【課題】複雑な立体形状の羽根車の外観を検査する際に、誤検出が少なく検査精度が高く、形状が異なる多品種の羽根車の検査に短時間で対応することが可能である、外観検査方法及び外観検査装置を提供する。
【解決手段】基準となる羽根車の画像に所定の画像処理を施すことで、照明の不均一となり易い部分を非検査領域として不透明化し検査領域を透明化したマスク画像Ｂを作成し、該マスク画像Ｂを基準となる羽根車の画像に重ねたテンプレート画像を作成しておいて、羽根車１に照明光を照射して撮像した原画像Ａに前記マスク画像Ｂを重ねた合成画像Ｃ（検査用画像）と前記テンプレート画像を画像処理することで、羽根車の欠陥を検出する。 （もっと読む）

【課題】パターン認識の所要時間が短い検査装置を提供する。
【解決手段】検査装置は、被検査物を撮影して画像として出力する画像入力部と、上記画像入力部から出力される良品の上記被検査物の良品画像を登録する登録手段および上記画像入力部から出力される検査対象の上記被検査物の検査画像と上記良品画像との差分画像を用いて上記検査対象の被検査物を検査する検査手段を有する判定部と、を備える検査装置において、上記判定部は、上記良品画像の被検査物の複数の部分の画像を抽出して参照画像として登録する参照画像登録手段と、上記参照画像と最も相関性の大きい上記検査画像の被検査物の複数の部分を特定するパターン認識手段と、上記特定された検査画像の被検査物の複数の部分の座標に基づいて位置合わされた上記検査画像と上記良品画像との上記差分画像から欠陥を判断する欠陥判断手段と、を有する。 （もっと読む）

【課題】検出精度の低下を招くことなく検索時間の短縮を図る。
【解決手段】テンプレート画像記録用メモリ２４に記憶されたテンプレート画像データＶG に対しその水平走査ライン数（２５６本）より少数の８本の特徴ラインＬ１〜Ｌ８を設定する。そして、このテンプレート画像データに対し設定した特徴ラインＬ１〜Ｌ８ごとに、そのラインデータと１画面分のサーチ画像データＶF との差分相関値｜Ｆ−Ｇs｜を算出し、この特徴ラインＬ１〜Ｌ８ごとに得られた差分相関値｜Ｆ−Ｇs｜を位置座標を合わせて順次累積加算する。 （もっと読む）

【課題】検査対象物上の欠陥を隣接する主走査ラインにまたがっている欠陥や主走査ライン上で隣接する画素にまたがり、かつ隣接する主走査ラインにまたがっている欠陥を検出可能であり、表面状態の検査を精度よく行うことができる表面検査装置及び方法。
【解決手段】ラインイメージセンサ（１３）を有するカメラ（１１）により検査対象物（１０）上を走査して得た画像データを演算処理手段（１６）に入力し、ラインメモリ（１７）と加算器（１８）を用いて隣接する２つの主走査ラインの画像データを加算して画像データ列を生成し、演算処理器（１９）により主走査方向に連続する複数の画素からなるブロック内の画像データを加算してブロック内加算データを生成し、主走査方向で互いに隣接するブロック内加算データの相関値を算出し、判定手段（２０）で相関値を閾値判定する。 （もっと読む）

【課題】回路パターンの欠陥検査方法では、検査精度を高めるためには、画像の分解能をあげなければならない。また、回路基板の集積密度も向上しており、画像の分解能は高くする必要性もでる。しかし、画像の分解能を上げると、画像データ量が増える。するとＣＣＤなどの画像変換素子のデータ転送速度がコンピュータの処理速度より低いため、検査時間が増大するという課題があった。
【解決手段】比較的低い分解能で回路パターンの映像を撮り、画像補間によって情報量を増やす。その上で２値化した画像データを用いて欠陥検査を行う。このようにすることで、ＣＣＤなどの画像変換素子からのデータ転送時間を短くすることができ、またデータ補間と２値化によって、誤検出や過検出といったことのない精度よい欠陥検出をすることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、測定試料に応じた基準値を選択するに当たって特に測定試料に記録媒体を取り付けておく必要がなく、測定試料に応じた基準を自動的に選択することができる光沢測定装置を提供する。
【解決手段】本発明の光沢測定装置１は、測定試料に光を照射する光照射部と、光照射部から照射された光が前記測定試料で反射された反射光を受光する受光部と、受光部の出力に基づいて所定の光沢特性を導出する光沢特性導出部３１ｄと、所定の光沢特性に対応し、測定試料における互いに異なる複数の種類のそれぞれに対して予め設定される複数の光沢基準を記憶する基準記憶部３４ａと、光沢特性導出部３１ｄで導出された光沢特性に基づいて複数の光沢基準の中から１つの光沢基準を選択する基準選択部３１ｅと、基準選択部３１ｅで選択された光沢基準と光沢特性導出部３１ｄで導出された光沢特性とを比較する比較部３１ｆを備える。 （もっと読む）

少なくとも１つの半導体光電池またはモジュールを製造し半導体材料を分類する方法（３００）が開示される。一実装形態（５００）において、この方法は、製造工程の複数の段階（３１２〜３２４）各々においてウェーハをルミネセンス撮像するステップと、同じウェーハに関する撮像ステップから獲得される少なくとも２つの画像を比較して製造工程によって誘起された障害の発生または増大を識別するステップと、を含む。所定の許容レベルを超えるプロセス誘起の障害が識別されまたは障害が修復され得る場合には、ウェーハは製造工程（３１０）から除去され（３５１〜３５６）、またはウェーハはその特性に適合する別の製造工程に渡される。別の実装形態において、この方法は半導体材料を分類するステップを含む。例えば、少なくとも２つのウェーハを用意し、各ウェーハのルミネセンス画像を獲得し、画像を比較してウェーハの電気的構造の類似性を判定し、所定のレベルの電気的構造の類似性を有するウェーハを同じ系統にグループ化する。本発明の方法は、様々な形の機械的、電気的、および外見上の異常を判定するのに適する。
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【課題】基板外観検査において、不良見落としの確率を低くするとともに、虚報を低減する。
【解決手段】撮像手段1110、データ読出手段1120、対象領域抽出手段1310、領域辞書作成手段1340、領域位置合わせ手段1330、検査領域設定手段1350、密度辞書作成手段1360及び検査手段1370を備えて構成される。対象領域抽出手段は、CADデータ1510及び色基本データ1520から計算された対象領域の色と、撮像手段が取得した撮像画像データ1112の色との比較を行って、パッド画像データ1412を抽出する。領域位置合わせ手段は、撮像画像データとCADデータの位置合わせを行って、合わせ画像データ1432を作成する。密度辞書作成手段は、隣り合う対象領域の間隔が閾値以下の場合は高密度領域と判定し、閾値よりも大きい場合は低密度領域と判定する。検査領域設定手段は、高密度領域における非検査領域を、低密度領域における非検査領域よりも小さく設定して、検査画像を生成する。 （もっと読む）

【解決手段】本発明は、試料の検査に用いられる検査システムの検出範囲を拡張する検査システムと方法に関する。一実施態様に準じ、検査システムは、散乱光を受け取り、出力信号に変換するように結合された複数のステージを有する光検出器と、少なくとも一つのステージを飽和させることで、それによって光検出器が非線形領域で作動するように強制し、光検出器の検出範囲（従って、検査システムの検出範囲）を拡張するように接続された電圧分割ネットワークを備え得る。このことは、光検出器が非線形的に作動することを強制する。しかしながら、測定の不正確さは、少なくとも一つのステージを意図的に飽和させることで生成され得るあらゆる非線形効果を除去するように光検出器の出力を較正することで避けられる。一例に於いて、光検出器の出力を散乱光の実際量に変換するように較正中に値表を生成可能である。 （もっと読む）

【課題】パターン検査において、膜厚の違いやパターンの太さの違いなどから生じる比較画像間の明るさむらを低減し、ノイズや検出する必要のない欠陥に埋没した、ユーザが所望する欠陥を高感度、かつ高速に検出するパターン検査技術を実現する。
【解決手段】同一パターンとなるように形成されたパターンの対応する領域の画像を比較して画像の不一致部を欠陥と判定するパターン検査装置において、並列に動作する複数のＣＰＵを実装した処理システムを用いて構成される画像比較処理部１８を備えて、膜厚の違いやパターンの太さの違いなどから生じる比較画像間の明るさむらの影響を低減し、高感度なパターン検査をパラメータ設定なしで行えるようにした。また、比較画像間で各画素の特徴量を算出し、複数の特徴量を比較することにより、輝度値からでは不可能は欠陥とノイズの判別を高精度に行えるようにした。 （もっと読む）

【課題】
検査対象基板において不規則な回路パターン部分では、パターンからの散乱光によって欠陥信号が見落とされ、感度が低下する課題があった。
【解決手段】
光源から出射した光を検査対象基板上の所定の領域に所定の複数の光学条件をもって導く照明工程と、前記所定領域において、前記複数の光学条件に対応して生じる複数の散乱光分布の各々につき、所定の方位角範囲および所定の仰角範囲に伝播する散乱光成分を受光器に導き電気信号を得る検出工程と、該検出工程において得られる複数の電気信号に基づいて欠陥を判定する欠陥判定工程とを有することを特徴とする欠陥検査方法を提案する。 （もっと読む）

【課題】コンクリート表面の画像データが低分解能の場合でも、微細幅のひび割れを高精度で検出することのできるひび割れ検出方法を提供すること。
【解決手段】ウェーブレット画像を作成する第一工程と、ひび割れ抽出画像を作成する第二工程と、細線化画像を作成し、該細線化画像に対応するウェーブレット係数から大小２つのウェーブレット係数を抽出するとともに、該２つのウェーブレット係数に対応する相対的に大きなひび割れ幅と小さなひび割れ幅を設定する第三工程と、２つのウェーブレット係数、および、相対的に大きなひび割れ幅と小さなひび割れ幅で構成される第一の関係式に細線化画像に対応するウェーブレット係数を代入してひび割れ幅を推定する第四工程と、を具備する、ひび割れ検出方法である。 （もっと読む）

【課題】
検査装置で得られた欠陥の情報とレビュー装置で得られた欠陥の情報とを自動的に突合せして得られたデータの加工を容易として、欠陥の種類ごとの分類が容易なデータ処理装置，検査作業支援システム，データ処理方法を提供する。
【解決手段】
検査装置から送信された試料の欠陥に関する検査情報と、レビュー装置から送信された該欠陥の観察により得られたレビュー情報とを表示するディスプレイと、検査情報とレビュー情報とを突合せして同一の欠陥に関する検査情報とレビュー情報とを並べてディスプレイに表示させるマイクロプロセッサとを備え、該マイクロプロセッサは、欠陥から選択された複数の欠陥のＩＤをひとつの軸とし、ディスプレイに表示された特徴量を得たときの複数の条件をひとつの軸とし、該特徴量をディスプレイへ表として表示させ、さらに選択された特徴量のデータを別のソフトへ貼り付け可能とした。 （もっと読む）

【課題】塗布検査条件を容易に設定することができる塗布検査装置及び塗布検査条件の設定方法の提供。
【解決手段】塗布検査装置にハードウェア又はソフトウェアとして、ある特定の塗布条件と設計情報において実際に塗布を行ったときの塗布形状を認識し特徴を計測し、塗布状態及びそのばらつき、塗布条件を１つ変化させたときの塗布状態の変化についての相関データを作成する相関データ作成手段１ａと、塗布条件と設計情報とを取得し、相関データに基づいて、目標とする塗布形状が得られる塗布条件を関数近似により推定し、推定した塗布条件における特徴のばらつきなどから検査項目ごとの標準的な計測値と合否判定値を求める検査パラメータ生成手段１ｂとを設ける。 （もっと読む）

【課題】ＣＡＤデータを用いて基板の外観検査を行うに当り、基板画像のゆがみにかかわらず、虚報率を低く抑える。
【解決手段】撮影された基板画像の観測データであって、基板画像の変形を反映した観測値Ａを求める基板観測手段１００と、ＣＡＤデータから作成された設計画像に関して、設計値ａを求める設計値算出手段２００と、Ａ／ａで与えられる変形パラメータを算出する変形パラメータ算出手段２０と、変形パラメータを設計値ａに作用させて設計画像を参照画像へと変形する参照画像作成手段３０と、基板画像と参照画像のそれぞれの画像内位置に関係づけられた基板属性と参照属性との一致度を、基板画像及び参照画像の相対的位置を変化させながら算出し、一致度が最大となる点で基板画像と参照画像とを重ね合わせる画像重畳手段４０とを備える。 （もっと読む）

【課題】アライメンに使用するテンプレート画像を最適な方法で登録し、パターンマッチングのエラー、及び評価に要する時間を低減する。
【解決手段】最適なテンプレートのアライメントマークとの選定や識別及び類比判断を、異物検査装置に配備した相関値の演算機能により実践する。すなわち、異物検査装置に、被検査物の表面に形成されるアライメントマークの特徴点を登録する装置と、前記被検査物の表面上に形成されたアライメントマークの画像データを採取する装置と、前記画像データから特徴点を抽出し双方の特徴点より相関値を算出するデータ演算処理装置とを備え、前記相関値の閾値に基いて前記アライメントマークの画像データを登録する。 （もっと読む）

【課題】平面に沿って分布した特性をもつ解析対象データが特定の分布形状パターンに類似しているかどうかを評価する分布解析方法であって、精度良く評価を行えるものを提供すること。
【解決手段】分布形状パターンを、解析対象データを定めた平面に対応する平面を格子状に複数の矩形領域に区画するとともに、上記各矩形領域毎に、上記解析対象データの特性値の相対的な大小関係を表すように或る数値範囲内で多値を取り得る濃度値を付与して定義する（Ｓ１０１）。所定の分布形状パターン調整用特性データ群の特性値を用いて、その特性データ群の特性値の大きさが上記評価に反映されるように上記分布形状パターンの濃度値を調整する（Ｓ１０２，Ｓ１０３）。解析対象データと調整後の分布形状パターンとを比較して、解析対象データの特性値の分布と調整後の分布形状パターンの濃度値の分布との定量的な類似度を求める（Ｓ１０４）。 （もっと読む）

【課題】 対象物のパターン全体の状態を解析することができるパターン・ムラ解析装置およびパターン・ムラ解析方法を提供すること。
【解決手段】 対象物２００のパターンのパターン・ムラを解析するためのパターン・ムラ解析装置１であって、対象物２００を保持する対象物保持手段２と、パターンに対して光Ｌｉを照射する光源３と、パターンからの反射光Ｌｒを受光する受光手段５と、対象物２００に対する受光手段５の角度を調節する受光角度調節手段６と、受光手段５が受光した反射光Ｌｒの反射光データを格納するデータ格納手段７と、対象物２００の同一領域内の複数の反射光データから領域の特徴を表す特徴データを算出するデータ演算手段８と、を具備し、この特徴データからパターン・ムラを解析する。 （もっと読む）

【課題】検査対象物を１台の撮像手段のみで任意の角度からの撮像を可能とする。
【解決手段】撮像手段４０によって略円柱状の検査対象物を撮像した撮像情報に基づいて前記検査対象物２の外観検査を行う外観検査システム１に用いられて、前記撮像手段４０が撮像する検査エリア内を横切るように前記検査対象物を搬送する検査対象物搬送装置３０であって、前記検査エリアＥ内を横切り且つ前記検査対象物２が落下しない搬送溝３１ｆを形成するように平行に設けられた螺旋状の一対の螺旋棒部材と、前記一対の螺旋棒部材の各々を同一方向に回動する回動手段３２と、を有し、前記一対の螺旋棒部材は、前記検査対象物２が前記搬送溝３１ｆを予め定められた搬送方向に回転しながら移動するように、お互いの螺旋状のピッチをずらして配置されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高速での良品判定を可能とし且つ外観検査の精度を向上させる。
【解決手段】略円柱状の検査対象物の外観検査を行う外観検査装置１であって、検査エリア内において検査対象物を回転させながら移動させる回転移動手段３０と、検査エリア内を回転しながら移動する検査対象物を異なるタイミングで複数回撮像する撮像手段４０と、撮像手段４０が同一の検査対象物を複数回撮像した複数の撮像情報の各々から、検査対象物に対して予め定められた特徴箇所に対応するパターン情報を抽出するパターン情報抽出手段１１ａと、該抽出した複数のパターン情報と特徴箇所に対して予め定められた判定用パターン情報とを比較した相関関係に基づいて、特徴箇所の外観状態を判別する特徴箇所判別手段１１ｂと、該判別した判別結果に基づいて、検査対象物の外観状態が良品であるか否かを判定する良品判定手段１１ｃと、を有する。 （もっと読む）