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Fターム[2G059JJ14]の内容

光学的手段による材料の調査、分析 (110,381) | 光学要素 (16,491) | ミラー、反射面 (2,430) | 曲面ミラー、曲面反射面 (409)

Fターム[2G059JJ14]に分類される特許

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【課題】 水封筒、カプセル、容器等に収容された粉体、気泡等の散乱物を開封することなく非破壊で検出することができるテラヘルツ波を用いた散乱物検出装置と方法を提供する。
【解決手段】 テラヘルツ波2を発生するテラヘルツ波発生装置12と、テラヘルツ波を被検査物1に照射するテラヘルツ波照射装置14と、被検査物を透過したテラヘルツ波の直進成分3をカットし散乱成分4の強度を検出する散乱強度検出装置20とを備える。 (もっと読む)


【課題】 曲率を有する被測定光学素子であっても面全体の反射光の光量を一度の測定で得ることができ、反射率を算出することができる反射率測定装置を得る。
【解決手段】 被測定光学素子の凹面と同一材料からなる表面を備える平板と、既知の透過率を有する基準レンズと、基準レンズに入射した平行光の出射光の焦点位置に曲率中心を一致させるように配置される被測定光学素子と、平板および被測定光学素子で反射されるそれぞれの光の光量を測定する反射光量測定部と、を有する反射率測定装置。 (もっと読む)


【課題】
ミラー間の距離補正を簡単に行ない、それによってミラーの曲率半径の誤差を調整する。
【解決手段】
ミラーの曲率半径を予め若干大きくなるように機械加工しておき、表面を研磨加工後に3次元の表面計測を行ない、真のミラー曲率を求める。次に、真のミラー曲率に合わせて、セルボディ13とフランジミラー1,3の間に、真空シール用のガスケット16及びミラー間の距離調整用のガスケット17の2種のガスケットを使用し、ミラー1a,3a間の距離を調整する。ガスケット17は変形することがない堅いSUS板を用いる。一方ガスケット16は、ナイフエッジ18が食い込む軟質の材料を用いる。 (もっと読む)


【課題】レーザ走査型顕微鏡用の、本質的に均質な照明光線内の少なくとも一つの断面方向に準備された照明装置
【解決手段】横断面において本質的に行型の、特にレーザ走査型顕微鏡(15)用の照明光線(5)を準備するために、本質的に横断面において回転対称な原初光線を準備する照明装置が使用され、原初光線は望まれる照明光線(5)を渡し、それのために原初光線(3)の衝当点の領域で衝当点から離れた領域より強く曲げられている非球面凸面鏡(1)を有する変換ユニットに入る。 (もっと読む)


【課題】 分光分析装置の性能を適切に評価し得る分光分析装置の評価装置を提供する。
【解決手段】 入射部51より入射される光を分光する分光機能付き光学手段Bと、その分光機能付き光学手段Bにて波長変化方向に分光された光の分光スペクトルデータを出力する計測手段18とが、基体52に一体的に組み付けられ、狭帯域で且つ強度が最大となる波長が異なる複数種の評価用光を選択的に入射部51に投射する評価用光投射手段R1と、入射部51に選択的に投射される評価用光の夫々に対応して計測手段18から出力される複数の分光スペクトルデータの夫々について、その分光スペクトルデータにおける極大値、及び、その分光スペクトルデータにおける極大値よりも小さい値に定めた判定強度における波長変化方向の幅を求める演算手段73と、その演算手段73にて求められた極大値及び判定強度での波長変化方向の幅を出力する出力手段75とが設けられている。 (もっと読む)


【課題】 分光スペクトルデータの計測精度を向上し得る分光分析装置用の受光装置を提供する。
【解決手段】 被計測物からの光を導入する光導入部I、及び、その光導入部Iにより導入される光を分光する分光部Bが、取付用基板21の裏側に並べた状態で、且つ、光導入部Iの光入射部24を取付用基板21の表側に向けた状態で取付用基板21に取り付けられた分光分析装置用の受光装置であって、
分光部Bが、熱伝導が抑制される状態で取付用基板21に取り付けられている。 (もっと読む)


【課題】 装置全体の小型化と受光手段のメンテナンス作業の容易化との両立を図る。
【解決手段】 被計測物Mを載置部51に載置した状態で計測箇所Pmを経由して搬送し且つ載置部51が上下方向に光が通過可能に構成された搬送手段4と、計測箇所Pmに位置する被計測物Mに光を投射する投光手段1と、投光手段1から光が投射された被計測物Mからの光を載置部51を通して受光して、その受光した光を分光して被計測物Mのデータを計測する受光手段2と、その被計測物Mのデータに基づいて被計測物Mの内部品質情報を求める制御手段3とが設けられた内部品質計測装置であって、受光手段2が、被計測物Mからの光を受光するための計測位置P1と、その計測位置P1から退避したメンテナンス位置P2とに移動自在に設けられている。 (もっと読む)


【課題】 被計測物の内部品質情報の計測精度を向上し得る農産物の内部品質計測方法を提供する。
【解決手段】 載置支持部4tに載置支持された断面形状が円形又はそれに類する形状の被計測物Mにその被計測物Mの内部品質計測用の光を斜め下向きに投射する投光部1、及び、光軸が水平方向又は略水平方向を向くように位置されて、投光部1から投射されて被計測物Mを透過した光を受光する受光部2を、被計測物Mの横方向両側に振り分けて配置して、投光部1により被計測物Mに光を投射し、受光部2により被計測物Mからの透過光を受光する農産物の内部品質計測方法であって、投光部1により、光を被計測物Mの外周面における上下方向の一部分に投射し、受光部2により、被計測物Mの外周面における投光部1からの光の投射部分の下端よりも下方側に対応する部分からの透過光を受光する。 (もっと読む)


【課題】 耐久性を向上し得る分光分析装置用の投光装置を提供する。
【解決手段】 光源5からの光を被計測物に投射するように導く導光手段Gと、その導光手段Gの光路に位置させる光通過用開口6の開口面積を駆動手段7による開口面積変更用可動体8の移動操作により変更して、被計測物に投射される光の投射範囲を変更調節する投射範囲調節手段Aとが設けられた分光分析装置用の投光装置であって、
駆動手段7と開口面積変更用可動体8とが、熱伝導が抑制される状態で連動連結されている。 (もっと読む)


【課題】 設置時に取り付け誤差が発生していても、精度よく被計測物の品質評価値を計測することが可能となる内部品質評価装置を提供する。
【解決手段】 貫通孔57が形成された搬送用載置体1Aにて被計測物Mを載置搬送し、被計測物を透過した光を貫通孔57を通して受光して品質評価用の受光情報を得る計測手段と、被計測物の品質評価値を求める計測制御手段とを備え、その計測制御手段が、搬送用載置体1Aが設定位置に到達してから品質評価処理を実行するまでの待機時間を最適化するための制御モードにおいて、待機時間を設定単位時間ずつ異ならせる複数種の計測条件の夫々にて、被計測物を複数回計測して複数の計測データを求め、それら複数種の計測条件のうちで、複数の計測データが光量判定用条件を満たし、且つ、複数の計測データのバラツキが最も少ない計測条件における待機時間を最適であるとして設定する。 (もっと読む)


【課題】 校正用の基準体の損傷を防止しながら、その基準体のデータの計測精度を向上して内部品質情報の計測精度を向上し得る内部品質計測装置を提供する。
【解決手段】 校正用の基準体49を計測箇所Pmに位置させる状態と計測箇所Pmから退避した退避箇所Psに位置させる状態とに切り換え自在な基準体位置変更手段48が設けられ、搬送手段4の搬送方向において計測箇所Pmよりも上流側箇所にて、載置部51上の被計測物Mの存否を検出する被計測物存否検出手段が設けられ、その被計測物存否検出手段の検出情報に基づいて、被計測物Mを載置した載置部51が計測箇所Pmに達する前に、基準体49を退避箇所Psに位置させるように基準体位置変更手段を作動させる異常処理手段が設けられている。 (もっと読む)


物体からイメージャまでの距離より大きい物体を撮像するためのテラヘルツ走査型撮像装置。イメージャは走査素子、センサ、および画像プロセッサを備える。走査素子は放射線をセンサに向けるために使用される。多数の走査素子およびセンサを使用することができ、各々が視野の一部分を走査する。センサと連絡している画像プロセッサは、視野の統合2次元画像を生成する。 (もっと読む)


本発明は試料ガス「G」を入れたチャンバ20と、光出射手段3と、チャンバを通って反射した光を受光する手段4と、演算を行う電子回路5とで構成されたガス分析装置1で構成され、前記チャンバ20内に試料ガス「G」として存在する選択したガスあるいは混合ガスの存在をスペクトル分析によって分析決定するように構成される。前記チャンバには前記チャンバに出入りする試料ガスの通路として1つまたは数個の開口が設けられる。前記チャンバ20は多少湾曲した形状にされ、前記光出射手段3と前記光受光手段4の間に少なくとも1つの光反射面30bが凹状に湾曲して設けられる。前記開口30は前記光出射手段3と前記光受光手段4の間の狭い連続する領域に配置され、前記開口30はチャンバ20内の試料ガス「G」が別のガスと速い速度で交換できる寸法と縦方向範囲になっている。
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【課題】 スパン校正ガスを流すことができないようなラインにおいて分析計の経時変化による感度低下を容易にチェックすることができるガス分析計の校正方法およびガス分析計を提供するを提供する。
【解決手段】 セル1と、このセル1内に光を照射する光源2と、セル1を透過した透過光を受光し測定対象成分の吸光波長域の光を検出する主検出器4と、前記透過光を受光しサンプルガスによる吸収が少ない波長域の光を検出する比較検出器5とを有する非分散型のガス分析計の校正方法であって、光源2から主検出器4および比較検出器5までの光路中に、主検出器4の検出波長域における光の透過率が比較検出器5の検出波長域における光の透過率と異なるように構成された光学フィルタ10を配置することにより、セル1内にスパン校正ガスを流すことなくスパン校正を行なう。 (もっと読む)


本発明は、色収差無発生型且つ吸収低減型の光収集システム、特に光学的分光分析に適合させた同システムに関する。このシステムは、少なくとも1つの光源(52)によって放射される光を収集し、この収集された光を少なくとも1つの光検出装置(54)上に集束する。このシステムは、望ましくは、光源によって放射される光を収集し、この収集された光を第2のミラー(60)上に集束する第1のミラー(58)を備える。次いでこの第2のミラーは、この集束された光を光検出装置上に集束する。このシステムは、全ての光、特に紫外線放射光に対して透明なチャンバを備え、このチャンバ内に光源、光検出装置とミラー、並びにこのチャンバ内に真空を生成するか、又はこのチャンバ内に紫外線放射光に対して透明であるガスを充填する手段(118)が設置される。
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本発明は、互いに異なる波長の第1の入射ビーム(10)及び第2の光ビーム(11)をそれぞれ放出する第1及び第2の光学的源(7,8)を有する光デバイスに関する。鏡(15)であるのがよい反射手段が、反射光ビーム(12)を形成するよう第1の入射ビーム(10)の光路上に配置されている。反射手段は、反射ビーム(12)及び第2の光ビーム(11)が分析されるべき物体を暴露させる空間ゾーン(14)を通って共通のセンサ(13)に到達するよう第2の光ビーム(11)の光路に近接して配置されている。
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【課題】 時間幅が0.1ピコ秒以下の光パルスの照射によって発生する電荷の寿命を1ピコ秒以下とすることができる電磁波放射用アンテナを提供すること。
【解決手段】 この電磁波放射用アンテナ28は、半絶縁性基板と、半絶縁性基板に形成された光伝導薄膜と、コプラナー伝送線路とを有し、コプラナー伝送線路は、一対の伝送線路電極本体と、各伝送線路電極本体からそれぞれ突出する突起電極とを有し、一対の伝送線路本体は平行に配置されており、突起電極は互いに向かい合っており、向かい合う2つの突起電極の間隔が最小となっている電流通過領域の周囲に不純物が含まれており、電流通過領域の幅は2μm以上15μm以下である。この電磁波放射用アンテナ28は、テラヘルツ電磁波発生・検出装置に用いられる。 (もっと読む)


【課題】ガスセル1内部に配置された球面ミラー6,7の収差を補償し、ガスセル1の光透過率を低下させることのない光学セル測定装置を提供する。
【解決手段】ある波長範囲に広がった光を照射する光源Sと、前記光源Sから照射された光を反射させる第1のミラーM1と、前記第1のミラーM1で反射された光が導かれる長光路ガスセル1と、前記長光路ガスセル1から出射される光を反射させる第2のミラーM2と、前記第2のミラーM2で反射された光を検出するセンサDとを備え、前記光源Sから前記センサDまでの光路間に、光路に直交する2方向(X,Y)間で焦点距離の異なるバイフォーカル特性を有するレンズ21,22を配置している。 (もっと読む)


組成の異なる物質(12)の流れを自動的に検査するシステム(10)であって、略一定の強さの電磁放射線を含む検出用媒質を流れの照射区域(I)へ放射する放射装置(16)を包含し、この照射区域で媒質が物質(12)の表面に透入し、照射区域(I)が流れの幅を実質的に横切って連続的に延び、表面に透入している媒質が、物質(12)によって変化され、前記システムが、照射区域(I)から実質的に離れた検出区域(D)において物質(12)から出る変化した媒質を受け入れる受け装置(32)と、変化した媒質に依存して検出データを発生する検出装置(34)とをさらに包含し、システム(10)の使用において、受け装置(32)で受け入れられる変化した媒質の少なくとも大部分がトランスフレクトした媒質である。
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本発明は、電磁放射に対して透明な材料の電気光学特性を測定しその2次元マッピングを行うための方法において、実質的にコヒーレントで単色の電磁ビームを再生する第1のステップAと、電界を受け、分析される透過材料上にビームを投射する後続のステップBと、干渉測定システム5によって前記ビームを処理する後続のステップCと、前記干渉測定システムから出るビームを検出する後続のステップDとを含む方法であって、ステップBの投射が、干渉測定システム5から出るビームを2次元的に検出するのに適した装置7によって実施されるものに匹敵する2次元断面を有するまでビームが拡大されるように実施されることを特徴とする方法に関する。本発明はまた、本発明による方法で使用される、電界を材料に印加するための、液体電極を使用するセル、及びそのような方法を実施する機器に関する。
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