【課題】繰り返しパターンの線幅を測定可能であるとともに、繰り返しパターンの下層部の状態を検出可能な表面検査方法および装置を提供する。
【解決手段】所定の繰り返しパターンを有するウェハの表面に直線偏光を照射する照射ステップ（Ｓ１０４）と、直線偏光が照射されたウェハの表面からの反射光を受光する受光ステップ（Ｓ１０５）と、対物レンズの瞳面と共役な面において、反射光のうち直線偏光の偏光方向と垂直な偏光成分を検出する検出ステップ（Ｓ１０６）と、検出した偏光成分の階調値から繰り返しパターンの線幅および繰り返しパターンの下層部の状態を求める演算ステップ（Ｓ１０７）とを有し、演算ステップでは、瞳面において線幅との相関が高い線幅感応瞳内位置での階調値から線幅を求めるとともに、線幅変化の影響を受けない線幅不感応瞳内位置での階調値から繰り返しパターンの下層部の状態を求める。 （もっと読む）

【課題】半導体処理中のオンザフライ自動検出分類（ＡＤＣ）システムおよび方法を提供する。
【解決手段】このシステムの一実施形態において、光源、例えば、レーザ（２１）が検査を受けるウェーハ（２２）の狭い領域を照明する。４つの均等に配置した暗視野検出器、例えば、光電子増倍管またはＣＣＤ（２６〜２９）が、それぞれの視野が重複して検出ゾーンを形成するようにウェーハの縁に載置される。１以上の検出器（２６〜２９）の方向に散乱された光が集光され、アナライザモジュール（３４）に伝送される電気信号に変換される。アナライザモジュール（３４）は、ウェーハにある欠陥を検出し、それらを異なる欠陥タイプに分類するように作用する。任意に、システムは、暗視野検出器も含む。 （もっと読む）

【課題】リードと半田付けされた部位を鮮明に識別することにより、検査の精度を向上した基板検査装置を提供する。
【解決手段】電子部品の半田付け状態を検査する基板検査装置１において、内面が反射面１２とされた反射部材１１の基板側周囲部１５に複数個設置され、反射面１２側に白色光を出射する白色ＬＥＤ１３と、反射部材１１の基板側周囲部１５に複数個設置され、基板面７１に対して略平行な方向に向けて着色光を出射する赤色ＬＥＤ２１と、基板面７１を撮影するＣＣＤカメラ３０と、白色ＬＥＤ１３と赤色ＬＥＤ２１を同時に発光させて、ＣＣＤカメラ３０による基板面７１の撮影を行い、ＣＣＤカメラ３０で撮影された画像中に所定の領域を設定し、設定された所定の領域中に含まれる着色領域を求め、所定の領域中に含まれる着色領域に基づいて、リード７２の半田付けが良好であるか否かを判定するＣＰＵ５１と、を有する。 （もっと読む）

【課題】処理装置によって基板上に成膜する処理を含む製造プロセスによって製造される又は製造された製造品について、上記基板上に異常が生じたか否かを検査するマクロ検査方法であって、マクロレベルの異常を客観的に検出することができるものを提供すること。
【解決手段】或る処理装置による処理を受けた後の製造品を撮像して検査対象マクロ画像を取得する一方、その製造品がその処理装置による処理を受ける以前に、その処理装置による処理を受けた同種の製造品を撮像して得られたマクロ画像の中から、比較の基準となる比較基準マクロ画像を用意する（Ｓ１０１，Ｓ１０２）。検査対象マクロ画像と比較基準マクロ画像との間で、互いに類似している程度を定量的に表す類似度を算出する（Ｓ１０３）。類似度が予め決められた管理範囲から外れたかどうかを判断する（Ｓ１０４）。 （もっと読む）

【課題】従来の画像処理による自動検卵機構を改良する。
【解決手段】有精卵を配置する検査用ホイルと有精卵内部に光を当てる照射手段と卵内部のカラー画像を撮像するカラーＣＣＤカメラを備えた画像撮像と撮像した卵画像を用いて正卵判定する非破検査部とを備えた有精卵の検査装置において、割卵機から供給される液卵を収容して搬送されるカップを検知するセンサーと，該センサーのカップ検知によりＣＣＤカラーカメラで液卵の画像を取り込む画像処理装置と、該画像処理装置に割卵機制御装置を介して不良液卵をカップから排出させる分別機構により、出力トリガ信号を送信する出力バッファとから構成されることを特徴とする画像受理による自動検卵機構の提供。 （もっと読む）

【課題】長手方向に連続的に入った表面疵を精度よく検出することができるようにする。
【解決手段】長尺の被検査材２の表面を照明する照明手段１６と、被検査材２の表面を撮像する撮像手段１７と、この撮像手段１７にて撮像された被検査材２の表面の画像を処理して欠陥部２０を抽出する画像処理手段１８とを備えた表面検査装置１５において、照明手段１６を当該被検査材２の周りに揺動又は回転させる移動手段１９を備えている。移動手段１９は、被検査材２を囲うように形成され且つ照明手段１６が被検査材２を向くように当該照明手段１６を支持する支持部材２１を備え、この支持部材２１は照明手段１６が被検査材２の周りを揺動又は回転できるように移動自在となっている。 （もっと読む）

【課題】レティクルの設計パターンにおける欠陥を検出するためのコンピュータに実装された方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィック変数の異なる値に対する該レティクルの画像を取得する工程において、画像は、ノミナル値で得られた二つまたはそれ以上の参照画像および一つまたはそれ以上の変調された画像を含む、該取得する工程と、該二つまたはそれ以上の参照画像から複合参照画像を生成する工程と、を含むことを特徴とする方法。 （もっと読む）

【課題】透明部品の表面状態を正確に、かつ容易に検査する。
【解決手段】測定対象の表面を撮像する撮像装置１０と、測定対象の表面に光を照射する照射部２０と、撮像装置１０の焦点位置と測定対象の表面の相対位置を制御する制御部３０と、撮像装置１０が撮像した画像の輝度を検出する検出部４０と、を備え、制御部３０は、撮像装置１０の焦点位置を、測定対象の表面に合わせた第１の焦点位置と、第１の焦点位置とは異なる第２の焦点位置に制御し、検出部４０は、第１の焦点位置において検出した輝度と、第２の焦点位置において検出した輝度との差から、測定対象の表面にある異物又はキズを検知する。 （もっと読む）

【課題】 表面実装部品がはんだ付けされた基板上をレーザ変位計で走査することによりはんだ付けされた表面実装部品の高さを効率良く高精度で測定し、虚報率を抑えながら表面実装部品の電極のはんだ付けを精度良く良否判定する。
【解決手段】 レーザ計測手段で計測された基板表面にはんだ付けされた個々の表面実装部品の変位量の最小高さと最大高さと、あらかじめ指定してデータベースに格納した前記表面実装部品の高さ範囲とはんだ材の厚み範囲とを照合し、前記表面実装部品のはんだ付け状態を論理判定する。 （もっと読む）

【課題】検査対象物の表面に所定の方向に延伸するキズではない凹凸や模様が存在する場合であっても、当該凹凸や模様の影響を抑制もしくは除去できる表面検査方法を提供すること。
【解決手段】検査対象物９の検査対象領域を撮像して画像データを作成し、互いに直交するＸ軸方向とＹ軸方向に沿って画像データの各画素の輝度値を微分する処理を行い、画素ごとにＸ軸方向の微分値とＹ軸方向の微分値を成分とするベクトルを算出し、各画素のベクトルのＸ軸に対する角度の度数を計測して度数の高い角度に直角な方向を研削痕の延伸方向であると特定し、画像データの各画素のうちの度数の高い角度のベクトルの画素の輝度値を弱める補正を行うか、または度数の高くない角度のベクトルの画素の輝度値を高める補正を行い、補正した画像データを二値化し、二値化した画像データに基づいてキズを検査する。 （もっと読む）

【課題】カラー画像に基づいて高精度に外観の良否判定ができる外観検査装置を提供する。
【解決手段】輝度平均値算出部１２は、各フィルタ画像データＤrf，Ｄgf，Ｄbfからそれぞれ輝度平均値Ａvr，Ａvg，Ａvbを求める。平均値比較部１３は、その求めた輝度平均値Ａvr，Ａvg，Ａvbから、ルックアップテーブルＬＴを使って、異物と背景色とのコントラストが最も大きいフィルタ画像データを選択する。そして、異物判定処理部１４は、その選択した異物と背景色とのコントラストが最も大きいフィルタ画像データに基づいて画像処理を行う。従って、各フィルタ画像データＤrf，Ｄgf．Ｄbfの中から、異物と背景色とのコントラストが最も大きいフィルタ画像データを使って画像処理を行い異物と背景色との判断を行うことから、閾値の設定も容易でかつ高精度の異物検出が可能となる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、スリットレーザ光等を、回転体状の測定対象に照射し、測定対象からの反射光を撮影した二次元画像に基づいて、回転体状かつ表面が高い反射率を有する測定対象の欠陥を高精度に検出する欠陥検査装置を実現することを目的とする。
【解決手段】本発明は、回転または直線移動する測定対象にスリット光を照射する光源と、前記測定対象からの反射光を受光してその二次元画像を出力する受光部と、前記二次元画像に基づいて、前記反射光がそのスリット幅に相当する領域以外の領域に現れるか否かによって、前記測定対象の欠陥を検出する欠陥検出手段と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】確認業務の精度を高めることができる確認業務支援システムを提供する。
【解決手段】本発明による確認業務支援システムは、少なくとも確認範囲を特定可能な確認範囲画像を含む確認情報を表示可能なヘッドマウントディスプレイ装置と、前記ヘッドマウントディスプレイ装置に設けられた撮影手段と、前記撮影手段が撮影した画像を用いた画像処理を行って、前記確認範囲中の異常箇所を判定する異常判定手段とを備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】反射防止フィルムに一定周期で発生する低コントラストの共通欠陥を容易に検出し、更に共通欠陥の発生原因を同定可能な反射防止フィルム検出装置を提供する。
【解決手段】基材を搬送する搬送手段と、基材を照明する手段と、基材を撮像して撮像画像を得る撮像手段と、所定の搬送長さ毎に撮像タイミング信号を発生する手段と、撮像画像を記憶保持する手段その（１）と、撮像画像を特定の周期で重ね合わせ処理を行い欠陥を検出する画像処理手段と、記憶保持された撮像画像から基材の搬送方向の濃度分布波形を求め、該濃度分布波形を解析して欠陥及び欠陥が発生する周期を求める手段と、重ね合わせ処理を行い検出された欠陥及び前記濃度分布波形を解析して検出された欠陥の画像を記憶保持する手段その（２）と、前記各手段を構成する各装置を制御する制御手段と、出力部と、を備えたことを特徴とする反射防止フィルム欠陥検出装置。 （もっと読む）

【課題】 欠陥検査方法、工程管理方法及び欠陥検査装置に関し、複数品種の電子デバイスの欠陥数データを同一のチャートにプロットして、工程管理を定期的に精度良く行う。
【解決手段】 電子デバイスチップが形成されたウェーハ表面に光を照射し、反射光強度を予め設定した閾値と比較してハレーションの有無を判定し、前記ハレーションの有無により前記ウェーハ中のハレーションのない領域の面積を算出し、前記測定した反射光強度の内の前記ハレーションのない領域の反射光強度について、互いに隣り合う前記電子デバイスチップ間で比較して欠陥の有無を判定し、前記判定結果より前記ウェーハ全体の欠陥数を集計し、前記集計した欠陥数を前記ハレーションのない領域の面積で割って実質欠陥密度を算出する。 （もっと読む）

【課題】ラックやピンホールなどの不良を確実に検出することができる検査方法および検査システムを提供する。
【解決手段】電解質と燃料極とからなるハーフセルＨＣの状態で、アルコール噴射器２により電解質に対してアルコールを噴射し、カメラ３によりアルコールが付着した電解質を撮像し、画像処理部４２によりカメラ３で生成された画像データに対して画像処理を行い、判定部４３により画像処理部４２の処理結果に基づいて電解質に不良が生じているか否かを判定する。これにより、クラックやピンホールなどの不良を確実に検出することができる。 （もっと読む）

【課題】高い精度で且つ高速に半田の状態の検査を行う。
【解決手段】
基板２０のリード穴２１に挿通された電子部品２２のリード２３と該基板２０とを接合する半田２４の状態を検査する半田検査方法であって、半田２４の上方に位置するカメラ１に対して基板２０の表面に平行な半田２４の平坦部分からの反射光が該半田２４の傾斜部分からの反射光に比べて強く入射するように該半田２４の上方から光を照射し、カメラ１によって半田２４を撮像し、カメラ１の撮像画像内の所定の検査ウィンドウ３２の輝度に基づいて半田２４の状態を検査する。検査ウィンドウ３２は、撮像画像におけるリード２３の外周より外側の領域の少なくとも一部分である。 （もっと読む）

【目的】信号振幅が低下したパターンが形成されたマスクを検査する場合であっても、検査で必要な十分なコントラストを得ることが可能な装置を提供することを目的とする。
【構成】実施形態によれば、パターン検査装置は、センサと、記憶装置と、階調変換部と、比較部と、を備えている。かかるセンサは、パターン形成された被検査マスクの光学画像を撮像する。記憶装置は、マスク種に応じて作成された複数の階調変換テーブルを記憶する。階調変換部は、前記記憶装置に記憶された複数の階調変換テーブルの中から前記被検査マスクの種類に対応する階調変換テーブルを選択し、選択された階調変換テーブルに沿って前記センサにより撮像された光学画像データの画素値を階調変換する。比較部は、階調変換された光学画像データの比較対象となる参照画像データを入力し、前記階調変換された光学画像データと前記参照画像データとを画素毎に比較する。 （もっと読む）

【目的】焦点位置の異なる検査画像を取得することでマスクの高精度な欠陥検出を実現するマスク欠陥検査装置を提供する。
【構成】光源と、光源から出射された光を第１および第２の検査光に分岐してマスクの同一面の異なる領域に照射する照明光学系と、マスクに照射された第１および第２の検査光を、第１および第２の像として同一像面に結像する結像光学系と、第１の像と第２の像を、それぞれ拡大する第１および第２の拡大光学系と、第１および第２の拡大光学系で拡大された第１および第２の像をそれぞれ撮像する第１および第２の画像センサと、第１および第２の画像センサで撮像された第１および第２の像の画像である、第１および第２の検査画像と、基準画像とを比較して前記マスクの欠陥を検出する比較部と、を備え、第１の拡大光学系の像面に対する焦点位置と、第２の拡大光学系の像面に対する焦点位置とを所定の量だけずらす機構を有することを特徴とするマスク欠陥検査装置。 （もっと読む）

【課題】液体系内に生成された沈殿物を評価する方法及び装置について記述している。
【解決手段】本発明の方法は、沈殿物に関連する高さの計測、ひいては、体積のデータの計測を実現するための情報を光学的に取得するステップを有している。液体系の単一のサンプルを処理することが可能であるが、本発明の方法は、複数のサンプルを処理することにより、沈殿物に関係するデータを高速で取得するのに特に適している。本発明の装置は、ワークステーション間において、且つ、沈殿物に関係する情報の取得に使用される関連した光学装置に対して、サンプルを移動することが可能な自動運搬装置を備えている。 （もっと読む）