【課題】試料表面を正確に検出することができるレーザ共焦点顕微鏡及び表面検出方法を提供する。
【解決手段】照明光を射出するレーザ光源２と、試料１１に照明光を照射する対物レンズ１０と、対物レンズ１０の焦点位置と試料１１の間の距離を変化させるステージ１７と、レーザ光源２と対物レンズ１０の間に配置され光を偏光特性で分離する偏光ビームスプリッタ３と、偏光ビームスプリッタ３と対物レンズ１０の間に固定されたλ／４板７と、偏光ビームスプリッタ３と対物レンズ１０の間で挿脱可能なλ／４板８と、焦点位置と光学的に共役な位置に配置された共焦点絞り１３と、共焦点絞り１３を通過した試料１１からの検出光の強度に応じた信号を出力する光検出器１４と、を含んでレーザ共焦点顕微鏡を構成する。多重反射試料を観察する場合にλ／４板８を偏光ビームスプリッタ３と対物レンズ１０の間に挿入して観察する。 （もっと読む）

【課題】検出結果の誤差を低減することが可能な干渉計システム、ステージ装置及び露光装置を提供すること。
【解決手段】移動体の位置情報を検出する干渉計システムであって、光を射出する光源と、光を分光して射出する分光装置と、移動体に設けられ、分光された光を反射させる移動鏡と、移動鏡を介した光を受光する受光装置と、光が分光装置から射出され移動鏡に入射し当該移動鏡で反射された後に分光装置へ向かう所定の光路を形成する第１光学系と、当該光路を進行した光が分光装置に入射せずに当該光路の進行方向とは逆向きに当該光路を進行するように光を導光する第２光学系と、第２光学系を進行する光のうち所定成分を前記受光装置に入射させ、所定成分以外の成分を光路に入射させないように当該光を分光する第２分光装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】光路長シフト法を用いたデジタルホログラフィにおいて、高精度計測を行うことができるデジタルホログラフィ装置を提供する。
【解決手段】本発明に係るデジタルホログラフィ装置は、被写体からの物体光と物体光に対してコヒーレントな参照光とが干渉して形成される干渉パターンを示すデータから、物体光の複素振幅分布を求めるコンピュータ４を備え、コンピュータ４は、上記被写体からの光路長が異なる２つの干渉パターンを示すデータを取得するデータ入力部１０と、上記２つの干渉パターンのデータを用いて、０次回折光の物体光成分を求め、上記０次回折光の物体光成分を用いて物体光の複素振幅分布を求める物体光算出部１１とを備える。そのため、被写体の高精度な再生像を生成することができる。 （もっと読む）

【課題】測定対象の幅方向に対して広範囲で欠陥を検出する。
【解決手段】第１のミラー群１２に入射されたレーザ光の波面は、分割されて反射され、光学フィルム１０の幅方向に配列された状態で光学フィルム１０に照射される。光学フィルム１０に照射されたそれぞれのレーザ光の波面は、光学フィルム１０を介して第２のミラー群１３で反射され、光学フィルム１０を介して、第１のミラー群１２に対して入射される。第１のミラー群１２に入射されたレーザ光は、再び１つの波面が揃い、ウェッジプレート４に入射される。そして、ウェッジプレート４の第１の面Ｓ１で反射されるとともに、第２の面Ｓ２で反射されることにより２つの波面に分割される。２つの波面が干渉することにより、撮像部７において干渉縞が撮像され、撮像された干渉縞の画像データに対して、解析部８による解析が行われる。 （もっと読む）

【課題】円柱体、曲面体、または管状の被測定物の半径、直径の測定を容易に行うことができる測定装置を提供することを課題としている。
【解決手段】円柱体、曲面体、または管状の被測定物の内周面、または外周面に光を照射する照射手段１３と、該照射手段１３により照射された光を円錐状のリング光に形成し投影する投影手段１６，１７と照射されたリング光を撮像する撮像手段５を備え、該撮像手段５の魚眼レンズまたは広角レンズ１０の同軸上前方に該照射手段１３と投影手段１６，１７を配置した構成とし、該撮像手段５により被測定物の測定を行う。 （もっと読む）

【課題】ドリフトをほとんど発生させることなく、動いているターゲットを正確に測定するＡＤＭを提供する。
【解決手段】絶対距離計（ＡＤＭ）は、放出光を放出する光源を含み、スイッチ制御信号に応答して少なくとも２つの位置間で切り換わる少なくとも１つの光スイッチを有するファイバ交換網２００を含み、これらの位置の第１の位置は放出光がファイバ交換網からターゲットの方へ放出され、測定光としてファイバ交換網内へ後方反射される測定モードにし、これらの位置の第２の位置は光ビームがファイバ交換網内の基準光を含む基準モードにする。ＡＤＭは、時間的に間隔を空けて多重化した形で測定および基準光を検出し、測定ビームおよび反射された光ビームの電気信号を提供する単一チャネル検出器、それに応答した電気信号を提供する単一チャネル信号処理装置、その電気信号を処理してターゲットまでの距離を決定するデータ処理装置４００とを含む。 （もっと読む）

【課題】アッベ誤差を解消できる位置決め装置を提供する。
【解決手段】スライダに搭載されたレーザ干渉計と、固定ミラーとを備え、前記レーザ干渉計と前記固定ミラーとの間で往復するレーザ光を用いてレーザ干渉に基づく測長を行うことで前記スライダを位置決めする位置決め装置である。前記レーザ干渉計から得られた直線偏光のレーザ光を折り曲げることで、そのレーザ光の光路を変更させるミラーと、前記ミラーを経由した前記レーザ光を円偏光のレーザ光に変換して前記固定ミラーに照射するλ／４板と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ガラス容器中の応力曲線に加えて応力層の厚さおよび壁厚の両者を迅速かつ正確に確定するために蛍光発光を使用する、ガラス容器壁中の応力および壁の厚さを測定するための装置および方法が開示される。
【解決手段】本装置および方法を、ガラス容器の全周囲にわたるガラス容器側壁中の応力および側壁の厚さの両者を迅速かつ正確に測定するために使用することができる。本装置および方法は、大規模ガラス容器製造に適合され、ガラス容器の側壁中の応力および側壁の厚さの高速測定が可能である。 （もっと読む）

【課題】検査時における照明光の光量を安定させた表面検査装置を提供する。
【解決手段】表面検査装置１は、照明部が、ランプハウス６１からの光のうち所定の波長領域の光を透過させるバンドパスフィルターが設けられた波長選択機構７０，７５を有し、当該バンドパスフィルターを透過して得られた所定の波長領域の光を照明光として被検基板１０の表面に照射するように構成されており、紫外光を遮断するＵＶカットフィルター６５がランプハウス６１と波長選択機構７０，７５との間の光路上に挿抜可能に設けられ、非検査時にＵＶカットフィルターが光路上に挿入され、また前記ＵＶカットフィルターの保持基板に「(1)熱線吸収膜(2)熱線反射膜及び熱線吸収膜の積層膜(3)熱線吸収膜及び熱伝導性膜の積層膜(4)熱線反射膜及び熱伝導性膜の積層膜(5)熱線反射膜、熱線吸収膜及び熱伝導性膜の積層膜の」うちのいずれかが設けられている。 （もっと読む）

【課題】測定者に負担を掛けることなく、傾斜面や曲面などの測定面を有する被測定物を良好に測定可能な光学式変位測定器を提供。
【解決手段】測定面から反射フォーカシング光に基づいて対物レンズ１７０の焦点位置を測定面に一致させる手段を備えた光学式変位測定器。フォーカシング光とは異なる波長の参照光を発する参照光用光源３１０と、参照光を測定面に照射するとともに測定面からの反射参照光をフォーカシング光と分離する波長分岐型ビームスプリッタ３３０と、分離参照光に基づいて測定面の傾き方向を検出する傾き方向検出手段３４０と、フォーカシング光および参照光の光路中において参照光を透過するとともに、フォーカシング光を遮光するフォーカシング光遮光体４１０と、傾き方向検出手段によって検出された測定面の傾き方向に応じて回転駆動機構４２０を介して遮光体を回転させる制御手段５００を備える。 （もっと読む）

【課題】白色干渉法を用いた非接触測定器において、長さが１メートル以上あるくびれ形状を持つような細い管内の内面形状をミクロンオーダの高精度で計測できる測定方法及び装置を提供する。
【解決手段】白色光源３を参照光と測定光に分割して参照光を参照光路長スキャナ部７に送り測定光をセンサー部８に送る光カプラ４と、参照光路長スキャナ部から返った参照光とセンサー部から返った測定光の白色干渉を検出する光検出器５とからなり、測定対象の細管内に通した透明管内でセンサー部を移動させることで、透明管を透過する測定光により非接触で前記細管の内面形状を測定することを特徴とする白色干渉法による管内面の形状測定装置１の構成とした。 （もっと読む）

【課題】試料表面のパターン形状の良否を、環境温度変化の影響を受けることなく判定する表面検査方法を提供する。
【解決手段】偏光子７及び対物レンズ９を含み、ウェハ１０の表面を照明する照明光学系２１と、ウェハ１０の表面からの反射光を、対物レンズ９を介して集光し、偏光子７とクロスニコル条件を満たすように配置された検光子１２を通して対物レンズ９の瞳面の像を結像する検出光学系２２と、瞳面の像を検出する第１の撮像素子１７と、を有する表面検査装置１００による表面検査方法は、第１の基準像を取得する第１のステップと、検査像を取得する第２のステップと、第２の基準像を取得する第３のステップと、第１及び第２の基準像の階調値の差を求め、当該差が所定値を越えたときに、検査像の階調値を補正する第４のステップと、補正後の検査像及び第１若しくは第２の基準像の階調値を用いてウェハ１０の欠陥を検出する第５のステップと、を有する。 （もっと読む）

マイクロリソグラフィ投影露光装置は、光学面（４６；Ｍ６）と、光学面上の複数の別々の区域において光学面に関連するパラメータを測定する測定デバイス（９０）とを含む。測定デバイスは、個々の測定光ビーム（９４）を光学面上の区域に向けて誘導する照明ユニット（９２）を含む。各測定光ビームは、区域のうちの測定光ビームに関連付けられた少なくとも一部分と、隣接区域のうちの測定光ビームに関連付けられていない少なくとも一部分とを照明する。検出器ユニット（９６）は、各測定光ビームが光学面と相互作用した後に各測定光ビームに関する特性を測定する。評価ユニット（１０２）は、選択された区域に関連付けられた測定光ビームと、選択された区域に隣接する区域に関連付けられた少なくとも１つの測定光ビームとに対して検出器ユニット（９６）によって判断された特性に基づいて選択された区域に関する面関連パラメータを判断する。 （もっと読む）

【課題】表面高さ情報および／またはその複雑な表面構造についての情報を、抽出すること。
【解決手段】試験対象物の第１の表面箇所に対する走査干渉分光信号から導出可能な情報と試験対象物の複数のモデルに対応する情報とを比較することを含む方法であって、複数のモデルは、試験対象物に対する一連の特性によってパラメータ化される方法。比較される導出可能な情報は、試験対象物の第１の箇所における走査干渉分光信号の形状に関する。 （もっと読む）

【課題】製造された全ての半導体基板の所定の測定点における少なくとも応力と膜厚とを自動的に測定し、かつ、的確に分析して高性能で生産性よい基板製造工程の確立に寄与する基板検査装置を提供できるようにする。
【解決手段】測定対象ウェハ３を移動可能な試料台４上に搬送する搬送装置と、試料台４上のウェハ３表面の測定点Ｐを観察する光学顕微鏡１０と、その測定点Ｐに多波長の偏光された光Ｌ₃を照射してウェハ表面に関する情報を出力するエリプソメータ光学系４０と、ウェハ３の測定点Ｐにレーザ光を照射してウェハ３に関する他の情報を出力するラマン分光光学系２０と、それら情報を用いて膜厚・屈折率及び応力・組成などの物理情報を解析し出力するコンピュータ６０とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 干渉計と波長補償器の出力をデジタル信号に変換するときの量子化誤差に起因する計測誤差を低減した位置計測装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 移動体の位置を計測する干渉計と、前記干渉計の計測光の光路における気体の状態に起因する前記計測光の波長変動を補償する波長補償器と、前記干渉計と前記波長補償器の出力に応じた位置計測値を出力する制御器と、を備える位置計測装置であって、前記制御器は前記干渉計および前記波長補償器の出力をデジタル信号に変換するアナログ／デジタル変換器を含み、前記波長補償器の出力をデジタル信号に変換するときの分解能が、前記干渉計の出力をデジタル信号に変換するときの分解能よりも高い。 （もっと読む）

【課題】近距離から遠距離までのワイドレンジの被写体までの距離を精度良く測定すると共に近距離においても広角レンズで広い視野を確保する。
【解決手段】第１の撮像部２の第１の撮像レンズ２１と第２の撮像レンズ２２を近接して光軸が平行になるように配置し、第２の撮像部３の第３の撮像レンズ３１と第４の撮像レンズ３２を近接して光軸が平行になるように配置し、第１の撮像部２と第２の撮像部３を所定距離だけ隔てて配置し、４個の撮像レンズ２１，２２，３１，３２から画像を取り込むから、通常のステレオカメラのように２台のカメラを使う場合に比べてワイドレンジ又は広い視野を確保する。 （もっと読む）

捕獲粒子に作用する光学力を測定するための装置および方法。一実施形態では、本装置および方法は、顕微鏡の上または内部に配置されたチャンバの入口面と出口面の間において、単一の光ビームを用いて浮遊媒体中に浮遊する粒子を捕獲するように構成された光学顕微鏡の光学列中で使用することができる。この装置および方法は単一の収集レンズ系を使用し、この収集レンズ系は、チャンバ中に粒子を浮遊させるための浮遊媒体の屈折率以上の開口数を有し、浮遊チャンバの出口面近傍またはこの出口面と接触させて設置することができる。光検知デバイスは、収集レンズの後焦点面内または後焦点面の近くに配置されるか、あるいは後焦点面の光学等価物に配置され、収集レンズによって光検知デバイスの上に投影された光分布の重心のｘ座標とｙ座標から導出される、前記粒子に作用する光学力の測定値を直接または間接に生成することができる。
（もっと読む）

物体（８）の、特に、半透明な物体の少なくとも１つの部分の形状、例えば、歯の部分の形状を、好ましくは広帯域スペクトルを有する光を発生させるための光源（１）と、多焦点の照射パターンを作成するための装置（３）と、照射パターンの複数の焦点を物体に結像するための、大きな色収差を有する対物レンズ（６）と、対物レンズを介して物体に共焦点に結像される複数の焦点の波長スペクトルを決定するための検出装置（１０）とを用いて、測定するための方法であって、各々の波長スペクトルから、各々の焦点のスペクトルのピーク位置を決定し、該ピーク位置から、結像光線（Ｚ座標）の方向における物体の広がりを計算し、多焦点の照射パターンを、光源（１）と、大きな色収差を有する対物レンズ（６）との間に設けられた複数のライトガイド（５）によって形成し、対物レンズ（６）は、ライトガイドの、物体側の端部を物体に結像し、物体から反射された光を、ライトガイドの物体側の端部に結像し、ライトガイドによって導かれかつ反射された光を、検出装置（１２）へ向ける。構造的に簡単な措置によって極めて正確な測定を行なうことができ、サンプル上の測定点のできる限り良好な分布のみならず、検出装置における最適なスペクトル分布を可能にすることが意図されることを達成するために、物体側の照射パターンは、物体側の測定点分布が、照射側および検出側のマイクロレンズの分布またはピンホールの分布に依存していないように、ライトガイド（５）を介して、形成されることが提案される。 （もっと読む）

【課題】撮像対象との距離を表す距離画像を生成する際に、撮像対象の光反射やその光沢などの外乱、測定原理等に起因する距離の誤差の低減を実現する。
【解決手段】撮像対象との距離を計測するための画像を撮像する第１の撮像手段１１０と、第１の撮像手段１１０で撮像された画像に基づくデータを用いて撮像対象までの距離を算出する距離算出手段１３０と、偏光成分を計測するための画像を撮像する第２の撮像手段１２２と、第２の撮像手段１２２で撮像された画像に基づくデータを用いて偏光状態の解析処理を行う偏光解析手段１４０と、距離算出手段１３０で算出された距離に係る距離情報１０３及び偏光解析手段１４０で解析処理された偏光状態に係る偏光解析情報１０５に基づいて、撮像対象の距離画像１０６を生成する距離画像生成手段１５０を備える。 （もっと読む）