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Fターム[2G051EB01]の内容

光学的手段による材料の調査の特殊な応用 (70,229) | 信号の比較、判別 (2,683) | 基準値、閾値の設定 (1,856)

Fターム[2G051EB01]に分類される特許

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【課題】 配線部分と樹脂フィルム部分のコントラストが大きくなるようにし、反射照明により配線パターンを容易に検出できるようにすること。
【解決手段】 配線パターンが形成されたTABテープ5は、送り出しリール11から巻きだされ検査部1に送られる。検査部1で、反射照明手段1aで照明し、撮像手段1bでTABテープ5上の検査パターンを撮像する。撮像された検査パターンの画像は制御部4に送られ、基準パターンと比較されパターンの良否が判定される。反射照明手段の1aの光源は、例えば波長500nm以上の光のみを放射する例えば赤外LEDである。TABテープ5を透過する波長500nm以上の光のみで照明するので、コントラストの良い画像を得ることができる。またステージ1cの赤外線反射率を10%以下としたり、ステージ1cを設けないことで、さらにコントラストのよい画像を得ることができる。 (もっと読む)


【課題】 スループットの高い表面検査装置を提供する。
【解決手段】 光源5からの放出される照射光を集光レンズ部6により平行光とし、ハーフミラー13により反射させて、対物レンズ2により被検査物1の被検査領域を落射照明する。被検査領域の像は、対物レンズ2を介して、ハーフミラー13を透過し、カメラ8により撮像される。カメラ8としては、カラー映像が撮像可能なCCDを撮像素子としたようなものが使用できる。この実施の形態においては、光源5として、輝度を調整しても、放出される光の分光スペクトルの変化が少なく、かつ、放出される光の分光スペクトルの時間変化が少ない発光ダイオードを用いている。 (もっと読む)


【課題】反射防止フィルムの欠陥検出を自動的に行うこと。
【解決手段】反射防止フィルム20の欠陥を検出する装置であって、所定の検査位置に配置された被検体である反射防止フィルム20にコヒーレントな検査光aを照射する光源部1と、検査光aが被検体で反射してなる反射光bを、検査光aの偏光方向と同一方向に偏光してなるP偏光成分と、P偏光成分と直交する方向に偏光してなるS偏光成分とに分離する偏光ビームスプリッタ15と、P偏光成分およびS偏光成分の強度と、良品の反射防止フィルムから得られるP偏光成分およびS偏光成分の強度との差が、それぞれ予め定めた第1および第2の閾値を超えている場合には被検体に欠陥有りと判定し、それぞれ第1および第2の閾値以内である場合には被検体に欠陥無しと判定する欠陥検出部23とを備える。 (もっと読む)


巻紙検査装置は、巻紙を巻き戻して連続排出する巻紙排出路に設けられて巻紙の一面を液体で濡らすノズルと、このノズルにより液体が濡らされた巻紙に光を照射して該巻紙を透過する光または巻紙により反射される光を撮像して映像信号を生成する撮像部と、この撮像部により生成された映像信号から、巻紙の低延焼性物質が塗布または貼付された部分の欠陥を判定する巻紙検査部とを備え、巻紙における低延焼性物質の塗布状態または貼付状態の欠陥を簡易かつ確実に検査することができる。巻紙検査装置はたばこ巻上装置に搭載可能である。
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【課題】対象物の濃淡ムラを検査するムラ検査において、エッジ近傍におけるムラ検査の精度を向上する。
【解決手段】基板9に塗布されたレジストの濃淡ムラを検査するムラ検査装置1では、基板9の撮像画像が圧縮された後にローパスフィルタ処理が行われ、さらにハイパスフィルタ部4214によりハイパスフィルタ処理が行われる。ハイパスフィルタ部4214では、ハイパスウィンドウがエッジ近傍に存在する場合には、ハイパスウィンドウが縮小されてフィルタ処理による画素値算出の対象となる注目画素が属する領域以外の領域を避ける。このように、ムラ検査装置1では、ハイパスフィルタ処理に利用される画素群を、ハイパスウィンドウ内の画素、すなわち、実質的に注目画素が属する領域内の画素に制限することにより、エッジ近傍におけるムラ検査の精度を向上することができる。 (もっと読む)


本発明は、繊維から成り縦方向に動かされる供試物中の異物を検出しかつ分類する方法に関する。供試物を複数の特性に関して同時に検査でき、測定されるすべての特性を考慮して異物を検出して簡単に分類できる方法を提供するため、異物の影響を受ける少なくとも2つの特性に対して、それぞれ1つの標準値(43)からのこれらの特性の偏差の値(4,5,43b)が記憶されるようにする。偏差の値(4)が、1つの特性の値を除いて、所定の規則に従って消去されるようにする。残っている特性の値から、結果として生じる偏差の値(5)、及び供試物上の偏差の長さの値(45)が求められ、この偏差及び長さに従って異物が分類されるようにする。
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検査される表面の潜在的異常の場所を囲む部分からの散乱した輻射を示すピクセル強度も、表面上のその潜在的異常の場所を含むパッチの中のピクセル強度を速やかに再調査するためにそのようなデータを利用できるように、格納される。照明ビームと検査される表面との間に回転運動が引き起こされる場合、検査される2つの異なる表面上の対応する位置に存するピクセルのピクセル強度を比較することによって信号対雑音比を改善することができ、この場合、その2つの異なる表面上の同じ相対的場所に存する対応するピクセルが照明されて、そこから散乱した輻射が同じ光学的条件の下で集められて検出される。
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【課題】印刷により透明板状体の周辺部の表面に塗膜が形成される印刷部と、塗膜が形成されていない非印刷部とを、検査の対象にして、印刷部のピンホールやかすれなどの印刷欠陥と、非印刷部分の印刷汚れを検出する方法を提供する
【解決手段】散乱光を用いて印刷物を照明し、印刷物の複数の画像を散乱光が透過する側からCCDカメラで撮像し、該画像を合成して検査用画像とし、該検査用画像を暗部と明部とに2値化処理し、明部を面積の大きい順に順序づけし、面積の大きさが(m+1)番目以下(mは非印刷部の個数)となる明部を印刷欠陥とする。また、暗部を面積の大きい順に順序づけし、面積の大きさが(n+1)番目以下(nは印刷部の個数)となる暗部を印刷汚れとする。 (もっと読む)


【課題】検査領域に応じて欠陥を効率よく検出する。
【解決手段】欠陥検出装置1は、基板9を撮像して多階調の被検査画像を取得する撮像部3を備え、被検査画像の各画素値は欠陥検出部43へと順次出力される。欠陥検出部43では、被検査画像と参照画像とを比較することにより、予め定められた複数の検査領域に含まれる欠陥の領域を示す欠陥領域画像が生成され、欠陥領域画像メモリ44に記憶される。コンピュータ5では、欠陥領域画像中の各欠陥の面積および重心位置が求められることにより、各欠陥が属する検査領域が特定され、欠陥の面積に関して検査領域毎に設定される欠陥判定条件に基づいて欠陥が限定される。検査領域に応じて異なる面積に関する欠陥判定条件を用いることにより、欠陥を効率よく検出することができる。 (もっと読む)


【課題】
大多数のヌイサンスの中に少数のDOIが紛れる状況で、DOIを効率良く抽出し確実に教示することによって、各種検査条件を最適化する検査条件出しを可能とする。
【解決手段】
半導体ウェハを検査し、検査で検出した欠陥の画像を画面に表示し、画像を表示された欠陥から任意の欠陥を選択可能な入力インターフェースを設け、ユーザによって教示された欠陥の検出性能が高くなるように検査条件を調整し、検査を行う。 (もっと読む)


【課題】高密度実装基板における半田フィレットの良否判定を高精度に行うことのできる技術を提供する。
【解決手段】基板検査装置は、まず第1ロジックに従って、検査画像から青系色の第1画素領域を抽出し、第1画素領域がもつ特徴量が第1判定条件を満足するか判定する。次に、基板検査装置は、第2ロジックに従って、検査画像から赤系色の第2画素領域を抽出し、第2画素領域がもつ特徴量が第2判定条件を満足するか判定する。そして、第1ロジックおよび第2ロジックの判定結果が共に真の場合に検査対象部品を良品と判定する。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、プリンタ基板からの反射光を取り込んだ画像データを用いて正確な良否判定を行うことができ、良否判定の基準となる基準データの作成を短時間で行うことができるはんだ付け外観検査装置およびはんだ付け外観検査方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 投影データ作成部12は、パット4と接続端子21とのはんだ付け部の画像データをパット4の幅方向に投影処理した検査対象投影データを作成し、演算部14は、検査対象投影データと基準投影データ記憶部13に記憶されている基準投影データとを比較し、判定部15は、検査対象投影データと基準投影データとの比較結果に基づいてはんだ付け状態の良否を判定する。 (もっと読む)


【課題】
パターンの微細化の微細化に対応した高感度欠陥検査方法とその装置を提供する。
【解決手段】
対物レンズと試料の間を液で満たして、実効NA(Numerical Aperture)を大きくすることにより、光学系の解像度を向上する。さらに、対物レンズと試料の間を透明膜に近い屈折率の液体で浸すことにより、試料表面に透明な層間絶縁膜が形成されている場合においても液と絶縁膜界面での振幅分割を抑制し、薄膜干渉による明るさむらを低減する。これらの技術により、欠陥検査感度を向上する。 (もっと読む)


【課題】対象物上の欠陥を高精度かつ効率よく検出する。
【解決手段】欠陥検出装置では、被検査画像および参照画像のデータが撮像部3から演算部50に入力され、差分画像生成部52にて差分画像が生成されるとともに、領域画像生成部51では差分画像よりも疑欠陥の情報および欠陥形状の情報が低減された画像として、欠陥を包含する欠陥包含領域を示す画像が生成される。第1評価部53では、差分画像の欠陥包含領域に対応する領域中の欠陥候補の真虚が仮評価される。第2評価部54では第1評価部53による仮評価の結果に応じて欠陥候補から求められる特徴量の種類が特定され、欠陥候補の特徴量が求められるとともにこの特徴量に基づいて欠陥候補の真虚が評価される。これにより、基板9上の欠陥を高精度かつ効率よく検出することができる。 (もっと読む)


【課題】
高感度で欠陥検出をすることができる欠陥検出装置及び欠陥検出方法ならびにパターン基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】
本発明の一態様にかかる欠陥検出装置は、光源1と、光源1からの光ビームを集光して試料4に入射させる対物レンズ3と、試料表面からの反射光を受光し、出力信号を出力する検出器6と、光ビームと反射光とを分離するビームスプリッタ2と、光ビームを走査する走査手段と、ビームスプリッタと光検出器との間の光路中に配置され、試料における光ビームの走査方向と対応する方向の片側半分の光路を遮光する遮光板7とを備え、欠陥判定を行うための基準となる欠陥箇所における出力信号に基づく基準信号と、試料上を走査したときの出力信号に基づく検出信号との相関値に基づいて欠陥か否かを判定するものである。 (もっと読む)


【課題】 光強度差分を用いたレチクルマスクなどの欠陥検査において、検査対象パターンと基準パターンとに光強度しきい値を導入して欠陥検出の精度を高める。
【解決手段】 検査対象パターン2と基準パターン1との光強度分布を比較して欠陥を検査する光強度差分評価方法において、評価パターンの全領域に渡って、パターン形状強度しきい値以上の光強度しきい値:Uを超える部位を一定値とし、該一定値を超えない部位における光強度の差分のみを検出するように光強度差分評価方法を構成する。 (もっと読む)


【課題】不良品のサンプルが無い場合でも、基板検査装置に用いられるパラメータを自動生成可能な技術を提供する。
【解決手段】パラメータ設定装置が、基板上のスルーホールを撮像して得られた複数のスルーホール画像を取得し、そのスルーホール画像におけるスルーホール周辺画素の色分布から、不良な半田領域の画素がとり得る不良色範囲を推定する。そして、良品画像における半田領域の各画素の色を良点として色空間(色ヒストグラム)マッピングするとともに、その色空間の不良色範囲内に所定数の不良点をマッピングする。この色空間における良点と不良点の度数分布に基づいて良点の色と不良点の色とを分離するための色範囲を求め、その色範囲を基板検査で用いられる色条件(色パラメータ)として設定する。 (もっと読む)


【課題】半導体製品の製造の際に実施される処理の良否の評価を、作業員に負担を掛けることなく従来よりも正確かつ迅速に行う。
【解決手段】チャンバー内で基板に対して加工処理を実施するときの様子が撮影されるように予めカメラを設置しておき、基板に対して加工処理が実施されているときのチャンバー内の様子を撮影して得られた画像のうちの、不良が発生することなく加工処理が実施されたときの画像を、モデル画像として予め記憶手段に記憶させておき(#1)、半導体製品の製造中に、チャンバー内で基板に対して加工処理が実施されているときの様子を撮影し(#3)、ステップ#3で得られた画像と記憶手段に記憶されているモデル画像とに基づいて、半導体製品の製造中におけるチャンバー内で実施されている加工処理の良否を評価する(#4)。 (もっと読む)


【課題】
酸化膜などの透明膜が表層に形成された半導体デバイスの正常部において、ダイ間で画像の明るさが異なって検出された場合でも、欠陥を見逃すことなく、かつ誤検出を少なくして検査を行う。
【解決手段】
半導体デバイスの製造工程の途中で、所定の工程で処理された基板の異物の発生状態を検査し、検査して得た情報を用いて製造工程を監視しながら半導体デバイスを製造する方法において、基板の異物の発生状態を、基板を撮像し、撮像して得た画像信号について画像信号の明るさの順を求め、求めた明るさの順ごとに隣接する画像同士を比較して差を求めることにより基板上の異物を検出するようにした。 (もっと読む)


【課題】 印刷物の汚れなどを確実に検出することにより、印刷物の品質検査の向上を図ることのできる印刷物の検査方法及び装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 製版データに基づいて、印刷領域内の非画線部を選定する非画線部選定部21と、製版データに基づいて、印刷領域内の画線部を選定する画線部選定部22と、非画線部の基準濃度又は基準光量と、被検査印刷物の非画線部の濃度又は光量とを比較して、被検査印刷物の非画線部の品質を検査する非画線部検査部23と、良品印刷物の画線部における濃度又は光量と、被検査印刷物の画線部における濃度又は光量とを比較して、被検査印刷物の画線部の品質を検査する画線部検査部24とを具備する印刷物の検査装置。 (もっと読む)


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