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Fターム[2F065UU07]の内容

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Fターム[2F065UU07]に分類される特許

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【課題】ズームレンズの変倍動作により移動する入射瞳の位置に対物レンズの射出瞳の位置を略一致させるように構成された結像光学系、及び、この結像光学系を有する形状測定装置を提供する。
【解決手段】形状測定装置100に用いられる結像光学系30は、測定物体の像を結像する対物レンズ25と、この像を変倍するズームレンズ32と、変倍動作により光軸に沿って移動するズームレンズ32の入射瞳の位置に、対物レンズ25の射出瞳の位置を略一致させる瞳移動光学系としてのリレーレンズ31と、を有する。 (もっと読む)


【課題】干渉縞の濃淡に基づき対象物の形状を測定する光学干渉測定装置において、干渉縞の観測対象領域を自動的に設定する。
【解決手段】ベースプレート36と、これの上に置いたブロックゲージ34の干渉縞画像を複数得る。取得した複数の画像において、ベースプレートとブロックゲージの境界であるエッジ抽出を行い、エッジ画像を得る。エッジ画像を加算して、さらに所定のしきい値により二値化し、ベースプレートとブロックゲージの境界を抽出する。得られた境界に基づきブロックゲージ上の干渉縞画像を得る。 (もっと読む)


【課題】目標とする非球面波をより正確に発生する非球面波発生光学系。
【解決手段】非球面波を発生するための非球面波発生光学系は、第1非球面を有する第1アルバレツレンズと、第2非球面を有する第2アルバレツレンズと、前記第1アルバレツレンズと前記第2アルバレツレンズとの間に配置されたリレー光学系とを備え、前記第1非球面および前記第2非球面が前記リレー光学系に関して互いに共役な位置に配置され、前記非球面波発生光学系の光軸をz軸とするxyz座標系において、前記第1非球面の形状をz=f1(x、y)、前記第2非球面の形状をz=f2(x、y)とし、前記リレー光学系の倍率をβ、定数をCとしたときに、前記第1非球面および前記第2非球面が、f2(x,y)=f1(βx,βy)+Cを満たすことができる形状を有する。 (もっと読む)


【課題】測定光および参照光の光軸を容易に一致させることが可能な斜入射干渉計を提供する。
【解決手段】斜入射干渉計1は、光源2と、光を平行光にするレンズ3,4と、平行光を測定光および参照光に分離し、測定光を被測定面Sに対して斜めに射出する光分離部5と、参照光、および被測定面で反射された測定光を合成して干渉光とする光合成部6と、干渉光を検出する検出部と、光源2から光分離部5までの光路内に設けられるとともに、光の光断面サイズよりも小さいサイズの光通過孔81を有し、この光通過孔81でのみ光を通過させるスポット形成部8と、を具備した。 (もっと読む)


【課題】振動の影響による3次元形状の測定誤差を低減した形状測定装置を提供する。
【解決手段】形状測定装置は、被測定物を照明して撮像するプローブと、プローブと被測定物とを相対移動させるリニアモータ17と、照明の状態と撮像の状態から被測定物の形状を測定する形状演算部34と、プローブの振れを検出する振れ検出部28と、振れ検出部28に検出された振れに基づいて測定の制御を行う制御部30とを備えて構成される。 (もっと読む)


【課題】 高さ方向の異なる位置に配置された複数の面の形状を一括でかつ高精度に測定できる斜入射干渉計を用いた測定方法を提供する。
【解決手段】 斜入射干渉計を用いた測定方法は、被測定物における測定光の入射面の法線方向の異なる位置に略平行に配置された複数の面に測定光を入射させる測定光入射工程S1と、複数の面で反射された測定光を利用して複数の面の形状を測定する面形状測定工程S2とを備える。また、複数の面のいずれか1つの面に対する他の面の傾きを測定する傾き測定工程S3を備える。 (もっと読む)


【課題】レーザ走査干渉を用いて円筒面の形状を簡単に、かつ、短時間で測定することができ、同時に円筒面の表面画像を得ることのできる、円筒面の形状計測方法を提供する。
【解決手段】テレセントリックfθレンズ8の焦点面近傍に近接配置した参照平面9a及び被観察円筒面10aからの反射光を前記テレセントリックfθレンズ8により平行光束に変換し、結像レンズ11によって集光してテレセントリックfθレンズ8の焦点面と共役の位置に設置したピンホール12aを通過させ、ピンホール12aを通過した反射光の光量を受光素子13で計測する。レーザ光源1からのレーザ光を連続点灯又はパルス点灯させるとともに、走査光を被観察円筒面10aの母線に沿って走査させ、かつ、被観察円筒面10aを有する被測定物10をその円筒軸10bを中心に回転させながら計測する。 (もっと読む)


【課題】試料の三次元位置と該試料の蛍光スペクトルとの計測を行うための顕微鏡システムの提供。
【解決手段】光学顕微鏡を用いて、試料の三次元位置と該試料の蛍光スペクトルとの計測を行うための顕微鏡システムであって、試料の明視野像を得るための光源と、試料の蛍光像を得るための光源と、結像側の光路を明視野像の光路と蛍光像の光路とに分けるためのダイクロイックミラーと、明視野像及び蛍光像を取得する画像取得部と、磁場を発生させることにより試料に張力を与える磁場発生部と、画像取得部にて得られた明視野像から試料の三次元位置を算出する解析部とを備える。 (もっと読む)


【課題】透明体からなる板状物であっても輪郭を明確に特定する形状認識装置を提供する。
【解決手段】板状物10の輪郭を検出する形状認識装置6であって、板状物10を保持する保持テーブル3と、保持テーブル3上に保持され板状物10を撮像する撮像手段61と、撮像手段61下側に配設された照明手段62と、照明手段62によって照射され保持テーブル3上に保持された板状物10で反射した反射光のうち撮像手段61による撮像領域の正反射光を遮蔽する遮蔽手段63とを具備している。 (もっと読む)


【課題】
単一の統合条件においては複数の欠陥種を同時に検出することは困難であり、また、多次元の特徴量として扱って複数の欠陥を検出すると、信号処理にかかる計算コストが検出器の増加とともに増大するという問題が発生する。
【解決手段】
被検査対象物に照明光を照射する照明光学部と、前記照明光学部により照射され該被検査対象物から該被検査対象物の表面に対してそれぞれ異なる方位角方向および仰角方向に散乱する散乱光をそれぞれ検出する複数の検出器を備えた検出光学部と、前記複数の検出器により検出した該被検査対象物からの散乱光に基づく複数の信号のそれぞれについて、ゲイン調整および閾値判別に基づく欠陥判別を並列に行い、前記ゲイン調整および欠陥判別された結果に基づき欠陥を抽出する信号処理部と、を有する欠陥検査装置である。 (もっと読む)


【課題】光の干渉現象を利用して検出した干渉光(光ビート信号)が正規の像を取得させるものであるのか折り返し像を取得させるものであるのかを簡易に判定することができる光干渉計測方法を提供する。
【解決手段】光源ユニットから射出された光を測定光と参照光とに分割し、前記参照光と、前記測定光が照射された測定対象11から反射または後方散乱した光と、が干渉した干渉光を検出し、前記参照光の光路に設けられた光路長可変機構13を駆動させて前記参照光の光路長を変化させ、前記参照光の光路長の変化に応じた前記干渉光の変化に基いて、検出された前記干渉光に基づく画像が正規の像か折り返し像かを判定し、その判定の結果に基いて前記干渉光から前記測定対象を計測する。 (もっと読む)


【課題】光の干渉を利用した干渉測定装置において、測定精度を向上させること。
【解決手段】干渉測定装置は、スーパーコンティニューム光(SC光)を放射する光源10と、SC光を測定光と参照光とに分割する光ファイバカプラ11と、分散補償素子12と、分散補償素子12を移動させる駆動装置13と、測定光と参照光との干渉波形を測定する受光手段14と、によって構成されている。測定対象である測定物15は、厚さ800μmのSi基板である。分散補償素子12は、厚さ780μmのSi基板である。つまり、分散補償素子12は、測定物15と同一の材料であり、測定物15よりも20μm薄い。測定物15裏面と分散補償素子12裏面での反射による干渉は、波長分散がほぼ打ち消されるためピーク幅が狭く、ピーク位置の測定精度が向上する。その結果、温度等の測定精度が向上する。 (もっと読む)


【課題】回転体の位置を高精度に測定する。
【解決手段】回転体6の回転軸に垂直な平面に対して傾斜角度θで反射ミラー8を回転体6に取り付けて、干渉測長手段である光学ユニット10から回転体6の回転軸に沿って照射される入射光20aを反射ミラー8によって反射させて干渉縞を得る。入射光20aの光路を回転軸から径方向にずらした距離Rと、入射光20aの波長λと、傾斜角度θとの関係が、0.4λ<2Rsinθを満たすように設定することで、サイクリックエラーによる測長誤差を低減する。 (もっと読む)


【課題】物体の角変位を測定する回転型干渉計の重量を軽減すると共に角度範囲を増大させる。
【解決手段】レーザビームを参照ビーム及び測定ビームに分割することによって、物体の角変位が干渉計によって測定される。参照ビームは、固定の参照再帰反射器に、次いで位相シフト検出器に方向付けられる。測定ビームは、物体の回転可能な反射面、次いで固定の測定再帰反射器、次いで回転可能な反射面に引き返し、次いで位相シフト検出器に方向付けられ、その結果位相シフト検出器は、回転可能な反射面が変位するときに測定ビームの経路の長さが変わるときの回転可能な反射面の角変位を測定する。 (もっと読む)


【課題】画像検査装置において、被検体からの光を複数の波長帯域に分けて画像を取得して画像検査を行う場合に、簡素な構成により高精度な検査を行うことができるようにする。
【解決手段】画像検査装置50は、可視光Lと、赤外光Lとを、導体パターン2に照射する照明部4と、導体パターン2で反射された可視光Lおよび赤外光Lを結像する撮像光学系6と、撮像光学系6によって結像された像を撮像する撮像素子8と、導体パターン2と撮像素子8との間の光路上で進退可能に設けられ、可視光Lの透過を阻止するとともに赤外光Lを透過させる可視光カットフィルタ7bと、導体パターン2と撮像光学系6との間の光路上で進退可能に設けられ、赤外光Lの透過を阻止するとともに可視光Lを透過させる赤外光カットフィルタ7aと、を備える。 (もっと読む)


【課題】紡糸口金の検査に要する人手や時間を軽減し、簡便に紡糸口金を検査することが可能な紡糸口金の検査装置及び検査方法を提供する。
【解決手段】光源部2と、光源からの光を投影レンズ7に導く集光レンズ3と、集光レンズ3を経た光を投影する投影レンズ7を具備するプロジェクタにおいて、光源からの光を通す開口部を有し、かつ集光レンズ3に隣接して光源からの光を遮光する紙または板4を備え、集光レンズ3から投影レンズ7の間に存在し、外部からの光を遮光する筒体6を備えた検査装置にて紡糸口金を検査する。 (もっと読む)


【課題】ゴースト光に起因した干渉計の測定制度の低下を抑制することができる干渉計を提供する。
【解決手段】干渉計は、光源と、前記光源から射出された光のうち第1偏光成分を参照光として反射し、第2偏光成分を測定光として透過する第1偏光ビームスプリッタと、前記光源と前記第1偏光ビームスプリッタとの間に配置された複屈折材料の素子と、前記第1偏光ビームスプリッタを透過し被検面である反射面で反射され前記第1偏光ビームスプリッタを透過した測定光と前記第1偏光ビームスプリッタで反射された参照光との干渉光を受光する受光素子と、を備える。前記参照光と前記測定光とは、前記第1偏光ビームスプリッタと前記受光素子との間で前記複屈折材料の素子を通過する。 (もっと読む)


【課題】フリンジスキャン干渉縞計測方法および干渉計において、簡素な構成を用いて、容易かつ高精度な形状測定を迅速に行うことができるようにする。
【解決手段】位相増分Δφずつシフトして、n個の干渉縞画像を取得して被測定面の形状を算出するフリンジスキャン干渉縞計測方法であって、位相増分Δφを細分する位相量でシフトして候補画像を取得する候補画像取得工程(ステップS1)と、各候補画像の同一位置における輝度変化を取得する輝度変化取得工程(ステップS2)と、この輝度変化を用いて位相変化を算出する位相変化算出工程(ステップS3)と、位相量が、Δφ・(k−1)(ただし、k=1,…,n)の近傍の複数の候補画像を補間演算用画像として選択する補間演算用画像選択工程(ステップS4)と、この補間演算用画像を用いて補間演算を行うことにより、前記n個の干渉縞画像を取得する干渉縞画像算出工程(ステップS5)とを備える。 (もっと読む)


【課題】位相シフト法を用いる場合であっても被測定球面の形状を適切に測定することができるフィゾー型干渉計の提供。
【解決手段】フィゾー型干渉計1は、干渉計本体2と、測定装置3とを備える。干渉計本体2は、参照球面などで構成される光学系22を備える。測定装置3は、強度取得部31と、形状測定部32とを備える。強度取得部31は、参照球面の焦点と、被測定球面の焦点とを一致させたときの参照球面の位置を中央位置とし、この中央位置から等距離にある2つの位置を、それぞれ開始位置、及び終了位置としてn個の位置における干渉光の強度を等間隔で取得する。形状測定部32は、i個目の位置における干渉光の強度、及び(n−i+1)個目の位置における干渉光の強度の係数を同一とする位相シフト法のアルゴリズムで被測定球面の形状を測定する。 (もっと読む)


【課題】三次元の物体の画像を生成する三次元撮像装置を提供する。
【解決手段】3D撮像装置101は、2組103a,103bの反射素子105と、撮像素子107と、プロセッサとを有する。撮像素子107は、物体111から発せられ、かつ2組103a,103bの反射素子105のそれぞれから反射された光線を用いて、2つの画像を取得する。プロセッサは、取得した画像のそれぞれにおける複数組のマッチングポイントを特定するように構成される。マッチングポイントの各組は、物体111の対応する単一の要素により発せられた個々の光線により生じたものである。また、プロセッサは、取得した画像のそれぞれにおける複数組のマッチングポイントの各組ごとに、物体111の対応する要素の位置を決定するように構成される。したがって、プロセッサは、物体111の複数の要素の決定された位置を用いて、物体111の3次元画像を生成することができる。 (もっと読む)


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