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Fターム[2G001KA07]の内容

放射線を利用した材料分析 (46,695) | 分析の目的、用途、応用、志向 (3,508) | 応力;疲労 (48)

Fターム[2G001KA07]に分類される特許

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【課題】立方晶系の結晶構造を持つ金属材料に対して塑性歪を測定する。
【解決手段】結晶構造が立方晶系である金属材料の被測定部材、あるいは測定部材より採取した試験片の同一視野における変形前と変形後の結晶方位分布を取得する(S4,S7)。任意の結晶方位測定点と隣接する結晶方位測定点間における変形前と変形後の結晶方位分布より変形前と変形後の格子歪を求める(S5,S8)。変形前と変形後の格子歪から結晶内に蓄積した塑性歪を測定する(S3)。 (もっと読む)


【課題】高精度で安定して金属材料の継続使用の可否を評価することが可能な金属材料のクリープ損傷評価方法及びクリープ損傷評価装置を提供することを目的とする。
【解決手段】試験材料のクリープひずみ量と結晶方位分布との相関を予め求めておき、調査材料の結晶方位分布を測定して、予め求められた相関に当てはめることで調査材料のクリープひずみ量を推定する。推定された調査材料のクリープひずみ量を、試験材料が加速クリープ域に到達するひずみ量と比較することで、調査材料の継続使用の可否を判断する。 (もっと読む)


【課題】微小領域の歪みを簡単に測定できるようにする。
【解決手段】立方晶の金属組織に15nm〜100μm間隔で電子線を照射して、後方散乱電子回折像法より測定点毎に結晶方位を決定し、決定した結晶方位分布および隣接する前記測定点間の方位角度差より、格子歪を決定し、前記格子歪に基づいて金属組織上における残留応力分布を求める。また、求めた残留応力分布および測定対象の金属材料の降伏応力に基づいて塑性域と判定された領域において、前記方位角度差と前記金属材料の弾性限とに基づいて、塑性変形により生じた角度差を算出し、前記算出した角度差に基づいて、幾何学的に必要な転位の転位密度を予測する。 (もっと読む)


【課題】ナノビーム電子回折法の格子歪測定精度を向上し、結晶試料における局所領域の応力・格子歪を高精度に測定する。
【解決手段】回折スポット14と透過スポット15の間隔(あるいは異なる回折スポットの間隔)16(K)と格子面間隔dとの間には、K=1/dの関係がある。従って、スポット間隔Kの変化から格子面間隔の変化、すなわち格子歪を知ることができる。コンデンサレンズ絞り2を明瞭に観察することにより、回折スポット間隔の測定精度を高くする。この結果、格子歪の測定精度が向上する。そこで、電子回折図形を観察し記録するステップにおいて、コンデンサレンズ絞り2に焦点が合うように中間レンズ11を調整する。これにより、結晶試料4における局所領域の応力・格子歪を高精度に測定することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】特定の位置を高精度で検出できる、又は、位置を検出し、その検出したことを容易に知らせることができる位置計測方法及び位置計測装置を提供する。
【解決手段】位置計測システム1を用いた位置計測方法によれば、モータ42の回転軸4
3を回転させることで一対の永久磁石44、45が回転し、回転する一対の永久磁石44
、45から発生する回転磁束は、前記モータ42の回転軸43の延長線上に検出コイル6
1の不感帯部を形成するので、用前記検出コイル61の位置を変えながら当該検出コイル
61に誘起された信号を測定することで特定の位置を高精度で検出できる。 (もっと読む)


【課題】 走査型電子顕微鏡を有する光分析装置であって、簡便に試料交換が可能な装置および分光分析方法を提供する。
【解決手段】試料照射部、試料交換室および光検出器を具備した光分析装置であって、
前記試料照射部が、走査型電子顕微鏡、走査型電子顕微鏡から発せられる電子線が照射されるための試料が載置される試料台、ならびに前記試料から発せられる発光を通過させるための小孔を有する採光部を具備した試料照射部を具備し、試料台を試料照射部および試料交換室との間を移動可能とする移動手段を具備した光分析装置。
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【課題】実構造物の疲労強度を容易に正しく評価できる疲労試験機と疲労強度測定方法を提供することを目的とする。
【解決手段】試験体の疲労を試験する疲労試験装置であって、試験体における被測定部位の残留応力を測定するX線残留応力測定装置と、試験体における被測定部位の応力振幅を測定する応力集中ゲージを備えることを特徴とする、疲労試験機が提供される。実構造物で測定された残留応力および応力振幅を再現させるように、試験体の被測定部位に所定の残留応力および応力振幅を加えて疲労試験を行うことにより、構造物の疲労強度を正確に評価できるようになる。 (もっと読む)


【課題】試料面における応力の分布を、測定位置を限定することなく短時間で測定できるようにする。
【解決手段】本発明の試料分析装置1によれば、X線照射部10が試料12に対して平行X線束を照射する。そして、透過X線検出部14は、試料12を透過した透過X線を検出する。また、回折X線検出部15は、試料12で回折された回折X線を検出する。演算部16は、透過X線検出部14の検出結果から、試料12における回折位置を特定すると共に、回折X線検出部15の検出結果に基づいて、回折X線の回折角を判定する。さらに、演算部16は、回折角から応力を計算し、計算した応力を特定した回折位置の応力と判定する。 (もっと読む)


【課題】被測定物に発生しているひずみを測定するひずみスキャニング法において、一方向の測定のみで、解析的な補正を加える必要がなく、正しい回折角を測定できる技術を提供する。
【解決手段】試験片24の表面24AにX線を照射し、試験片24を透過した回折X線の回折角2θから試験片24のひずみを測定する。試験片24を移動及び回転する測定位置変更工程と、前記測定位置変更工程により測定位置を変更した試験片24に所定の光束の測定波を照射する照射工程と、試験片24中及び/又はその近傍に設定される測定領域から透過回折された回折測定波たる回折X線を検出する検出工程とを備え、照射された所定の光束のX線による公称ゲージ体積の中心Sを回転中心にして試験片24を回転するから、表面効果の影響をキャンセルし、正確な測定が可能となる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、装置の高さが低く、広角度のX線が入射でき、かつ、任意の応力が保持できる応力保持装置およびX線回折装置を提供することを課題とする。
【解決手段】少なくとも一対の楔13,14を用いて荷重方向を変換し、平板状の試験体1に四点曲げの負荷を付与することにより均一な応力状態が保持され、さらに、試験体1と楔13,14との間にひずみゲージからなるロードセル15を取り付けた平板を設置し、試験体1に加わる負荷を任意に設定できる装置を構成する。 (もっと読む)


【課題】結晶性試料を傾斜させずに該結晶性試料を評価することが可能な試料評価装置及び試料評価方法を提供すること。
【解決手段】試料Sに電子線EBを透過させることによりZOLZ図形39を得るステップS1と、ZOLZ図形の幾何学的特徴と、試料厚さ及び格子湾曲量との対応関係に基づいて、電子線EBが透過した部分の試料Sの厚さtと格子湾曲量Δθとを求めるステップS2とを有する試料評価方法による。 (もっと読む)


本発明は、分析平均面(analysis mean plane)(4)を画定する試料(1)の分析ゾーン(2)を放射する、一定の入射方向(3)で放出されるX線ビームの発生部(10)と、前記放射された分析ゾーン(2)で回折したX線を少なくとも1次元座標上で検出する検出器(30)と、を備えた試料(1)のX線解析装置において、更に、前記試料(1)と検出器(30)の間に配置され、前記分析平均面(4)に含まれる回転軸(5)を中心に回転する周面の一部を切り取った面(partial
surface)からなるX線回折面(21)を含むアナライザシステム(20)を備え、前記回転軸(5)は前記X線の入射方向(3)とは異なる方向で前記分析ゾーン(2)の中心を通り、前記回折面(21)を経て前記検出器(30)に向かって回折されたX線を出射させるように前記回折面(21)が配置されることを特徴とする。
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【課題】被検体に荷重を負荷しながら、CT装置と連動して一連の過程を撮影することが可能な動態撮影システムを提供する。
【解決手段】本発明によって、荷重負荷制御装置10と、被検体を撮影するCT装置1100と、CT制御装置1000と、を備える動態撮影システムであって、前記荷重負荷制御装置10は、入力装置100と荷重を制御する荷重制御部200とX線透過性を有する支持板901と前記被検体を固定する固定部800と荷重負荷部330と荷重検出値Fを生成する荷重検知部400とを備え、前記固定部800と荷重負荷部330及び荷重検知部400は前記支持板901上に固定され、前記荷重負荷部330は、前記荷重検出値Fに基づいて被検体に負荷される荷重を制御し、前記CT制御装置1000は、前記荷重制御部200からの指示情報に基づいて前記CT装置1100による撮影を制御することを特徴とする動態撮影システム。 (もっと読む)


【課題】 試料に対しゴニオメータの本体を駆動させることなく残留応力測定が実施できるようにする。
【解決手段】 試料を面内回転させるφ回転機構11と、試料面Saと直交する仮想平面に沿ってX線源20を回転させて、入射X線の試料面Saに対する角度ωを設定するθs回転アーム42と、仮想平面と同一又は平行な仮想平面に沿ってX線検出器30を回転させるθd回転アーム43と、θd回転アーム43によるX線検出器30の回転軌道面と直交する仮想平面に沿ってX線検出器30を回転させる2θχ回転アーム45とを備える。これらφ回転機構11、θs回転アーム42、θd回転アーム43、及び2θχ回転アーム45の各回転角度は、残留応力測定法で用いられるあおり角(α)、試料の面内回転角度(β)、及び回折線の検出角度(2θ)の設定に基づいて制御される。 (もっと読む)


【課題】微細X線ビームを試料に照射するX線装置において、XYZφステージ上の試料位置を正確な位置に調整する。
【解決手段】X線ビーム2’をXZ面に入射し、X軸を移動して回折X線2a強度が急変するX座標X1、X2を基準として試料1面内の位置を決定する。また、Z軸廻りに180度φ回転をした前後に読み取られる座標Xの値X' ob、Xobの差ΔXを求め、ΔZ=ΔX・tanθ/2(θは入射角)としてZ軸をΔZ補正する。XY面と試料表面1aがずれていると、Z軸廻りの回転によりX線ビームの位置がX軸に対してずれる。このずれは回転前後に読み取られる座標の差ΔXとして観測されるので、このずれを補正することができる。 (もっと読む)


【課題】被測定物の応力を非破壊で測定する。
【解決手段】希土類元素を含有した被測定物にレーザーまたは電子線を照射して、発生した蛍光スペクトルのピーク波数が応力によってシフトする量を測定することによって応力を測定する。凹凸のある被測定物の蛍光スペクトルのピーク強度ができるだけ高く安定するように、被測定物を揺動させて向きを調節する。これによって被測定物の形状、種類等に影響されずに、製品あるいは製品を構成する部材、素子などの応力や歪を非破壊で測定することが可能となる。また、本発明は、希土類元素の発する蛍光を利用するので、高温で変性することがなく、セラミックスなどの、高温で形成する固体物質にも適用可能である。 (もっと読む)


【課題】収束電子回折法を利用した格子歪み及び応力測定法において、HOLZ線の特定精度を高くして、測定精度を高くする
【解決手段】被測定物である結晶材料2に収束電子1を入射して得られるホルツ(HOLZ)図形のHOLZ線の位置に応じて、結晶材料の格子歪みを定量化する格子歪み測定方法において、ホルツ図形から抽出される複数の点の座標をハフ変換してハフ変換画像に置き換え、複数のハフ変換画像の多重点を抽出し、当該多重点を逆変換してホルツ図形のホルツ線を特定する。そして、特定されたホルツ線の位置に応じて、結晶材料の格子定数を定量化する。測定作業者による恣意的なホルツ線の特定工程を伴わずに、所定の演算工程によりホルツ線を特定することができるので、ホルツ線の特定精度を高くすることができる。 (もっと読む)


【課題】
簡単な構成でありながら、エネルギ線の照射位置と集光ミラー部の焦点との位置調節を容易にすること及び振動などによる集光ミラー部の位置ずれを防ぐことである。
【解決手段】
エネルギ線EBを試料Wに照射することにより生じる光を測定する試料測定装置1であって、エネルギ線EBを収束させる鏡筒部23と、前記鏡筒部23及び前記試料Wの間に設けられ、前記鏡筒部23で収束されたエネルギ線EBを通過させ、そのエネルギ線EBを試料Wに照射するためのエネルギ線通路312と、その通路312の軸線上に焦点Fが設定されたミラー面311と、を有し、試料Wから生じる光Lを前記ミラー面311により集光する集光ミラー部31と、を備え、前記エネルギ線EBの軸と前記焦点Fとを一致させるように、前記鏡筒部23に前記集光ミラー部31を支持させている。 (もっと読む)


ラップ加工に用いられる粒子を含む研削材(砥粒)の圧潰強さを測定する方法及び装置が提供される。実施形態としての圧潰強さ試験機は、研削材を保持するカップと、カップを第1の方向に回転させる第1のモータと、カップ内に回転可能に嵌まり込んで研削材に接触するピストンと、ピストンを第1の方向とは逆の第2の方向に回転させる第2のモータと、第1及び第2のモータが回転している間にストンを研削材に押し付けて粒子を圧潰するプレスとを有する。粒子の初期粒径分布を求め、次に研削材に圧潰強さ試験機を用いてラップ加工の圧潰力にほぼ等しい圧潰力を及ぼす。粒子の圧潰後粒径分布を求め、初期粒径分布と圧潰後粒径分布を比較する。 (もっと読む)


【課題】 X線管から出射されたX線ビームが試料に到達するまでの光路における強度の減衰を極力小さくすることにより、不均一な結晶構造を有する試料の局所構造情報を備えるX線回折図形を、実験室や現場で短時間且つ簡単に取得することを可能とするX線回折分析技術を提供する。
【解決手段】 固定保持されている試料(1)を照らす入射X線(8)として所定の元素の特性X線を発生させるX線管(9)が固定保持される位置が、入射X線(8)が試料(1)の被測定領域(A)全体を照らすことのできる位置であって且つ試料(1)と接触しない範囲で限りなく試料(1)に接近した位置である。 (もっと読む)


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