【課題】本発明は、異なる検出器からの映像信号の画像データを遅滞なく表示部に転送することのできるデータ処理装置を提供することことを目的としている。
【解決手段】複数チャネルの信号を検出する検出器１と、これら検出器１のそれぞれの出力を信号処理する信号処理部３と、これら信号処理部３の出力を受けて有効データのみを抽出する有効データ抽出部１０と、該有効データ抽出部１０の出力を受けて多重化する多重部１１と、該多重部１１の出力を受けてメモリへの書き込み制御を行なうメモリ制御部１６と、該メモリ制御部１６の出力を受けて検出データを記憶するメモリ４と、該メモリ４に記憶されている検出データを読み出して出力するデータ出力部５と、該データ出力部５の出力を受けて所定のデータ処理を行なう処理装置１７と、該処理装置１７の出力を受けて検出データを出力するモニタ８とから構成される。 （もっと読む）

【課題】厚さが厚い試料の分析に好適でかつ試料の材質の同定も行うことができる試料分析装置を提供する。
【解決手段】本発明の試料分析装置は、表面に部分的に凹部が存在するウエハ１８に荷電粒子を照射する照射系と、荷電粒子の照射に基づき試料の表面側から得られたルミネッセンスを集光する回転楕円反射鏡１７と、回転楕円反射鏡１７に導かれたルミネッセンスを検出する光検出器３３と、試料の表面から反射された反射荷電粒子を検出する荷電粒子検出器２５と、荷電粒子検出器２５の検出信号に基づき試料の形状を求めると共に光検出器３３の検出信号に基づきウエハ１８の材質を同定する信号処理部２４とを備え、照射系は荷電粒子をウエハに間欠的に照射するように制御され、信号処理部２４は荷電粒子の間欠照射終了時点から間欠照射開始時点までの期間における光検出器３３からの検出信号の減衰特性に基づき試料の同定を行う。 （もっと読む）

【課題】 電子プローブマイクロアナライザを用いる地質年代測定と年代マップの表示を効率よく行う。
【解決手段】 （ａ）の分析領域Ｒに設定されているグリッド状の分析点（白丸で示す）と（ｂ）の分析領域に対応した反射電子像（原子番号の高い部分を黒く表示）の位置を対応させた状態が（ｃ）である。（ｄ）の棒グラフは、（ｃ）の直線Ｌ上に位置する分析点Ｌ１〜Ｌ１２における反射電子強度を表す。閾値Ｈ以上の反射電子強度を持つ分析点のみを測定対象とすると、（ｅ）中のＲ１〜Ｒ３は反射電子強度が閾値Ｈ以上の条件を満たす測定対象領域である。 （もっと読む）

【課題】装置の小型化を実現し、かつ、真空容器内の圧力の増加や汚染が無く数μｍの試
料片が固着されるＴＥＭホルダの導入手段を備え、迅速な観察を可能とする試料室容積が
必要最小限の、占有面積の小さい、大口径ウエハ用の試料作製装置を提供すること。
【解決手段】試料を載置する試料ステージと、荷電粒子ビーム照射光学系と、荷電粒子ビ
ームの照射によって発生する二次粒子を検出する二次粒子検出手段と、該試料から試料片
を分離する試料片分離手段と、該試料を収納するカセットと、該カセットから該試料を該
試料ステージに移載する試料移載手段と、該試料片を固定する試料ホルダと該試料ホルダ
を固定する試料載置部と該試料載置部を保持し、試料ステージ本体部と脱着可能な構成か
ら成るカートリッジと、該カートリッジを収納するカートリッジステーションと、該カー
トリッジステーションから所望の該カートリッジを該試料ステージ上に、該容器の外部か
ら移載する移載手段を備える。 （もっと読む）

【課題】
絶縁性の高い試料を帯電することなく、また、汚染無く測定できる前処理法を提供する。
【解決手段】
絶縁性の高い分析対象試料に電離放射線やイオンビーム等のエネルギーを照射し、前記試料から放出される二次電子や二次イオン等のエネルギーを導いて前記試料表面を分析する表面分析方法において、前記絶縁性の高い分析対象試料上に導電性薄膜をメッシュ状に形成し、前記導電性薄膜が形成されていない前記試料上に前記電離放射線やイオンビーム等のエネルギーを照射することを特徴とする表面分析方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】高強度化、高導電率化とともに、優れた曲げ加工性を兼備した銅合金を提供することを目的とする。
【解決手段】強度と導電率とのバランスからＮｉ、Ｓｉ、Ｔｉを各々特定量含有する銅合金組織の、５０〜２００ｎｍの特定サイズの析出物の数密度を保証した上で、この範囲のサイズの析出物に含まれるＴｉの平均原子濃度を一定範囲に制御して、一定量のＴｉ含有析出物を存在させ、このＴｉ含有析出物による結晶粒成長抑制のピン止め効果によって、平均結晶粒径を２０μm 以下に微細化させ、前記銅合金に高強度、高導電率および曲げ加工性を兼備させる。 （もっと読む）

【課題】面分析における定量分析の精度を向上させる方法を提供する。
【解決手段】試料表面上に点分析位置と点分析位置を含むように面分析領域を指定し、点分析位置に一次エネルギー線を照射して発生した二次エネルギー線に基づいて点分析におけるピーク強度とバックグランド強度を取得し、面分析領域内を一次エネルギーで走査して発生した二次エネルギー線に基づいて面分析におけるピーク強度とバックグランド強度を取得し、次に、点分析におけるピーク強度とバックグランド強度から原子濃度を求め、面分析におけるピーク強度とバックグランド強度の内で点分析位置に対応した位置に存在する元素に対応したピーク強度とバックグランド強度と、求めた原子濃度から元素に対応した相対感度係数値を求め、この相対感度係数と面分析におけるピーク強度とバックグランド強度とに基づいて面分析領域の定量計算を行う。 （もっと読む）

【課題】測定種別の選択と光学部品の交換作業とを関連付けて、交換すべき光学部品の情報を図を用いて画面に表示することで、測定準備作業を容易にする。
【解決手段】Ｘ線分析装置の測定準備作業に関連して、選択画面において、複数の測定種別の中からオペレータが所望の測定種別を選択すると、その測定種別に応じて、取り付けるべき光学部品及び取り外すべき光学部品の情報が、図を伴って表示装置の画面に表示される。オペレータは、その作業指示を見て、Ｘ線分析装置の光学系から光学部品を取り外したり、光学部品を取り付けたりする作業を実行する。図を伴って表示する形態には、交換すべき光学部品１６，１８の光学系上の位置を図示することや、取り付け作業と取り外し作業の区別を絵記号６９で表示することや、光学部品の識別マーク７０，７２を表示すること、が含まれる。 （もっと読む）

【課題】 Ｘ線レンズを用いて集光したＸ線を試料に照射するとき、試料の集光Ｘ線の焦点の周辺部に生じるハロー成分のＸ線が生じ、これにより微小領域での分析の精度が問題となっていた。
【解決手段】Ｘ線レンズ２と試料Ｓの間に、Ｘ線レンズからのＸ線を形状を制御するために開口部を備え、Ｘレンズ側よりも試料側の開口が小さくなっている先細りの形状を有するコリメータ３を設置した。 （もっと読む）

【課題】被評価水の水質評価を精度よく行うことが可能な水質評価方法と、この水質評価方法に用いられる基板接触器具とを提供する。
【解決手段】基板接触器具１０は、内部を真空度−０．０９４ＭＰａ以下に維持することが可能な密閉性能を有している。基板接触器具１０内に基板Ｗを収容して被評価水を通水し、通水停止後、基板接触器具１０内部を密閉し、この基板接触器具１０内に基板Ｗを収容したまま分析設備に搬送する。 （もっと読む）

【課題】本発明はＸ線分光器に関し、遮蔽板の調整を確実かつ正確に行なうことができるＸ線分光器を提供することを目的としている。
【解決手段】電子顕微鏡に搭載されたＸ線分光器であって、試料から発生した特性Ｘ線を回折格子７に導き、該回折格子７で分光したＸ線の強さを検出してＸ線分析を行なうＸ線分光器３において、Ｘ線分光器３内に入射される分光Ｘ線の内、０次光Ｘ線１２を遮蔽する０次光遮蔽板１３と、該０次光遮蔽板１３をＸ線検出器５のＸ線分光方向に移動する移動機構と、該移動機構にＸ線分光器内の真空状態を保持するための保持手段を設けて構成される。 （もっと読む）

【課題】ＬＭＩＳ汚染を発生させることなく、膜中の異物を正確に検出し電子顕微鏡による観察を迅速に行うことができる荷電粒子線装置、試料加工方法及び半導体検査装置を提供する。
【解決手段】他の光学式検査装置によって検出された、膜６６中に存在する欠陥の原因となる異物６５を他の光学式検査装置で取得された位置情報を基に光学式顕微鏡４３で検出し、電子顕微鏡画像やイオン顕微鏡画像による異物６５の観察やＥＤＸによる異物６５の元素分析ができるように非金属のイオンビーム２２で試料３１を加工する。 （もっと読む）

【課題】 エックス線分析装置による測定時にエックス線の照射領域が大気雰囲気にある場合には、エックス線が吸収され減衰して検出効率を低下させることに鑑みて、エックス線の進行域をエックス線を殆ど吸収しないシールガスの雰囲気とすることができるエックス線分析装置を提供する。
【解決手段】 エックス線の発生装置２と検出装置３のそれぞれにエックス線の照射方向と検出方向を案内するために設けられたキャピラリー12、13にヘリウムガスを供給して、キャピラリー12、13の先端からヘリウムガスを噴出させる。キャピラリー12、13は測定対象物Ｏの測定位置を指向しているから、噴射されたヘリウムガスは被測定位置に吹き付けられ、エックス線の進行域の雰囲気を形成し、エックス線の減衰が抑制される。 （もっと読む）

【課題】ラインスキャン方式において、電子ビームの位置ずれを補正して正確な二次元マッピング画像を得る。
【解決手段】ビーム走査部により電子ビームで試料表面の所定の領域を走査して得られた二次元画像の１つを参照画像として記憶しておき、予め設定された本数のラインスキャンごとにビーム走査部を駆動させて二次元画像を得、参照画像記憶部に記憶されている参照画像と比較して電子ビームのズレ量を算出する。その算出されたズレ量に基づいて偏向レンズにより電子ビームの位置を補正する。 （もっと読む）

【課題】エックス線分析装置での測定ではエックス線の照射方向と検出方向とを被測定位置で交差させる必要があり、エックス線の集中手段の指向方向を簡便に調整でき、さらに照射エックス線のうち集中手段に導かれないエックス線が周囲に漏洩することを防止したエックス線分析装置を提供する。
【解決手段】キャピラリー12、13を挿入したキャピラリーチャックの先端部にロックナットを締め付けてキャピラリー12、13を保持させ、該キャピラリーチャックをキャピラリーホルダ16に挿入し、該キャピラリーホルダ16を発生装置２と検出装置３にそれぞれカバー14、15を介して取り付ける。キャピラリーホルダ16の周壁に植設した調整ネジの締め付け状態を調整することによりキャピラリーチャックの姿勢を調整してキャピラリー12、13の指向方向を調整する。 （もっと読む）

【課題】 放射線検出器に到達する検出用放射線の量を従来の構成のものよりも増やすことができうる放射線検出装置及びそれを用いた放射線分析装置を提供する
【解決手段】 放射線を検出する放射線検出器１と、検出する放射線が入射する放射線導波系に放射線を透過させる透過機能を有する光学部材１１、１２と、放射線が入射してくる側に放射線導波系上最も近接した部位に、放射線が入射してくる側から入射される放射線を集光する集光機能を備えているキャピラリ７を設けるようにした。 （もっと読む）

【課題】試料より発生する蛍光Ｘ線の強度が最大になるようにＸ線源からの一次Ｘ線の照射位置および照射角度を自動調整することにより、光学調整の熟練者でなくても、常に短時間で高感度、高精度の分析が行える蛍光Ｘ線分析装置を提供することを目的とする。
【解決手段】蛍光Ｘ線分析装置１は、制御手段２０により制御される各調整手段１９、２２、２３により調整されたＸ線管１１と分光素子１３の位置と角度と装置機構上の対応する位置と角度との差を各オフセット記憶手段２１、２４、２５にオフセットとして記憶し、分析条件設定手段に記憶したオフセットを付与し、試料１６より発生する蛍光Ｘ線１７の強度が最大になるようにＸ線管１１からの一次Ｘ線の試料１６への照射位置および照射角度を自動調整する。 （もっと読む）

【課題】 検査対象とすべき最適な断層像を特定することが困難であり、結果として高精度の検査を行うことができなかった。
【解決手段】 Ｘ線によって検査対象を検査するにあたり、Ｘ線を基板上の検査対象品に照射して異なる方向から撮影した複数のＸ線画像を取得し、上記複数のＸ線画像に基づいて再構成演算を実行し、当該再構成演算によって得られた再構成情報に含まれる上記基板の配線パターンの情報に基づいて上記検査対象品の検査位置を決定する。 （もっと読む）

【課題】特性Ｘ線の取出角度と測定深さとの相関を求めることを可能とする斜出射電子線プローブマイクロＸ線分析方法を提供すること。
【解決手段】斜出射電子線プローブマイクロＸ線分析方法は、試料内部から発せられる特性Ｘ線が試料表面での全反射現象により検出されない角度以下に特性Ｘ線の取出角度を設定することにより試料の表層から発せられる特性Ｘ線のみを選択的に検出する斜出射電子線プローブマイクロＸ線分析方法において、試料を試料内部としての下地と試料表層としての所定厚の上地で構成し、下地から発せられる特性Ｘ線の取出角度を所定角度から徐々に小さくして前記特性Ｘ線の消失角度を見出し、見出された消失角度を所定厚の上地の構成元素のみを選択的に分析できる取出角度として定義する。 （もっと読む）

原子力発電所の伝熱面の表面から物質の試料を摘出し、試料の高解像度走査電子顕微鏡/エネルギー分散型X線分光法と、試料の走査透過電子顕微鏡/制限視野電子線回折/スポット分析および元素マッピング分析との少なくとも1つを行うことをも含む、原子力発電所の伝熱面の表面上の堆積物中の結晶を分析する方法。
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