【課題】基板に付着した異物のみを確実に検出すること。
【解決手段】検査対象となる基板のデジタル画像の画素毎に、当該画素を含む小領域の画素群を設定する。次いで、各画素の輝度値を、当該画素を含む画素群の輝度値と対比する。この対比により、各画素の当該画素群に対する輝度値のばらつき度合を表す量を輝度確認値として前記画素毎に演算する。次いで、この輝度確認値に基づいて、異物の存否を判定する。基板の輝度は、ばらつき度合が小さい。これに対し、異物は、自然に形成された不定形の物体であるため、その輝度は、全体としてグラディエーションを伴ったばらつき度合の高い特性を有している。そこで、輝度確認値を演算することにより、製品と異物の輝度のばらつき度合の相違点を利用し、異物を峻別することができる。 （もっと読む）

【課題】同一パターンとなるように形成された２つのパターンの対応する領域の画像を比較して画像の不一致部を欠陥と判定するパターン検査装置において、膜厚の違いなどから生じるパターンの明るさむらの影響を低減して、高感度なパターン検査を実現する。また、多種多様な欠陥を顕在化でき，広範囲な工程への適用が可能なパターン検査装置を実現する。
【解決手段】同一パターンとなるように形成された２つのパターンの対応する領域の画像を比較して画像の不一致部を欠陥と判定するパターン検査装置を、複数の検出系とそれに対応する複数の画像比較処理方式を備えて構成し、又、異なる複数の処理単位で比較画像間の画像信号の階調を変換する手段を備えて構成し、画像間の同一パターンで明るさの違いが生じている場合であっても、正しく欠陥を検出できるようにした。 （もっと読む）

【課題】パターンマッチングし難い条件にあるアライメントマークを持つ半導体ウエハについて、高精度な試料の位置合わせ、高感度な検査を実現する。
【解決手段】アライメントマークの画像データのパターン幅計測、輝度分布取得が可能な解析手段と、積算処理、減算処理、２値化処理、膨張処理、収縮処理が可能な画像処理手段を備え、画像データに処理を加えて、アライメントマークを明瞭にした後にパターンマッチングを行うようにする。 （もっと読む）

【課題】検査光の光源として発光ダイオードを用いた場合でも、パーティクルを精度良く検出することができるパーティクル検出用光学装置を提供すること。
【解決手段】パーティクル検出用光学装置２は、基板４の基板表面４ａに検査用光源部３１から検査光Ｌを照射し、基板表面４ａのパーティクルＰによって散乱された検査光Ｌの散乱光を撮像部２９により撮像し、得られた画像データに基づいて基板４上のパーティクルＰを検出する。検査用光源部３１は光源としての発光ダイオード４１と、発光ダイオード４１から射出された検査光Ｌを平面検査領域２４に向けて出射すると共に、平面検査領域２４に沿って走査する走査ミラー４３２と、検査光Ｌが収束光の状態で平面検査領域２４に照射される状態とする凸レンズ４４と、基板表面４ａによって反射された検査光Ｌの反射光を当該基板表面４ａの側に反射する反射鏡（反射部材）２６を備えている。 （もっと読む）

【課題】群発すると問題となる微小欠陥について、顧客側の要求品質に応じた格付けをすることを可能にした表面欠陥検査方法及びその装置を提供する。
【解決手段】被検査体の表面を検査し、その検査信号から欠陥判定のための特徴量を検出し、該特徴量から欠陥の種別及び程度を判定する表面欠陥検査方法において、欠陥の種別及び程度に基づいて被検査体を単位面積毎に分割して形成される各領域の欠陥数を計算する工程と、欠陥数と欠陥数閾値とを比較して等級を判定し、各単位面積領域の代表欠陥及び代表等級を決定するとともに、代表等級が被検査体に混入する群発欠陥の欠陥混入率を演算する工程と、演算結果と予め設定された欠陥混入率の許容範囲とに基づいて被検査体の合否判定を行うことにより、群発欠陥による被検査体の格付けを行う工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェハ上に形成されたチップ内の直接周辺回路部の近辺に存在する致命欠陥を高感度に検出することができる欠陥検査装置及びその方法を提供する。
【解決手段】被検査対象物を所定の光学条件で照射する照明光学系と、被検査対象物からの散乱光を所定の検出条件で検出して画像データを取得する検出光学系とを備えた欠陥検査装置において、前記検出光学系で取得される光学条件若しくは画像データ取得条件が異なる複数の画像データから領域毎に複数の異なる欠陥判定を行い，結果を統合して欠陥候補を検出するようにした。 （もっと読む）

【課題】人の目に近い、生体鉱物の品質管理や評価、農産物の栽培・品質管理や評価を課題とし、色彩画像撮像・解析システムを提供する。詳細には、対象物の表面反射を除去又は軽減する色彩画像撮像システムを提供する。又、Color HistogramとCDEに基づく色彩画像解析システムを提供する。
【解決手段】（Ａ）色彩画像撮像システム及び／又は（Ｂ）色彩画像解析システムからなる色彩画像撮像・解析システムであって、（Ａ）色彩画像撮像システムは、立体拡散光源を有し、該光源内に対象物を設置すること、（Ｂ）色彩画像解析システムは、CDEに基づく画像解析工程と、Color Histogramに基づく色彩解析工程とからなることを特徴とするシステムにより上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】異品種の混入に対して高い検知力をもつ異品種混入検査方法及び検査装置を提供する。
【解決手段】被検査対象物のパターンから特徴あるパターンを有する被検査領域を選定し、前記被検査領域の複数の画素の輝度値をマスターデータ輝度値として予め取得し、マスターデータ輝度値と、正規品種もしくは異品種と判定する被検査対象物内の複数の画素の輝度値との正規化相関係数の算出を、被検査対象物の全画像領域にわたって行い、最も正規化相関係数の値が大きい領域がマスターデータを取得した検査領域と一致したと判断し、前記最も大きい正規化相関係数の値が予め設定された閾値以上の場合は前記被検査対象物を正規品種と判定し、閾値以下の場合は前記被検査対象物を異品種と判定することを特徴とする異品種混入検査方法。 （もっと読む）

【課題】低コストな欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】実施形態の欠陥検査装置は基板表面又は膜表面に製造過程で発生した複数の欠陥を検出する検出手段４０と検出手段に検出された複数の欠陥を位置に基づいて欠陥群に分類するクラスタリング手段４１と欠陥群及び欠陥に識別情報を付与する識別情報付与手段４２と欠陥群及び欠陥の位置情報を識別情報付与手段が付与した識別情報と共に保持する記憶手段３４を備える。さらに実施形態の欠陥検査装置は欠陥群及び欠陥から２つを選択して直線を引きそのなかで傾きの差が所定範囲内である直線の上の欠陥群及び欠陥を同一グループに属するとして同一のラベルを付けて位置情報及び識別情報と共に記憶手段に保持するグルーピング手段４２とグループ毎にそこに属する欠陥群及び欠陥の中から２つ以上の欠陥群または欠陥についての位置情報を残して他の位置情報は記憶手段から削除する削除手段４２を備える。 （もっと読む）

【課題】所定の繰り返しピッチで連続して生産される部品の画像検査において，その画像検査の実施状態を知ることが可能となる技術を提供する。
【解決手段】画像検査装置１０において，マッチング処理部１４１は，入力された検査画像のフレームから部品を検出し，検出された部品の位置と相関値とを取得する。フレーム間部品対応検出部１５１は，連続する２つのフレーム間で類似する部品の対応を検出する。対応部品位置差分算出部１５２は，対応部品間の検出位置の差分である対応部品位置差分を算出する。対応部品位置差分統計部１５３は，対応部品位置差分を統計した移動量ヒストグラムを作成する。部品移動量推定部１５５は，移動量ヒストグラムから連続するフレーム間での部品の移動量を推定する。画像検査実施状態判定部１５０は，部品の移動量の推定結果から，画像検査が適切に実施されているか否かを判定する。 （もっと読む）

【課題】欠陥の検出、並びに欠陥タイプ及び欠陥原因の分類を行う。
【解決手段】検出された欠陥の画像に関する欠陥マスク画像を受け取るステップと、複数のランドマークマスク画像を受け取るステップ（３０４）と、第１のランドマークマスク画像を用いて、上記検出された欠陥と上記第１のソースラインとの間のソース欠陥接続性計測を算出するステップ（５００）と、第２のランドマークマスク画像を用いて、上記検出された欠陥と上記第１のゲートラインとの間のゲート欠陥接続性計測を算出するステップ（５０２）と、上記ソース欠陥接続性計測及び上記ゲート欠陥接続性計測が共に０でない場合に、上記ソース欠陥接続性計測及び上記ゲート欠陥接続性計測に基づいて、上記検出された欠陥に関する欠陥タイプを識別するステップと、を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】検査感度を向上させることができるパターン検査装置を提供する。
【解決手段】第１の検出データと前記第１の遅延データとから解像限界以下のパターンのデータを抽出する第１の抽出部３３と、前記抽出された第１の検出データに係るデータの注目画素に対する周辺領域の出力レベルの平均値を演算し、前記抽出された第１の検出データに係るデータの出力レベルと前記平均値との差を演算する第１の出力変位演算部３４ａと、前記抽出された第１の遅延データに係るデータの注目画素に対する周辺領域の出力レベルの平均値を演算し、前記抽出された第１の遅延データに係るデータの出力レベルと前記平均値との差を演算する第２の出力変位演算部３４ｂと、前記第１及び第２の出力変位演算部による演算結果に基づいて、パターン欠陥を検出する。 （もっと読む）

【課題】部品組付け検査を部品のカラー撮影画像を用いた色判別によって行う場合に、その色判別のためのしきい値決定に用いる色パラメータ範囲を精度高く設定可能とする。
【解決手段】モデル組付け部品のカラー撮影画像（モデル画像）と判定対象組付け部品のカラー撮影画像とを用いて、判定対象組付け部品の組付け検査の合否を判定する際の、同判定対象組付け部品の色判別のためのしきい値決定に用いる色パラメータ範囲の設定方法において、モデル画像における色判別領域内の各画素の色成分値の頻度値分布を二次元色座標系Ｈ−Ｓの該当する色座標上に表示可能に記憶装置に保存し、この保存された頻度値群を用いて色パラメータ範囲を設定する。 （もっと読む）

【課題】 距離画像を用いて外観検査を行う際に、メモリ資源の効率的な活用と検出精度の低下を防ぐ。
【解決手段】 ３次元形状のワークを撮像するカメラ３０からワーク表面までの距離に応じて各画素の濃淡値が変化する距離画像を生成し、生成された距離画像からその距離画像に含まれるワーク固有の形状情報を削減するために、生成された距離画像の一部又は全部の画素について、それぞれ形状情報に基づく濃淡値との差分を求め、形状情報が削減された距離画像を用いて画像処理を実行し、ワークの良否を判定し、判定結果を示す判定信号を出力する。 （もっと読む）

【課題】１枚の対象基板の測定結果だけで，パーティクル分布が異常か否かを極めて容易に判定できるようにする。
【解決手段】パーティクル分布解析を行う対象基板について，その基板上のパーティクル座標データからパーティクル相互間距離についてのヒストグラムデータを作成するとともに，その対象基板上のパーティクルと同数のパーティクルを計算上ランダムに分布させた複数枚の仮想基板について，パーティクル相互間距離のヒストグラムデータを作成する。これら対象基板と各仮想基板のヒストグラムデータ群との差異に基づいて，対象基板のヒストグラムデータについて仮想基板のランダムなヒストグラムデータ群からの距離を数値化した判定データを算出して表示部に表示する。 （もっと読む）

【課題】確認業務の精度を高めることができる確認業務支援システムを提供する。
【解決手段】本発明による確認業務支援システムは、少なくとも確認範囲を特定可能な確認範囲画像を含む確認情報を表示可能なヘッドマウントディスプレイ装置と、前記ヘッドマウントディスプレイ装置に設けられた撮影手段と、前記撮影手段が撮影した画像を用いた画像処理を行って、前記確認範囲中の異常箇所を判定する異常判定手段とを備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】カラー画像に基づいて高精度に外観の良否判定ができる外観検査装置を提供する。
【解決手段】輝度平均値算出部１２は、各フィルタ画像データＤrf，Ｄgf，Ｄbfからそれぞれ輝度平均値Ａvr，Ａvg，Ａvbを求める。平均値比較部１３は、その求めた輝度平均値Ａvr，Ａvg，Ａvbから、ルックアップテーブルＬＴを使って、異物と背景色とのコントラストが最も大きいフィルタ画像データを選択する。そして、異物判定処理部１４は、その選択した異物と背景色とのコントラストが最も大きいフィルタ画像データに基づいて画像処理を行う。従って、各フィルタ画像データＤrf，Ｄgf．Ｄbfの中から、異物と背景色とのコントラストが最も大きいフィルタ画像データを使って画像処理を行い異物と背景色との判断を行うことから、閾値の設定も容易でかつ高精度の異物検出が可能となる。 （もっと読む）

【課題】塗膜で光を反射させたときの明暗の境界の鮮明さを定量的に表す評価値を用い、従来の官能評価と合致する評価を得ることができ、評価のばらつきを抑えることが可能な塗装ムラ評価値算出方法、塗装ムラ評価値算出装置、及び塗装ムラ評価方法を提供する。
【解決手段】塗膜へ光を照射し、当該光の正反射光が入射しない角度から撮像した画像を複数の領域に区分し、各領域の明度を求めて近傍の領域間の明度差に基づき、画像全体での明度の勾配に係る値を求め、塗膜の塗装ムラの評価値とする。塗膜Ａのように階調的に変化する場合と、塗膜Ｂのように急激に変化する場合とでは塗膜Ｂの方が明暗の境界が鮮明となり、塗装ムラの評価は悪くなる。算出される明度の勾配に係る値により、定量的な塗装ムラの評価が可能となる。 （もっと読む）

【課題】液体系内に生成された沈殿物を評価する方法及び装置について記述している。
【解決手段】本発明の方法は、沈殿物に関連する高さの計測、ひいては、体積のデータの計測を実現するための情報を光学的に取得するステップを有している。液体系の単一のサンプルを処理することが可能であるが、本発明の方法は、複数のサンプルを処理することにより、沈殿物に関係するデータを高速で取得するのに特に適している。本発明の装置は、ワークステーション間において、且つ、沈殿物に関係する情報の取得に使用される関連した光学装置に対して、サンプルを移動することが可能な自動運搬装置を備えている。 （もっと読む）

【課題】ユーザの意図を反映可能な分類条件設定機能を有する二分木構造を用いて欠陥を分類する装置の提供。
【解決手段】欠陥検査装置から取得される検出信号を基に抽出される欠陥の特徴量に基づいて二分木構造の分類器を用いて欠陥を分類する欠陥分類方法であって、予め欠陥クラスと対応付けられた特徴量データとの教示に基づいて、二分木構造の分岐点毎に、分岐の両側のグループにそれぞれ属する欠陥クラス、分岐に使用する特徴量および判別基準からなる分岐条件を設定することにより前記二分木構造の分類器を構築する分類器構築過程を有し、該分類器構築過程において、さらに予め欠陥クラス毎並びに全体および最悪のピュリティおよびアキュラシーの目標分類性能について優先順位をつけて指定しておく優先順位指定過程と、前記設定した分岐条件による前記指定した目標分類性能を満足するか否かを項目毎に評価して該項目毎の評価結果を表示する。 （もっと読む）