【課題】放射線撮像装置の２次元放射線検出器において、キャリブレーションデータ作成時に、異物が２次元放射線検出器上に付着していた場合、正確なキャリブレーションデータを作成することができなかった。
【解決手段】
画像処理部にて、前回キャリブレーションを実施した時のキャリブレーション照射データと今回新たに取得したキャリブレーション照射データとを加算平均処理して、閾値で判別することにより、異物が付着した画素を検出し、異物を取り除くようにオペレータに警告する。異物が除去できない場合には、隣接する正常な画素との置き換えなどにて異物が付着した画素を補完する。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置用の基板に付着した異物を、その大きさと導電性との２つの観点から検査する方法および装置を提供する。
【解決手段】液晶表示装置用の基板に付着した金属元素含有異物の有無を検査する方法であって、前記基板に付着した異物の大きさと位置とを検出する第１検査ステップと、第１検査ステップで検出された位置に位置合わせして、その異物が金属元素を含有するか否かについて検査する第２検査ステップとを備えることを特徴とする検査方法。 （もっと読む）

【課題】２次電子像による半導体装置の不具合解析の効率化。
【解決手段】半導体装置の解析装置は、半導体装置の設計データに基いて、解析対象となる半導体装置を観察した場合の電位濃度分布をシミュレートし、電位濃度シミュレート像を生成する手段と、解析対象の半導体装置に荷電粒子ビームを照射して得られる２次電子像を入力する手段と、前記解析対象の半導体装置の２次電子像に対してデコンボリューション処理を行って原画像を復元する画像復元処理、又は、前記電位濃度シミュレート像に対してコンボリューション処理を行って前記２次電子像相当の劣化画像を得る画像劣化処理のいずれかを実行する手段と、前記画像復元処理又は画像劣化処理をした像と、他方の像とを、表示する手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、同種画像間の画像認識に用いられるテンプレートと同等の情報を、設計データに基づいて形成されるテンプレートに付加することで、実画像を取得することなく、設計データに基づいてテンプレートを作成することのできる容易性の維持と、テンプレートと実画像の一致度を高めることによる画像認識技術性能向上の両立にある。
【解決手段】
上記目的を達成するために、以下に設計データに基づいて、画像認識用のテンプレートを作成する際に、当該テンプレートによって特定される領域の材料情報に基づいて、当該テンプレート内の各位置の輝度情報を設定する方法，装置、及びプログラムを提案する。また、その一例として、材料の情報に加えて、上記領域上に配置されたパターンの大きさ，画像取得装置の装置条件，試料の層情報，パターンの線分情報の少なくとも１つの情報に基づいて、輝度レベルを設定する。 （もっと読む）

【課題】
画像処理基板を含む画像処理装置のきめの細かい機能診断を行うことができる半導体外観検査装置を提供する。
【解決手段】
電子光学系から送信される画像，検査レシピ，検査シーケンスを記憶する記憶装置を有し、電子光学系を用いた検査を実施しない場合に、前記記憶装置へ記憶された前記画像を画像処理装置へ入力し、当該検査レシピ，当該検査シーケンスを用いて画像処理を実行し、前記画像処理装置で処理された処理画像により、当該画像処理装置の評価を行う。 （もっと読む）

【課題】基板検査に要するトータルの処理時間が長くすることなく、ステージの駆動機構による位置ずれによって生じる欠陥位置の誤差を低減する。
【解決手段】ＴＦＴアレイ基板のアレイ欠陥を検査するＴＦＴアレイ検査装置であり、ＴＦＴアレイ基板を載置して検査位置に移動するステージと、移動中のステージの画像を取得する画像取得部と、この画像取得手段で取得した画像データを用いて検査位置におけるステージの位置ずれ量を算出する位置ずれ量算出部と、位置ずれ量算出部で算出したステージの位置ずれ量に基づいて、欠陥検査により得られたＴＦＴアレイの欠陥位置を補正する欠陥位置補正部とを備える。ステージが移動している間にステージの位置ずれ量を求めることによって、処理時間を短縮する。 （もっと読む）

【課題】検査の精度に影響を及ぼすことなく、欠陥の検出に適した明るさの画像を安定して生成できるようにする。
【解決手段】Ｘ線管とＦＰＤとを用いたＸ線利用の基板検査装置において、ＦＰＤの各走査ラインの共通露光期間内にＸ線管駆動パルスの立ち上げおよび立ち下げを行うことを条件に、Ｘ線管駆動パルスの長さＴＰを調整して撮影を行う。この撮影により得た画像の明るさがあらかじめ定めた基準の状態になるまで、ＴＰの長さ調整と撮影とを繰り返すことにより、欠陥の検出に適した明るさの画像を生成するのに必要な設定がなされる。 （もっと読む）

【課題】オペレータがＸ線画像を柔軟に補正することが可能なＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】Ｘ線検査装置１０は、Ｘ線照射器１３と、Ｘ線ラインセンサ１４と、画像生成部２１ａと、ＬＣＤモニタ３０とを備える。Ｘ線照射器１３は、商品ＧにＸ線を照射する。Ｘ線ラインセンサ１４は、商品Ｇを透過したＸ線の濃度値Ｓｒに応じたＸ線透視像信号を出力する。画像生成部２１ａは、Ｘ線の濃度値Ｓｒに基づいてＸ線画像を生成する。ＬＣＤモニタ３０は、Ｘ線画像の画像補正画面１００を表示する。画像補正画面１００は、濃度値Ｓｒの変換領域の位置に関するパラメータ、濃度値Ｓｒの変換領域における濃度値Ｓｒの変化率Ｓｒに関するパラメータ、および、濃度値Ｓｒの変換領域に含まれる濃度値Ｓｒの強調領域の位置に関するパラメータの少なくとも１つの設定を受け付ける。 （もっと読む）

本発明は、エネルギ依存型投影データから関心領域の画像を形成するための画像形成システムに関し、この画像形成システムは、関心領域のエネルギ依存型の第１の投影データを供給するための投影データ供給ユニット１，２，３，６，７，８を有する。画像形成システムは、さらに、投影データが減衰成分画像に依存するとしたモデルを用いてエネルギ依存型の第２の投影データを発生することにより関心領域の減衰成分画像を発生するための減衰成分画像発生ユニット１２を有する。成分画像発生ユニット１２は、第１の投影データからの第２の投影データの偏差が小さくなるように減衰成分画像を発生するよう適合させられる。
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【課題】しきい値とベースラインとの関係による影響を受けることなく、対象物の境界面を常に正確に表すことのできる３次元画像化方法と、その方法を利用したＸ線断層雑像装置を提供する。
【解決手段】対象物Ｗのボリュームデータを構成するボクセルから、あらかじめ設定されているしきい値を用いて一定濃度の境界を表現するポリゴンデータを生成した後、その各ポリゴンの各頂点について、当該頂点を通り、かつ、その近傍の物体境界面の法線方向への軸に沿って、その軸の両側所定領域の濃度値を積算して得られるプロファイルを微分することによって得られるピーク値の座標を求め、その座標を当該頂点の座標として、各ポリゴンの各頂点座標を補正することで、しきい値に依存することなく正確に対象物の３次元画像を得る。 （もっと読む）

【課題】 被検査物を移動させながら行うＸ線検査において、被検査物中の異物を検出するための管電流や管電圧等の強度レベル等を適切に容易に決定することができるＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】 Ｘ線源１とＸ線検出器３との間で、基準検査物又は被検査物７を搬送する搬送機構５と、第一設定時と、第二設定時と、第三設定時とに、検出信号に基づいて、Ｘ線透過像データを作成して記憶させるＸ線透過像データ記憶制御部３２と、置換表を作成して記憶させる第一設定部３８と、管電流及び／又は管電圧の強度レベルを決定する第二設定部３５と、閾値パラメータを作成して記憶させる第三設定部３７とを備えるＸ線検査装置８０であって、Ｘ線透過像データ記憶制御部３２が、Ｘ線透過像データを作成して記憶させているときには、搬送機構５の駆動を停止する駆動停止信号を出力する搬送機構制御部３６を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ノッチ形状誤差等によるノッチ位置決め誤差が補正でき、半径方向結晶方位の測定の精度が高い結晶方位測定装置を提供する。
【解決手段】円筒状結晶２をその円筒軸に対し回転させる回転部１１と、円筒状結晶２を回転し、円筒状結晶２の周側面に設けられたノッチ２ａを基準に円筒状結晶２を位置決めする位置決め部１２と、円筒状結晶２が位置決めされると、回転軸に対するノッチ２の位置を測定するノッチ測定部１２と、周側面にＸ線を照射して半径方向の結晶方位を測定する結晶方位測定部１３と、結晶方位測定部１３で測定した結晶方位をノッチ測定部１２で測定したノッチの位置で補正して半径方向の結晶方位を求める補正部１４２とを備える。 （もっと読む）

【課題】メンテナンスコストを低減できる水分計測装置及び水分計測方法を提供することにある。
【解決手段】γ線源１は、被検査体４にγ線を照射する。中性子検出器６は、被検査体４に付着した水の中の重水素による（γ，ｎ）反応によって発生した中性子を検出する。ここで、γ線源１が照射するγ線のエネルギーを、重水素の（γ，ｎ）反応に対するしきいエネルギーよりも高く、被検査体４を構成している物質の（γ，ｎ）反応に対するしきいエネルギーよりも低いエネルギーとし、重水素の（γ，ｎ）反応により発生する光中性子を中性子検出器６で計測する。 （もっと読む）

【課題】厚さが厚い試料の分析に好適でかつ試料の材質の同定も行うことができる試料分析装置を提供する。
【解決手段】本発明の試料分析装置は、表面に部分的に凹部が存在するウエハ１８に荷電粒子を照射する照射系と、荷電粒子の照射に基づき試料の表面側から得られたルミネッセンスを集光する回転楕円反射鏡１７と、回転楕円反射鏡１７に導かれたルミネッセンスを検出する光検出器３３と、試料の表面から反射された反射荷電粒子を検出する荷電粒子検出器２５と、荷電粒子検出器２５の検出信号に基づき試料の形状を求めると共に光検出器３３の検出信号に基づきウエハ１８の材質を同定する信号処理部２４とを備え、照射系は荷電粒子をウエハに間欠的に照射するように制御され、信号処理部２４は荷電粒子の間欠照射終了時点から間欠照射開始時点までの期間における光検出器３３からの検出信号の減衰特性に基づき試料の同定を行う。 （もっと読む）

【課題】高い分析精度を維持しつつ、非常に短時間で分析を行うことができるアスベストの定量分析方法を提供する。
【解決手段】被検試料Ｓに含まれるアスベストの回折線強度を求め、検量線に基づいてその回折線強度からアスベストの重量を求める定量分析方法である。アスベストの回折線強度を求める際、受光スリット５のスリット幅をアスベストの回折線幅と等しい幅に設定し、その受光スリット５及びＸ線検出器８をアスベストの回折線角度位置（２θ）に停止させた状態でＸ線検出器８によって所定時間、回折線を計数する。受光スリット５及びＸ線検出器８のスキャンによってアスベストの回折線強度を測定することに比べて、測定時間を大幅に短縮できる。 （もっと読む）

【課題】 電子プローブマイクロアナライザを用いる地質年代測定と年代マップの表示を効率よく行う。
【解決手段】 （ａ）の分析領域Ｒに設定されているグリッド状の分析点（白丸で示す）と（ｂ）の分析領域に対応した反射電子像（原子番号の高い部分を黒く表示）の位置を対応させた状態が（ｃ）である。（ｄ）の棒グラフは、（ｃ）の直線Ｌ上に位置する分析点Ｌ１〜Ｌ１２における反射電子強度を表す。閾値Ｈ以上の反射電子強度を持つ分析点のみを測定対象とすると、（ｅ）中のＲ１〜Ｒ３は反射電子強度が閾値Ｈ以上の条件を満たす測定対象領域である。 （もっと読む）

【課題】半導体装置のパターン欠陥検査方法を得る。
【解決手段】重複パターンを除外した座標ファイルをもとに発生させた欠陥の発生しているパターンの画像データを参照することにより、欠陥検査機１が検出した箇所について、オペレータは、正確にレビュー検査を実行することができる。パターンの参照は、２値パターンを発生させ、レビュー箇所をナビゲートすることにより、行われる。 （もっと読む）

【課題】 Ｘ線測定装置の管理方法に関し、測定系の変動やサンプルの変化を早期に且つ的確に発見する。
【解決手段】 Ｘ線源４からの直接Ｘ線５を検出する点検用検出器１と、Ｘ線源４から試料を介した測定対象Ｘ線６を検出する測定用検出器２との２つのＸ線強度検出器のそれぞれの特性を測定し、測定結果に基づき測定用検出器２の安定性を確認する。 （もっと読む）

【課題】試料より発生する蛍光Ｘ線の強度が最大になるようにＸ線源からの一次Ｘ線の照射位置および照射角度を自動調整することにより、光学調整の熟練者でなくても、常に短時間で高感度、高精度の分析が行える蛍光Ｘ線分析装置を提供することを目的とする。
【解決手段】蛍光Ｘ線分析装置１は、制御手段２０により制御される各調整手段１９、２２、２３により調整されたＸ線管１１と分光素子１３の位置と角度と装置機構上の対応する位置と角度との差を各オフセット記憶手段２１、２４、２５にオフセットとして記憶し、分析条件設定手段に記憶したオフセットを付与し、試料１６より発生する蛍光Ｘ線１７の強度が最大になるようにＸ線管１１からの一次Ｘ線の試料１６への照射位置および照射角度を自動調整する。 （もっと読む）

【課題】口腔内で生息する細菌により産生される酸や生体内の疾患の炎症などにより変化する体液環境にも対応ができる化学的に安定な生体硬組織を提供することにある。
【解決手段】生体硬組織中の耐酸性関与物質を同定するに際し、スライスした生体硬組織試料２の各部の微小部Ｘ線回折法による定性分析を行い、前記スライスした生体硬組織試料を酸性溶液に浸漬して、溶解せずに残った部分の微小部Ｘ線回折法による定性分析を行い、前記酸性溶液への浸漬前後の前記生体硬組織試料の前記定性分析の結果を対比して、前記耐酸性関与物質を同定することを特徴とする、生体硬組織中の耐酸性関与物質の同定方法である。 （もっと読む）