【課題】分析領域にダメージを与えることなく分析可能な試料をつくることができる、分析試料の形成方法を提供する。
【解決手段】分析試料１１の形成方法は、まず、クラック１４や異物１５のある分析領域２１の周囲に、収束イオンビーム加工装置２３によって亀裂防止溝２２を形成する。次に、分析領域２１の近傍に形成された、クラック１４や異物１５を分析する際に邪魔となる障壁１２に応力を加えて除去する。このとき、障壁１２と繋がっていた基板１３の一部分１３ａから分析領域２１に亀裂３１が伝わったとしても、分析領域２１の周囲に形成した亀裂防止溝２２によって、分析領域２１に亀裂３１が進行することを抑えることができる。これにより、クラック１４や異物１５の状態を、障壁１２を除去する前の状態に維持することができ、クラック１４を観察したり異物１５の元素を特定したりすることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】欠陥レビュー装置において、装置が取得する多種多様な情報の中から必要な情報を選択し、目的に対して最適なレビューレポートフォーマットを容易に設定する。
【解決手段】レポートの構成要素をモジュール単位でアイコン８２１〜８３０を用いてＯＳＤ表示したテンプレート編集画面８００を生成する。マウス等のポインティングデバイスを用いてアイコン８２１〜８３０を選択し、ドラッグ＆ドロップ操作Ｓ０１により、同じ画面上に形成した出力フォーマット設定領域８５０の所望の位置に配置し、さらにドラッグ＆ドロップ操作Ｓ０２により、所望のサイズに設定する。そして、同じ画面上の詳細設定領域８６０で、配置したアイコンが表すモジュールの詳細設定ができる。設定したフォーマット情報は、保存機能３９により、テンプレートして保存され、呼び出すだけで簡単に使用できる。また、保存したテンプレートは編集も可能で、新規作成だけでなく、既存テンプレートを修正することも簡単に実現できる。 （もっと読む）

【課題】
半導体ウェハ等の試料上に存在する欠陥の画像を自動収集かつ自動分類する装置において，ユーザの要求によりその分類クラスが多数になる場合や，またその基準が高頻度で変更される場合でも，容易に対応可能な分類システムを提供する。
【解決手段】
ユーザが分類クラスを定義する際に，各分類クラスが持つ属性を指定する仕組みを設ける。分類システムは各クラスが持つ属性を基に，内部のルール分類器と教示分類器との結合形態を自動変更し，ユーザの分類基準に合わせた分類システムを自動構築する。 （もっと読む）

【課題】
欠陥の特徴を的確に提示することが可能な欠陥画像表示画面を提供する。
【解決手段】
欠陥のサムネイル表示画面において、検査情報や欠陥種類等から、欠陥毎にその欠陥の特徴を最も顕著に表すような画像を決定し、表示する。また、欠陥の詳細表示画面において、検査情報や欠陥種類等を基に、その欠陥の特徴を顕著に表すように表示する画像やその画像の表示順序を定め、表示する。さらに、欠陥画像撮像中または欠陥画像撮像後に、予め指定した規則に基づいて別の欠陥画像取得装置や別の撮像条件により表示用の画像を撮像するためのステップを撮像シーケンスに追加する。 （もっと読む）

【課題】減圧環境下で使用されるセラミックス部品において、処理物への汚染の少ないセラミックス部品を検査し、有機物の汚染の少ない半導体製造装置用セラミック部品を提供する。
【解決手段】焼結体密度９８％以上であり、Ｘ線光電子分光法で表面の深さ方向の測定をし、表面から５ｎｍ以深での深さで検出される吸着有機物由来の炭素量が５ｍａｓｓ％以下であることを特徴とする半導体製造装置用セラミックス部品、更に、半導体製造装置の処理室内で曝露される主面の表面粗さが、表面平滑度でRａ１μｍ以下であることを特徴とする前記半導体製造装置用セラミックス部品である。 （もっと読む）

【課題】半導体デバイスの外観検査と内部検査とを単一化して検査効率を極大化させる半導体デバイス検査装置を提供する。
【解決手段】表面実装型半導体チップパッケージや半導体モジュールなどの半導体デバイスに対する外観及び内部検査において、半導体デバイスの外観映像を獲得する外観映像検出部１２１と半導体デバイスにＸ線を照射して透過映像を獲得する透過映像検出部１３１と外観映像検出部１２１の検査情報と透過映像検出部１３１から獲得された映像情報とを基準映像と比較して良好/不良を判定するコントローラー１４１とを備える。 （もっと読む）

【課題】 被測定物の全ての測定点の位置を容易に把握することができるＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】 被測定物Ｓを配置するステージ１４と、被測定物Ｓの所定の領域の透視Ｘ線像を撮影するＸ線検出器１２とＸ線検出器１２に向けて透視用Ｘ線を照射するＸ線源１１とを有するＸ線測定光学系１３と、ステージ１４を移動させるステージ駆動機構１６と、透視Ｘ線像に基づいて作成されたＸ線画像と被測定物Ｓの所定の領域を含むマスター画像との画像表示が行われる表示装置２３とを備えるＸ線検査装置１であって、マスター画像の特定の位置に測定点情報の画像表示を行うティーチング情報記憶制御手段３５を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】筋引きの少ない良好な観察用断面を作製することができるとともに、スループットを向上させることが可能な集束イオンビーム装置、及び、良好な観察用断面を作製して、正確な観察像を得ることができる試料の断面加工・観察方法を提供する。
【解決手段】集束イオンビーム装置１は、試料Ｓを載置する試料台２と、試料台２を水平面上の二軸及び鉛直軸の三方向に移動させることが可能な三軸ステージ３と、試料Ｓに対して集束イオンビームＩ１、Ｉ２を照射する第一の集束イオンビーム鏡筒１１及び第二の集束イオンビーム鏡筒１２とを備え、第一の集束イオンビーム鏡筒１１及び第二の集束イオンビーム鏡筒１２は、互いの集束イオンビームＩ１、Ｉ２の照射方向が、平面視略対向するとともに、側方視鉛直軸に対して略線対称に傾斜するように配置されている （もっと読む）

【課題】 従来の電子顕微鏡用試料作製技術では、試料の断面薄膜化試料を作製するのみで、薄膜の状態のデバイス試料に電圧を印加し、デバイスを動作させることができなかった。
【解決手段】 収束イオンビーム装置内に複数のプローブを設け、プローブ間には自由に電圧を印加できる構成とする。また、プローブ間の電流を測定し、電流の有無を判定できる検知器を設ける。プローブは半導体デバイスのコンタクトプラグに接触させ、デポジションガスを装置内に導入し、プローブの接触位置に収束イオンビームを照射することで、プローブをコンタクトプラグに接着し、電流導入端子とする。電子顕微鏡の試料ホルダには、この電流導入端子に接触し、電子顕微鏡外部から電圧を印加できる電流導入機構を設ける。 （もっと読む）

【課題】温度変化によって膨張、収縮したとしても保持している試料の位置を変化させること無く、正確に位置決め、保持することが可能な試料保持機構、及び、この試料保持機構を備えた試料加工・観察装置に提供する。
【解決手段】試料加工・加工観察装置１は、試料保持機構２０を備えている。試料保持機構２０は、試料Ｓを保持する試料ホルダ２１と、試料ホルダ２１を着脱可能に支持するベース２２とを備える。これらの間には、回転可能に支持する回転支持部２７と、回転中心２７ａからＸ方向に向って摺動可能に支持するスライド支持部２８と、Ｘ方向及びＹ方向に摺動可能に支持する当接支持部とが、着脱可能に設けられている。上面２１ａには、回転中心２７ａからＹ方向及びＸ方向に沿って配置され、試料Ｓの一辺Ｓ１及び他辺Ｓ２に当接するＸ方向位置決めピン３１及びＹ方向位置決めピン３２が設けられている。 （もっと読む）

【課題】ＡＤＣで用いられる最適な画像処理パラメータを決定するために要する調整者の労力の低減をはかる。
【解決手段】調整者は、画像処理パラメータ設定画面１００の画面上でＡＤＣの分類シーケンスに利用したい複数の画像処理パラメータとその調整値範囲を選択設定するだけで、欠陥分類装置１０側で、選択設定した複数の画像処理パラメータ１１１〜１１３の調整値の全組み合わせに対して画像処理を実行し、その分類処理結果に基づいて、最適な組み合わせパターンを推奨パラメータとして、調整者に提案する。 （もっと読む）

【課題】 高分解能の電子顕微鏡の特徴であるノイズ成分を多く含む画像に対し、ノイズの低減と画像の輪郭の強調という、従来技術では相反する画像処理を同時に行うことのできる電子顕微鏡の画像処理システムを提供する。
【解決手段】 走査電子顕微鏡１０は、電子銃から電子線を試料に照射し、試料から発生した二次電子を検出することによって顕微鏡画像を生成する。パーソナルコンピュータ２０は電子顕微鏡１０によって生成された顕微鏡画像を取得し、前記顕微鏡画像に最大エントロピー法を用いた画像処理を施す。パーソナルコンピュータ２０は、前記顕微鏡画像に最大エントロピー法を用いた画像処理を施す際に、あらかじめ取得された大照射電流量の電子顕微鏡画像と、最大エントロピー法を用いた画像との比較に対する評価結果に基づいて前記画像処理のためのフィルタリング条件を決定する。 （もっと読む）

【課題】加速電圧を下げたＳＴＥＭ観察での電子ビームの試料透過能力の低下やイオンビームの照射により生じるダメージ層の悪影響を防ぎ、試料の所望の領域への損傷を最小限にしてダメージ層を効果的に除去すること、および薄膜試料の厚さがより薄くなっても最適な加工終了時点を検出して加工失敗を防ぐ。
【解決手段】仕上げ加工に使用するイオンビームのエネルギーを低くすると共に、試料への入射角度を試料形状に合わせて最適化し、ＳＴＥＭ像の着目する要素の変化をモニタして加工の終了時点を検出する。 （もっと読む）

【課題】集積回路パッケージとプリント配線板の接合状態をより精度よく良否判定する検査方法を提供することを目的とする。
【解決手段】
はんだ接合検査方法は、ＢＧＡパッケージ１０の表面に配置された複数のはんだボール５と、プリント配線板１１に設けられたランド１２とのはんだ接合を検査するはんだ接合検査方法であって、検出工程Ｓ１０１〜Ｓ１０２と、判定工程Ｓ１０３〜Ｓ１０８とを備えている。検出工程Ｓ１０１〜Ｓ１０２は、はんだ接合される部分にＸ線を照射することにより得られる情報から、ランド１２上に塗布されたはんだペースト１６に含まれ、かつ、はんだボール５に含まれない元素の分布を検出する。判定工程Ｓ１０３〜Ｓ１０８は、検出された元素の分布に基づいて、はんだ接合の良否を判定する。 （もっと読む）

貨物の非侵入性検査及び確認を行うためのシステム及び／又は方法を開示する。代表的な一実施形態では、元素シグネチャーを供給チェーンの第1地点で特定し、該供給チェーンの第2地点に送信する。物品が第2地点に到着すると、該物品の元素シグネチャーを測定し、元々の元素シグネチャーに対して確認できる。別の実施形態では、元素シグネチャーを測定して物品の起点を確認したり物品を識別したりできる。幾つかの実施形態では、こうした元素シグネチャーは発送済み物品及び／又は梱包材料に固有とする。他の実施形態では、元素シグネチャーは発送品にタグ物質として付加する。
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【課題】
本発明は、上記問題点を解決すべく、ホルダー本体の長手方向に直交する軸回りの傾斜を大幅に改善可能な試料ホルダーを提供することを目的とする。
【解決手段】
本発明の試料ホルダーは、ホルダー本体と、試料を保持するための試料固定台と、前記ホルダー本体の長手方向に直交する軸回りに回転可能な軸傾斜機構とを有し、前記軸傾斜機構は、前記長手方向に直交する所望の軸回りに回転させるための支点保持部材とは無関係に軸傾斜可能な機構であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】分散染色法は、浸液とアスベストの屈折率差で分散色がつくが、結晶によっては分散色が薄くアスベストかどうか判別ができない場合がある。大気中から採取した試料から作成した標本では透明化したろ紙とアスベストとを同じ視野内で位相差観察する。アスベストによるコントラストが少ない場合、ろ紙繊維の影響を排除する必要がある。
【解決手段】アスベストに偏光特性があるので、顕微鏡光路中に偏光板が配置されていれば、偏光板の回転により見ている結晶がアスベストであれば観察する色が変化する。顕微鏡において偏光板を回転可能に設けて、観察しながら、偏光板を回転すると、偏光特性を有するアスベストは色が変化して観察されることにより、アスベストと、他のロックウールやろ紙繊維と区別することができる。 （もっと読む）

【課題】欠陥検査装置により予め検出された欠陥を高いスループットで再検出する。
【解決手段】解像度を変更することなく、外部の記検査装置における前記欠陥位置情報の精度分布に応じて再検出の際の画像サイズまたは画素数を変更する。 （もっと読む）

【課題】高精度の試料ステージ機構を用いることなく、メモリーセルをカウントし、特定のセルの位置を検出する。
【解決手段】本発明の荷電粒子ビーム装置では、試料が繰り返しセルを有するとき、セルに対応したスケールパターンを生成し、それを試料の繰り返しセルの画像に重畳させることにより、目的セルを特定する。更に、試料の繰り返しセルの少なくとも３つの端の位置に基づいてセルの配列を求め、このセルの配列から目的セルの位置を特定する。ビーム偏向機能によるズームとソフトウエアによるズームを組み合わせてズーム画像を生成し、試料ステージを移動させることなく、ソフトウエアによって画像シフトを行う。 （もっと読む）

【課題】回転可能なベースの回りに配置されたサンプルを顕微処理する複数器具を含むクラスタ器具を提供すること。
【解決手段】ベースの上のサンプル・ホルダが、器具の作業領域間においてサンプルを回転させる。スライド可能真空封止が、真空を必要とする器具のサンプル室において真空を維持する。 （もっと読む）