ステージＷＦＳのＸＹ平面内での位置情報の計測には、微動ステージのＸＹ平面に実質的に平行な一面に配置されたグレーティングＲＧに対向して配置され、該グレーティングに計測ビームを照射するヘッドを含むエンコーダシステムが用いられる。そして、微動ステージは、駆動系によって、エンコーダシステムで計測された位置情報に基づいて、単独で、若しくは粗動ステージと一体で駆動される。この場合、エンコーダシステムのヘッドを微動ステージ（グレーティング）に近接して配置することができ、これにより、エンコーダシステムによる微動ステージの位置情報の高精度な計測が可能になる。 （もっと読む）

【課題】移動体を精度良く駆動する。
【解決手段】 駆動系により、アーム部材７１から移動体ＷＦＳのＸＹ平面に平行な一面に配置されたグレーティングＲＧに対して計測ビームを照射して移動体のＸＹ平面内の位置を計測する第１計測系の計測結果と、レーザ干渉計を用いてアーム部材７１の変動を計測する第２計測系の計測結果と、に基づいて移動体が駆動される。この場合、駆動系は、第１計測系の計測結果に含まれるアーム部材の変動に起因する計測誤差を、第２計測系の計測結果を用いて補正する。 （もっと読む）

【課題】パレット上に配置された複数のワークのうち、作業者が必要とするワークを指示することのできるワーク指示装置を提供する。
【解決手段】加工後の形状寸法の異なる複数の板状のワークＷ１〜Ｗ３を撮像する撮像手段３と、撮像した各ワークの形状寸法及び配置位置を演算する画像処理演算手段１９と、演算したワークの形状寸法と配置位置とを関連付けて格納する記憶手段２１と、ワークの形状寸法、製造番号、次工程の工程内容、次工程の期限、納期を予め関連付けて格納したデータベース２３と、入力手段１５によって入力されたワーク情報に基づいてデータベース２３を検索する第１の検索手段２５と、検索されたワークの形状寸法データと同一データを記憶手段２１から検索する第２の検索手段２７と、第２の検索手段２７によって検索されたワークの形状寸法に対応した配置位置データに基づいて、該当するワークを指示するワーク指示手段２９とを備えている。 （もっと読む）

【課題】焼結機の原料装入層の幅方向全体に渡って層厚を測定でき、これにより装入全体の状態を把握して高生産率で焼結鉱を製造できる、焼結原料の装入状態測定装置および焼結鉱の製造方法を提供すること。
【解決手段】焼結機パレット上に装入された焼結原料を焼結して焼結鉱を製造するドワイトライト式焼結機において、焼結機パレット上に装入された焼結原料からなる原料装入層３５の層厚を測定するために用いる装置であって、焼結パレット上部の所定の高さ位置に固定されたレーザー距離計３０と、該レーザー距離計を焼結機幅方向の断面内で回転させる回転機構とを有し、回転によりレーザー距離計３０で原料装入層３５の表面を走査することで、該原料装入層の層厚を焼結機幅方向に連続的に測定する焼結原料の装入状態測定装置を用いる。複数のレーザー距離計３０が、焼結パレット幅方向に所定の間隔で配置され、同調して回転させることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】測定対象となる非球面体が鍔状の平面部を有していない場合でも、面ずれおよび面倒れを高精度に測定できるようにする。
【解決手段】第１干渉計１Ａと第２干渉計１Ｂとを用いた光干渉計測により、非球面レンズ９の第１レンズ面９１および第２レンズ面９２の各中心部の形状データを求め、各々の形状データから、第１レンズ面９１の第１臍点Ｐ_１、第１曲率中心および第１軸線の各位置データを第１測定座標系において求めるとともに、第２レンズ面９２の第２臍点Ｐ_２、第２曲率中心および第２軸線の各位置データを第２測定座標系において求める。これらの各位置データと、第１測定座標系および第２測定座標系の相対位置関係とに基づき、非球面レンズ９の面ずれおよび面倒れを求める。 （もっと読む）

【課題】高精度のアライメント処理を可能とするための信号波形補正方法を提供する。
【解決手段】本発明の信号波形補正方法は、被観察面を観察して得られる信号波形を補正する信号波形補正方法であって、照明強度を変えながら複数の参照信号を作成する参照信号作成工程と、前記複数の参照信号を用いて前記信号波形の補正式を作成する補正式作成工程と、前記補正式を用いて前記信号波形を補正する信号補正工程とを有し、前記補正式は、前記被観察面を照射する光の照射時間に応じて異なる。 （もっと読む）

【課題】回折を用いる場合に所望の次数の回折光の全ての波長を検出に利用できるようにする。
【解決手段】反射光のうちワーク１表面付近で焦点を結んだ光以外の光の通過を規制する光ファイバ１２１と、光ファイバ１２１を通過した反射光を同一平面内に広がる回折光に分岐させる回折光学素子１２２と、回折光に含まれる１次回折光と高次回折光とのうちで１次回折光のみを検出する１次回折光検出手段１３０とを有する高さ検出手段１２０を備え、１次回折光検出手段１３０は、回折光を集光する回折光集光レンズ１３１と、集光される回折光を、同一平面外の方向へ波長毎に異なった角度で屈折させる波長分散フィルタ１３２と、１次回折光が集光される箇所にのみ検出部を有し、１次回折光のみの波長毎の光強度を検出する波長検出センサ１３３と、色収差レンズ１０２によって集光される白色光の各波長の焦点距離を記憶した制御マップを格納するメモリ１３４とを含む。 （もっと読む）