【課題】マスク基板に対して洗浄加工を行なった場合の洗浄加工後にマスク基板に残る欠陥が洗浄加工プロセスによるものなのか、マスク基板自体の内部欠陥によるものなかを容易に判定する。
【解決手段】第１及び第２の受光手段に受光された散乱光に基づいて基板の両面（表面及び裏面）に存在する欠陥を検出することができるので、基板の洗浄加工の前後で両面の欠陥の存在位置をそれぞれ比較することによって、洗浄加工によって基板両面に存在していた欠陥が除去されたか否かを容易に判定することができる。すなわち、基板の洗浄加工処理によって基板から所定数の欠陥が除去されなかった場合には、マスク基板の内部に欠陥が存在する可能性が高いので、基板内部の欠陥の検出処理行い。その結果に基づいて洗浄加工によって除去できなかった欠陥が基板内部の欠陥であるのか、洗浄加工プロセスの問題によるものかを容易に判定することができるようになる。 （もっと読む）

【課題】ガラス板上に形成された電極パターンの形状欠陥部を少ない測定回数で精度よく検出できる検査装置、検査方法およびこれらを用いた画像表示用パネルの製造方法を提供することを目的としている。
【解決手段】電極パターンを有するガラス板（被検査物１０６）の裏面に光を照射する第１投光装置１０１と、ガラス板の表面に斜め方向から光を照射する第２投光装置１０９と、ガラス板の表面を撮像する撮像装置１０２と、ガラス板の表面を撮像装置１０２に結像させるレンズ系１０３と、撮像装置１０２で撮像したガラス板の表面の画像を画像処理して、電極パターンの形状欠陥部を検出する処理装置とを備え、第１、第２投光装置１０１、１０９による照明条件が、ガラス板の内部に形成された内部気泡の画像、ガラス板の画像、電極パターンの画像の順に輝度が高くなるように設定されている。 （もっと読む）

【課題】検出光学系で検出された検査光の照度分布に適合するようにしきい値の設定が可能な欠陥検査装置を実現する。
【解決手段】検出光学系で検出された光の照度分布を取り込み、取り込んだデータを基に、検出光学系の画素毎にしきい値を算出する。次に、検査結果データから、しきい値係数の変更による検査結果の再計算を可能とし、アシストツール画面(ＧＵＩ)上に表示させ、検出欠陥の観察も可能とする。また、複数個のしきい値係数の算出ができ、アシストツール画面(ＧＵＩ)上にそれぞれのしきい値係数で再算出した結果を表示させることができる。したがって、ＴＤＩセンサに取り込まれる光の照度分布に適合したしきい値を設定することができる。つまり、光学部品の劣化や装置固有の照射系、検出系の特性に適合したしきい値を設定することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】液体系内に生成された沈殿物を評価する方法及び装置について記述している。
【解決手段】本発明の方法は、沈殿物に関連する高さの計測、ひいては、体積のデータの計測を実現するための情報を光学的に取得するステップを有している。液体系の単一のサンプルを処理することが可能であるが、本発明の方法は、複数のサンプルを処理することにより、沈殿物に関係するデータを高速で取得するのに特に適している。本発明の装置は、ワークステーション間において、且つ、沈殿物に関係する情報の取得に使用される関連した光学装置に対して、サンプルを移動することが可能な自動運搬装置を備えている。 （もっと読む）

【課題】ＲＧＢ画素部のフォトレジストの膜厚ムラや素ガラス部のＢＭパターン、ＲＧＢパターン、ＰＳ／ＶＡパターンやマークや品種番号のパターン欠けや高さ不良の発生を防止するムラ検査装置を提供する。
【解決手段】カラー液晶表示装置に用いるカラーフィルタ基板を製造する工程において、ガラス基板に塗布されたフォトレジストの膜厚ムラを検査する装置であって、ガラス基板を搬送する搬送手段と、前記搬送されるガラス基板を照明する照明手段と、前記照明されたガラス基板を撮像する手段と、撮像された画像を処理する画像処理手段と、前記画像処理された画像に基づいて、ガラス基板の着色画素部のフォトレジストの膜厚ムラを判定する判定処理手段と、着色画素部外の素ガラス部のフォトレジストの膜厚ムラを判定する判定処理手段と、を備えたことを特徴とするカラーフィルタ基板のムラ検査装置。 （もっと読む）

【課題】ガラス板上に形成された電極パターンの形状欠陥部を少ない測定回数で精度よく検出できる検査装置、検査方法およびこれらを用いた画像表示用パネルの製造方法を提供することを目的としている。
【解決手段】電極パターンを有するガラス板（被検査物１０６）の表面に光を照射する投光装置１０１と、この電極パターンを撮像する撮像装置１０２と、電極パターンを撮像装置１０２に結像させるレンズ系１０３と、撮像装置１０２で撮像した電極パターンの画像と予め登録した電極パターンの原画像とを比較して電極パターンの形状欠陥部を検出する処理装置とを備え、電極パターンで反射した反射光の輝度と、ガラス板で反射した反射光の輝度との差が所定以上になるように投光装置の光量が設定されている。 （もっと読む）

【課題】ユーザの意図を反映可能な分類条件設定機能を有する二分木構造を用いて欠陥を分類する装置の提供。
【解決手段】欠陥検査装置から取得される検出信号を基に抽出される欠陥の特徴量に基づいて二分木構造の分類器を用いて欠陥を分類する欠陥分類方法であって、予め欠陥クラスと対応付けられた特徴量データとの教示に基づいて、二分木構造の分岐点毎に、分岐の両側のグループにそれぞれ属する欠陥クラス、分岐に使用する特徴量および判別基準からなる分岐条件を設定することにより前記二分木構造の分類器を構築する分類器構築過程を有し、該分類器構築過程において、さらに予め欠陥クラス毎並びに全体および最悪のピュリティおよびアキュラシーの目標分類性能について優先順位をつけて指定しておく優先順位指定過程と、前記設定した分岐条件による前記指定した目標分類性能を満足するか否かを項目毎に評価して該項目毎の評価結果を表示する。 （もっと読む）

【課題】プリント基板の検査の開始に先立って、良品のプリント基板の撮像や基準データの登録を不要とし、１枚目から検査することができるプリント基板の検査装置
【解決手段】この発明は、検査対象であるプリント基板を撮像したプリント基板のカラー画像を取得する画像取得手段と、当該取得したプリント基板のカラー画像を色の差異に応じて複数の領域に分割する領域分割手段と、当該分割された各領域内の色の特異な部分を特定する色検査手段と、その分割された各領域の輪郭を抽出する輪郭抽出手段と、当該抽出された各輪郭に基づいて各領域の形状の異常の有無を検査する形状検査手段と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】
試料全面を短時間で走査し，試料に熱ダメージを与えることなく微小な欠陥を検出することができるようにする。
【解決手段】
光源から発射されたパルスレーザをパルス分割し、パルス分割したパルスレーザを回転しながら一方向に移動している試料の表面に照射し、パルス分割されたパルスレーザが照射された試料からの反射光を検出し、反射光を検出した信号を処理して試料上の欠陥を検出し、検出した欠陥に関する情報を表示画面に出力する欠陥検査方法において、パルス分割したパルスレーザの光強度の重心位置をモニタし、モニタしたパルス分割されたパルスレーザの光強度の重心位置を調整するようにした。 （もっと読む）

【課題】検出または検査されるべき物体が位置する可能性のある二次元視野のデジタル画像を取得し、画像の分析と物体の状態の決定と記録を行う、物体の自動光電子検出および検査のための方法および装置を提供する。
【解決手段】決定は、物体が視野に位置する複数の画像から得られる証拠に基づき、一般に複数の視点に対応して行われる。物体が視野に位置する証拠は、検出のために使われ、物体が適切な検査基準を満たす証拠は検査のために使われる。複数の視点が継続動作中の物体に対し得られるように高速で画像を取得し解析するための方法および装置が開示される。 （もっと読む）

【課題】低い検査頻度で高精度のパターン検査を実現する。
【解決手段】実施形態によれば、経時的に変化するパターンを検査する方法が提供される。該方法は、同一の検査対象パターンについて任意の時期における輪郭形状を予測する工程と、上記検査対象パターンの要求仕様に応じた閾値を設定する工程と、上記予測された輪郭形状と上記閾値とから上記検査対象パターンが上記要求仕様を満たさなくなる時期を予測する工程と、を備える。上記検査方法は、上記同一の検査対象パターンについて異なる時期に撮像して画像を得る工程と、得られた複数の画像の輪郭をそれぞれ検出する工程と、検出された、異なる撮像時期の輪郭同士でマッチングを実行する工程と、該マッチング後に、対応する輪郭同士の差を求めて差分ベクトルを生成する工程とをさらに備え、上記輪郭形状は、生成された該差分ベクトルと上記撮像時期の間隔とに基づいて予測される。 （もっと読む）

【課題】サンプリング単位を従来よりも小さくした場合、欠陥がサンプリング単位を跨る場合が増える。その結果、分類精度が悪化してしまう。
【解決手段】基板を検査する検査装置において、光を基板へ照射する光学系と、前記基板からの光を検出する複数の検出器と、前記複数の検出器ごとの検出結果を閾値処理する第１の処理部と、前記検出器ごとの閾値処理結果の論理和を取る第２の処理部と、前記論理和結果についてラベリング処理を行う第３の処理部と、前記ラベリング処理結果から領域情報を算出する第４の処理部と、前記ラベリング処理結果から指向性情報を算出する第５の処理部と、前記領域情報と前記指向性情報とを使用して欠陥の種類を特定する第６の処理部と、を有する。 （もっと読む）

【課題】 製造ラインに新たな製品種別が追加された場合であっても、比較的容易にしきい値を決定することができる欠陥検査方法を提供する。
【解決手段】 ウエハの表面にレーザビームを入射させて、該表面からの散乱光の強度分布に基づいて欠陥を検出し、検出された欠陥に起因する散乱光の強度と判定しきい値とを比較して、比較結果に基づいて欠陥が計数される。まず、（ａ）第１の工程の処理が終了した第１の製品種別のウエハの欠陥検査要求があると、該第１の製品種別の該第１の工程に関連付けられた判定しきい値が既に登録されているか否かを判定する。（ｂ）工程ａで、判定しきい値が既に登録されていると判定された場合には、既に登録されている判定しきい値に基づいて欠陥を計数し、まだ登録されていないと判定された場合には、新に判定しきい値を決定して欠陥を計数するとともに、新に決定された判定しきい値を、第１の製品種別の第１の工程に関連付けて登録する。 （もっと読む）

【課題】輪郭線近傍の欠陥であっても高い精度で存在を検出することができ、高い精度で良品判定を行うことができる画像処理装置、画像処理方法、及びコンピュータプログラムを提供する。
【解決手段】取得した各第一の多値画像の画素ごとに、異なる二方向におけるエッジ強度を算出し、各第一の多値画像の画素ごとに、異なる二方向におけるエッジ強度の平均値を算出する。算出した平均値を中心として、各第一の多値画像の画素ごとに、異なる二方向におけるエッジ強度の相互相関分布領域を算出する。判定対象物に関する第二の多値画像の画素ごとに、異なる二方向におけるエッジ強度を算出し、算出した第二の多値画像の画素ごとのエッジ強度が、算出してある各第一の多値画像の画素ごとのエッジ強度の相互相関分布領域に含まれているか否かを判断する。 （もっと読む）

【課題】簡易な装置を用いて、複雑な形状のワークに対しても、精度良く欠陥を検出することができる欠陥検出方法および欠陥検出装置を提供することを目的としている。
【解決手段】視点Ｓ１から撮像した検査画像Ｇ１と、視点Ｓ２から撮像した検査画像Ｇ２と、視点Ｓ１から撮像した良品画像Ｌ１と、視点Ｓ２から撮像した良品画像Ｌ２と、を取得して、検査画像Ｇ１と良品画像Ｌ１の、輝度比Ｒ１を表した画像である第一のコントラスト画像Ｃ１と、検査画像Ｇ２と良品画像Ｌ２の輝度比Ｒ２を表した画像である第二のコントラスト画像Ｃ２と、を生成するとともに、各コントラスト画像Ｃ１・Ｃ２の輝度比の差分ΔＲを表した差分画像ΔＣを生成して、差分画像ΔＣにおいて、輝度比の差分ΔＲが閾値αを越えている各画素８ａ・８ａ・・・を検出するとともに、検出した各画素８ａ・８ａ・・・が連続する範囲の面積が、閾値βを越えている範囲を欠陥部として検出する。 （もっと読む）

【課題】ウェーハの画像から適切に欠陥を検出することができるようにする。
【解決手段】画像中のウェーハＷの検査対象の領域内の各画素について、所定の直線方向に並ぶ複数の画素中の当該画素を含む所定の範囲内の複数の画素の輝度を平均した移動平均輝度を算出し、各画素における移動平均輝度と、各画素の輝度との差分値を算出し、各画素についての差分値と、閾値とを比較することにより、各画素が欠陥候補画素であるか否かを判定し、欠陥候補画素に基づいて、ウェーハにおける欠陥を検査する画像処理部６ｂを有するように構成する。 （もっと読む）

【課題】補正パターンを有するフォトマスクの欠陥検査において、補正パターンに由来する欠陥を除外すること。
【解決手段】本発明に係る検査装置１０は、結像面に転写される主パターンと、主パターンに対して光学近接効果補正を行う補正パターンとを有するフォトマスクを検査する。検査装置１０は、照明光源１１１と、照明光源１１１からの光を集光して前記フォトマスクに照射する光学系と、フォトマスク２０の透過像を取得する検出器１４２と、検出器１４２により得られた透過像と補正パターンのみに対応する検索画像とを用いて補正パターンに対応する除外領域を決定し、当該除外領域を欠陥検出から除外するためのフィルタを生成する処理部３０と、フィルタを用い、除外領域を除外して欠陥検査を行う欠陥判定部とを備える。 （もっと読む）

【課題】剛性シャフトからの弾性層の剥離を、大掛かりで高価な装置を用いる必要なしに、簡易・迅速に、かつ客観的・定量的に検知することができる、ローラの弾性層の剥離検査方法を提供する。
【解決手段】剛性シャフト２ａの周りに全周にわたって弾性層２ｂを固着させてなるローラ２の、前記弾性層２ｂの剛性シャフト２ａからの剥離を検査するに当り、ローラ２を、少なくとも一方が透明ないしは半透明の二枚の平板１，３間に、８０〜９５％の範囲の圧縮率で挟み込んだ状態で、該二枚の平板１，３の相互を、ローラの軸線方向と交差する方向に相対的に往復変位させながら、弾性層２ｂへの膨らみの発生による、剥離の顕在化によって弾性層の剥離を検知する。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、本高速でパターンドメディア表面やスタンパのパターン形状の整形不良を検査できるパターン形状検査装置または検査方法並びにパターンドメディアディスク製造ラインを提供することである。
【解決手段】
本発明は、パターンが形成された被検査対象を載置して回転させながら半径方向に移動させ、前記被検査対象に対して遠紫外光を含む広帯域の照明光を斜め方向から照射し、該照射光学系で照射された被検査対象から発生する０次反射光を検出し、前記検出された０次反射光を一定の波長幅を有するチャンネル分光データを得、該チャンネル分光データが設定許容範囲内に存在するか判断し、前記判断結果を基に前記被検査対象に形成されたパターン形状を検査することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】形鋼のウェブ検査面の表面に存在する可能性のある表面欠陥を正確に検出すること。
【解決手段】本発明に係る表面欠陥検査装置は、変調された線状のレーザ光を照射して形鋼によって反射された線状のレーザ光を撮像し、形鋼の光切断像を生成する遅延積分型撮像装置により生成された光切断像から得られる縞画像を利用し、形鋼の表面の凹凸状態を表す形状画像と形鋼の表面での粗度の相違を表す輝度画像とを生成する画像生成部と、輝度画像に基づいて形鋼のフランジ面のエッジ位置を検出するエッジ位置検出部と、検出されたエッジ位置と、形鋼の形状に関する情報と、形鋼撮像装置と形鋼との位置関係に関する情報とを利用し、形状画像のフランジ面に対応する部分を不感帯として算出するエッジ不感帯算出部と、形状画像のうち不感帯をのぞく部分を表面欠陥検出対象部分とし、当該表面欠陥検出対象部分に存在する表面欠陥を検出する欠陥検出処理部と、を有する。 （もっと読む）