【課題】サファイアや石英等の可視光に対して透過性を有する材料で形成されたワークであっても、ワークの上面高さ位置を確実に精度高く検出できるようにする。
【解決手段】ワークＷに照射された環状のスポット形状を有するレーザビームは、ワークＷの上面および下面で反射するが、ワークＷの下面で反射した環状のスポット形状の反射光はピンホールマスク４５によって遮断し、ピンホールマスク４５を通過したワークＷの上面で反射した環状スポット形状の反射光に基づいて受光強度を検出するので、ワークＷが可視光に対して透過性を有する場合であってもその上面高さ位置を検出できる。この際、ワークＷの上面で反射した環状スポット形状の反射光に関してレーザビーム拡散手段４６で拡散された強度を所定面積の検出面４７ａを有する検出手段４７で検出することで、環状スポット形状にバラツキがあっても、ワークＷの上面高さ位置を確実に精度高く検出できる。 （もっと読む）

【課題】白色干渉を用いた被測定物の表面高さの測定において、短時間で測定光束の焦点位置を調節可能な寸法測定装置を提供する。
【解決手段】寸法測定装置１は、白色光源２と、白色光源２から放射された光を、被測定物の表面高さに応じた光路長を有する測定光束と参照光束とに分割する光線分割素子３と、光線分割素子３から出射された参照光束の光路長を変化させる参照光走査光学系５と、測定光束内に配置された焦点可変レンズ４１と、測定光束の光路長と参照光束の光路長が略等しい場合に生じる干渉信号を検出し、その干渉信号に対応する信号を出力する検出器６と、参照光束の光路長と測定光束の光路長が等しいときに測定光束が反射される位置において測定光束が焦点を結ぶように、焦点可変レンズ４１の焦点距離を調節し、かつ干渉信号の最大値に対応する参照光束の光路長を求めることにより、被測定物の表面高さを求めるコントローラ７とを有する。 （もっと読む）

【課題】反射型検出を高度化する。
【解決手段】表示面１１と、表示面１１内で少なくとも一方向に非連続な出射領域をもつ赤外光Ｌ(IR)を出力する検出光出力部５０と、赤外光Ｌ(IR)が表示面１１から外部に出射され、外部で反射されて表示面１１から入射するときの反射検出光を受光し、当該反射検出光の分布に応じた検出信号を出力する複数の受光素子３６と、を有する。 （もっと読む）

【課題】
安価で高精度の絶対位置の計測装置を提供する。
【解決手段】
計測装置１００は、第一の光線を射出する第一の光源１と、第一の光線より干渉性の低い第二の光線を射出する第二の光源２と、第一の光線に第二の光線を重ね合わせる第一のビームスプリッタ３と、第一のビームスプリッタからの射出光を計測光と参照光とに分岐する第二のビームスプリッタ４と、参照光及び計測光の反射光を合成して干渉信号を検出する干渉計測装置８と、干渉計測装置から出力された信号を処理する信号処理装置２０とを有し、第一の光線及び第二の光線の波長は同一に設定されており、信号処理装置２０は、第二の光源２から得られる干渉信号の強度を計測する信号強度計測部１４−１、１４−２、及び、第二の光源２から得られる干渉信号の強度の最大点を原点と判定する原点判定部１６を有する。 （もっと読む）

【課題】安定度の高いレーザや、高精度に波長を可変できるレーザを使用せず、広いレンジの干渉変位測定装置を実現する。
【解決手段】複数の波長のレーザ光により、各波長で測定される干渉測定値を得て、各波長の組み合わせからレーザ光の波長よりも等価的に長い合成波長で測定レンジを拡大して、干渉計本体から対象物１１０までの距離または変位を干渉測定する際に、複数のレーザ光の波長を、光コム１０４を用いて測定する。ここで、光コムを用いて波長可変レーザ１０１の発振波長を測定してフィードバック制御をかけることにより所定の複数の波長のレーザ光を得たり、波長可変レーザを任意の波長で発振させて、複数の波長での干渉測定値を得て、各干渉測定値を得た際のレーザ光の波長（周波数）を光コムで測定したり、複数のレーザ４１６、４１７を用いて、各レーザから発振されるレーザ光の波長を光コムで測定しながら干渉測定することができる。 （もっと読む）

【課題】周波数応答が高くて安価な撮像素子を利用できるレーザ超音波検査手法、または、分解能が低い安価な撮像素子を利用しても大きな光強度変化から小さな光強度変化まで検出することが可能なレーザ超音波検査手法を提供する。
【解決手段】レーザ超音波検査装置は、レーザ光源２と、レーザ光を照射レーザ光Ｉｉとリファレンス用レーザ光Ｉｒとに分岐させるレーザ光分岐機構３と、照射レーザ光を被検査対象面１に照射するレーザ照射機構３０と、被検査対象面１で反射した照射レーザ光を集光するレーザ集光機構３１と、照射レーザ光とリファレンス用レーザ光とを受光して干渉計測を行なうためのフォトリフラクティブ結晶６と、フォトリフラクティブ結晶６で干渉を受けたレーザ光の波長を変換する波長変換機構１４と、波長が変換されたレーザ光を受光する受光機構１３と、を有する。 （もっと読む）

【課題】光学系の組み立て調整が容易で、かつ、スケール部に異物等が付着した際の光量低下を抑えることが可能な光学式変位測定装置を提供する。
【解決手段】光学式変位測定装置１Ａは、スケール部１１Ａの回折格子１１Ｔで回折された２つの１回回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を再度回折格子１１Ｔに照射する反射光学系１６を備える。反射光学系１６は、直角を３つ合成した頂点を持つ三角錐のプリズムで構成されるマイクロコーナーキューブプリズムが、縦横に並べて配列されるマイクロコーナーキューブプリズム集合ミラー１７ａ，１７ｂを備える。 （もっと読む）

【課題】 検者が所望する部分を高感度で観察できる。
【解決手段】 被検物に照射された測定光と参照光との干渉光によるスペクトル情報を検出するために配置された干渉光学系であって、光路長を変化させるために配置された駆動部と、を有する干渉光学系と、表示手段と、スペクトル情報をフーリエ解析して断層画像を取得し，表示手段に断層画像を表示する制御手段と、を備える光断層像撮影装置において、制御手段は、光路長が一致する深度位置より奥に被検物の表面が位置されるように駆動部の駆動を制御して被検物の断層像の正像を取得し、前記深度位置より手前に被検物の表面が位置されるように駆動部の駆動を制御して被検物の断層像の逆像を取得し、正像及び逆像に対応する分散補正処理，及び正像と逆像の両画像に対する画像合成処理，の少なくともいずれかを行い、処理後の画像を表示手段の画面上に表示する。 （もっと読む）

【課題】装置の小型化を実現しつつ測定精度の良好な斜入射干渉計を提供する。
【解決手段】被測定面Ｓの法線に対して斜め方向から可干渉光を照射して、被測定面Ｓから反射された測定光を参照光と干渉させて被測定面Ｓの形状を測定する斜入射干渉計１において、可干渉光を照射する光源１１と、光源１１からの可干渉光を、偏光方向が互いに直交する測定光と参照光とに分割する光束分割部１４と、光束分割部１４により分割された測定光を折り曲げて被測定面Ｓに対して所定角度で入射させる第１光束折り曲げ部１５と、被測定面Ｓで反射した測定光を折り曲げる第２光束折り曲げ部１６と、第２光束折り曲げ部１６により折り曲げられた測定光と参照光とを合成する光束合成部１７と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 内部円錐などの複雑な表面形状を測定するための干渉方法およびシステムを提供する。
【解決手段】局部球面測定波面（例えば、球面波面および非球面波面）を使用して、円錐表面（および他の複雑表面形状）を干渉法を使用して特性化することが可能である。詳細には、複雑表面形状は、測定点基準に対して測定される。これは、測定波面と基準波面の間に一定の光路長差（例えばゼロＯＰＤ）を生成するべく測定波面を反射する理論試験表面に対応する仮想表面（１５２）の曲率半径を変化させることによって達成される。 （もっと読む）

【課題】装置を大型化することなく測定範囲を拡大できる斜入射干渉計を提供する。
【解決手段】測定対象物Wに対して斜め方向から可干渉光を照射する光源１１と、光源１１からの可干渉光を平行光にする平行光化部１２と、平行光化部１２からの平行光を測定光と参照光とに分割する光束分割部１４と、測定対象物Wで反射された測定光と参照光とを合成する光束合成部１５と、測定対象物Wの表面形状を表す干渉縞を撮像する撮像部１７と、を備えた斜入射干渉計１において、測定対象物Wにおける光の測定範囲を、当該測定範囲の短軸方向に拡大させる測定範囲拡大手段１０を備える。 （もっと読む）

【課題】透明な平行平板の厚みを非接触で高精度に測定し得るようにする。
【解決手段】コンピュータシミュレーションにより、測定用レンズ１と基準球面反射鏡７との間に、厚みが既知の模擬平行平板が配置された状態での模擬透過波面測定を行い、測定用レンズ１および模擬平行平板を透過してなる模擬透過波面の球面収差と模擬平行平板の厚みとの対応関係を求める。測定用レンズ１と基準球面反射鏡７との間に補正板６を配置し、測定用レンズ１および補正板６を透過してなる被検透過波面の球面収差を実際に測定し、その測定値と上記対応関係とに基づき、補正板６の厚みを算定する。 （もっと読む）

【課題】機械的な動作を低減することによって測定に要する時間を短縮し、且つモーションアーチファクトを抑制できる干渉測定装置を提供する。
【解決手段】干渉測定装置１は、複数の波長成分を含む光Ｐを出力する光源１１と、第１分岐光Ｐ_１が被測定物９により反射されて生じる第１反射光Ｒ_１と第２分岐光Ｐ_２が反射ミラー７３により反射されて生じる第２反射光Ｒ_２とを干渉させて当該干渉光ＲＩを出力する干渉光学系と、第１分岐光Ｐ_１の光路上に設けられた第１レンズ２１と、第２分岐光Ｐ_２の光路上に設けられた第２レンズ２２と、干渉光ＲＩの干渉パターンを撮像する撮像部５１とを備える。第１レンズ２１による各波長成分の焦点位置は第１レンズ２１の軸上色収差に起因して第１分岐光Ｐ_１の光軸方向に並んでおり、各波長成分毎に異なる光軸方向位置における干渉パターンを撮像部５１において撮像する。 （もっと読む）

【課題】曲率半径測定方法および装置において、検査効率および測定精度を向上することができるようにする。
【解決手段】曲率半径測定装置５０は、フィゾー面４ａ、被測定面５ａをコンフォーカル状態とキャッツアイ状態の各調整目標位置の間および近傍で光軸Ｃ方向に相対移動させる直動ステージ１６、ピエゾ素子９と、相対移動位置を測定するレーザー測長器１２と、被測定面５ａを光軸Ｃ方向の少なくとも２位置に相対移動させ、干渉縞の画像情報に基づいて波面を測定し、この波面に対応する各相対移動位置の情報とともに記憶させる波面測定部と、波面を解析して位置ずれ評価値を算出する位置ずれ評価値算出部と、相対移動位置と位置ずれ評価値とにより、各調整目標位置の推定値を算出する調整目標位置算出部とを備え、これら調整目標位置の推定値の差から被測定面５ａの曲率半径を求める。 （もっと読む）

【課題】従来、分光器を用いて断層を計測する手法においては、離散フーリエ変換を用いていたため、断層の値は離散的な値しか表現できなかった。そのため、断層の計測精度の向上が求められていた。
【解決手段】本発明に係る断層像計測方法は、波数スペクトルから、層厚の光学距離に対応した情報を計算する第１の工程と、前記光学距離に対応した情報から、各層の情報を分離して抽出する第２の工程と、各層の情報をそれぞれ再度波数スペクトルに変換する第３の工程と、第３の工程の結果から干渉波数を求める第４の工程と、干渉波数と各層の光学距離とから干渉次数を算出する第５の工程と、干渉次数が整数であることを利用して各層の光学距離を計算する第６の工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】干渉縞画像および表面画像のコントラストの向上を図る。
【解決手段】被検レンズ１０の被検面１０Ａに照射する照明光を発する光源１７と、主光路５上に配置され、照明光の一部を反射する参照面１１Ａを有する参照レンズ３７と、光源１７から発せられ、参照面１１Ａにより反射された参照面反射光と、参照面１１Ａを透過して被検レンズ１０の被検面１０Ａにより反射され、参照面反射光に対して可干渉距離以下の光路差を有する被検面反射光とによって得られる画像を取得する撮像素子と、撮像素子により取得された画像を処理する画像処理部４３とを備え、該画像処理部４３が、参照面反射光のみからなる第１の光量分布を記憶する記憶部４２と、参照面反射光と被検面反射光から得られる第２の光量分布から、記憶部４２に記憶されている第１の光量分布を減算する演算部４４とを有する表面検査装置１を提供する。 （もっと読む）

【課題】 光学部材の変動に影響されずに被検面の面位置を高精度に検出する。
【解決手段】 第１パターンからの第１測定光および第２パターンからの第２測定光を被検面（Ｗａ）へ導いて第１パターンの中間像および第２パターンの中間像を投射する送光光学系（４〜９）と、被検面によって反射された第１測定光および第２測定光を第１観測面（２３ａ）および第２観測面（２３ａ）へ導いて第１パターンの観測像および第２パターンの観測像を形成する受光光学系（２９〜２４）と、第１パターンの観測像および第２パターンの観測像の各位置情報を検出し、各位置情報に基づいて被検面の面位置を算出する検出部（２３〜２１，ＰＲ）とを備えている。送光光学系は、第１測定光の被検面への入射面に沿った第１パターンの中間像の投射倍率と、第２測定光の被検面への入射面に沿った第２パターンの中間像の投射倍率とを異ならせる。 （もっと読む）

【課題】 光学部材の変動の影響を抑制して被検面の面位置を高精度に検出する。
【解決手段】 面位置検出装置は、第１パターンからの第１の光と第２パターンからの第２の光とを被検面（Ｗａ）へ入射させて、被検面に対して第１パターンの中間像および第２パターンの中間像を投射する送光光学系（４〜１０）と、被検面で反射された第１の光および第２の光をそれぞれ第１観測面（２３Ａａ）および第２観測面（２３Ｂａ）へ導いて、第１パターンの観測像および第２パターンの観測像を形成する受光光学系（３０〜２４）と、第１観測面および第２観測面における第１パターンの観測像および第２パターンの観測像の各位置情報を検出し、各位置情報に基づいて被検面の面位置を算出する検出部（２３〜２１，ＰＲ）とを備えている。送光光学系は、例えば第２パターンの中間像を第１パターンの中間像に対して所定方向に反転された像として投射する。 （もっと読む）

【課題】平行平面板の被測定面に対して高精度な測定を行うことが可能な干渉測定方法を提供する。
【解決手段】所定の参照面６ａおよび平行平面板５の被測定面５ａに、互いに干渉しない異なる波長を有する２種類の可干渉光を照射する第１のステップと、２種類の可干渉光が照射された参照面６ａおよび被測定面５ａからの反射光に基づいて形成される干渉縞を検出する第２のステップと、検出した干渉縞の光強度分布に基づいて被測定面５ａの高さを測定する第３のステップとを有し、平行平面板５における被測定面５ａと反対側の面５ｂからの反射光の影響を排除するように２種類の可干渉光における波長の関係および、参照面６ａと被測定面５ａとの間の光学距離を調整するようになっている。 （もっと読む）

【課題】フォーカスの精度を良好に維持できる光学式測定装置を提供すること。
【解決手段】投影板にはサイズの異なる複数のパターンＰ１〜Ｐ３が形成され、小さなサイズのパターンＰ１〜Ｐ３ほど投影板を透過する光束の中心軸Ｌ近くに配置されている。そのため、低倍率の時には、光束の中心軸Ｌから離れた位置にある大きなサイズのパターンＰ３が用いられ、高倍率の時には、光束の中心軸Ｌに近接配置される小さなサイズのパターンＰ１が用いられることとなるので、ズーミングに伴うパターンＰ１〜Ｐ３のサイズの変化を抑制でき、フォーカスの精度を良好に維持できる。 （もっと読む）