【課題】電子加速器を用いたレーザーコンプトン散乱によって準単色の扇形Ｘ線ビームを簡単に発生する方法及び装置を実現する。
【解決手段】磁場の向きを高速で切り替えることが出来る偏向磁石７を用いて、電子軌道に上下又は左右の偏向を与えることで軌道変形を行い、この偏向を与えることで、偏向を与えた電子軌道における点の下流において、任意の位置にノードを形成し、この位置にレーザーを集光することでレーザーコンプトン散乱によって扇型レーザーコンプトンＸ線ビーム１を発生させるとともに、偏向磁石７の磁場の向きを切り替え又は変調し、電子軌道の角度のみを切り替え又は変調することにより、レーザーコンプトンＸ線の発生方向を切り替え又は変調可能とする。 （もっと読む）

【課題】炭素製の荷電変換薄膜の作成および取り扱いを容易にすること。
【解決手段】陽子ビームが周回する周回軌道（１１）が内部に形成された加速器本体（２）と、前記加速器（１）に荷電粒子としての負極性水素イオンビームを、前記加速器本体（２）内に入射する入射部（３）と、前記入射部（３）から入射された前記負極性水素イオンビームの入射軌道（１１ｂ）上に配置され、前記負極性水素イオンビームから電子を剥離して陽子ビームに変換するカーボンナノチューブ薄膜により構成された荷電変換薄膜（１６）と、を備えた粒子加速器（１）。 （もっと読む）

負イオンプラズマを生成する処理システムが記載されている。当該処理システムでは、負の電荷を有する静かなプラズマが生成される。当該処理システムは、第1プロセスガスを用いてプラズマを発生させる第1チャンバ領域、及び分離部材によって前記第1チャンバ領域から隔離されている第2チャンバ領域を有する。前記第1チャンバ領域内のプラズマから生じる電子は前記第2チャンバ領域へ輸送されて、第2プロセスガスとの衝突によって静かなプラズマを生成する。前記第2チャンバ領域と結合する圧力制御システムが前記第2チャンバ領域内の圧力を制御するのに利用される。前記第2チャンバ領域内の圧力が制御されることによって、前記第1チャンバ領域から生じた電子は前記第2プロセスガスとの衝突を抑制して、負の電荷を有する前記静かなプラズマを生成するエネルギーの小さな電子を生成する。
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【課題】遮蔽のための構造を小さくすることができると共に冷中性子を効率よく発生させることができる中性子発生用ターゲット装置及び中性子発生装置を提供する。
【解決手段】 中性子発生装置のターゲット装置２０を、Li(p,n)反応によって中性子を発生するリチウム薄膜２８と、前記リチウム薄膜２８の陽子ビーム入射面を覆うベリリウム薄膜３０と、前記リチウム薄膜２８の陽子ビーム入射面とは反対側の面に固定され前記リチウム薄膜２８及び前記ベリリウム薄膜３０に機械的強度を付与するバッキングフォイル３２とから構成する。リチウム薄膜２８の厚さを、入射した陽子ビームが当該リチウム薄膜２８から出射するまでの間に、そのエネルギーがLi(p,n)反応の閾値以下に低下させる厚さに設定する。これにより、エネルギーの低い冷中性子を効率よく発生することができ、しかも、不要な放射線の発生を抑制できるため、遮蔽のための構造を小さくできる。 （もっと読む）

【課題】電子ビーム電流又はＸ線強度安定性において、高強度のＸ線を発生するＸ線発生装置を得る。
【解決手段】電子銃及び前記電子銃電源は、電子を放出するカソードと、カソードに対して高電位で電子を加速するアノードと、アノードに電圧を印加する電源と、カソードから熱電子を放出させるカソード加熱手段とを含む二極管であり、電子銃から出射される電子ビーム電流又は、電子ビームにより発生したＸ線の強度を測定し測定値を得るモニターと、モニターで測定した測定値に基づいて電子銃電源を制御するコントローラとを備え、コントローラにより、発生する電子ビームの単位時間あたりの平均電流を制御して、Ｘ線強度を一定にするようにした。 （もっと読む）

【課題】加速器室あるいは測定室における室内の低エネルギー中性子束を下げるため低エネルギー中性子束の反射が極めて少ない中性子遮蔽体を提供すること。
【解決手段】中性子遮蔽体１２は、コンクリート壁１４と、コンクリート壁１４にモルタルが塗られて形成されたモルタル壁１６とを含んで構成されている。床、天井、壁に対応した複数の中性子遮蔽体１２により加速器室あるいは測定室１８が形成され、加速器室あるいは測定室１８の床面全域、天井面全域、壁面全域にモルタル壁１６が臨んでいる。モルタルは、B₄Cをボロン換算量で5×10²⁰/ccから5×10²²/cc含有している。 （もっと読む）

【課題】理論値と同じ強度又はそれに近い強度であり、円錐状に放射されるＸ線又はＥＵＶ光を得ることができるターゲットユニット、電磁波発生装置及びその方法を提供すること。
【解決手段】曲線軌道の電子ビームが照射されて遷移放射又はパラメトリック放射を生じるターゲットユニットであって、電子ビームとの相互作用により遷移放射又はパラメトリック放射を発生し易い物質を有する、平板状のターゲット（Ｔ）と、ターゲット（Ｔ）の両端を、それぞれ保持する第１保持部（Ｍ１）及び第２保持部（Ｍ２）とを備え、第１保持部（Ｍ１）及び第２保持部（Ｍ２）の少なくとも一方が、ターゲット（Ｔ）中の、電子ビームが照射される領域（Ａ）において、曲線軌道を形成するための第１磁場（Ｈ）を打ち消す第２磁場（Ｈ１）を生成する。 （もっと読む）

【課題】 ベータトロン加速器で電子を加速するＸ線発生装置において、加速電圧を制御するコイルに過渡現象を含まない電圧を与えることにより、電子ビーム軌道の変更を正確に行えるようにする。
【解決手段】 電子ビームの軌道を制御するためのビーム制御コイル５に対し、複数の直流電源１１ないし１４のいずれか１つを接続する構成とする。電子ビーム軌道の遷移時に、スイッチ１５ないし１８のいずれか１つを投入してビーム制御コイル５に直流電圧を印加し、安定した電子ビーム軌道の変更を実現するようにしたものである。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で高放射線場の設置物の腐食を低減すること。
【解決手段】
高放射線場（６）に設置された放射線場設置物（７）と、前記高放射線場（６）内で前記放射線場設置物（７）に沿って設けられ気体が移送される気体流路（Ｙａ）と、前記気体流路（Ｙａ）から外れた位置に形成され気体が滞留する気体滞留空間（Ｖ１〜Ｖ３）と、前記気体滞留空間（Ｖ１〜Ｖ３）に配置され、放射線により発生する腐食性ガスを吸着する腐食性ガス吸着材（２１）と、を備えた高放射線施設（１）。 （もっと読む）

【課題】高周波帯域の位相調整器を用いることなく、１０ＭｅＶ以上の高エネルギーの荷電粒子ビームを、１ＭｅＶ未満まで効率よく減速することができ、これにより大規模な遮蔽を不要とし、システムの小型化や低コスト化を達成することができる荷電粒子ビーム減速装置および方法を提供する。
【解決手段】高エネルギーの電子ビーム１の軌道上に設置された高周波空洞３４と、高周波空洞内の電子ビーム１を高周波電場４の位相に同調させる位相同調装置４０とを備え、高周波空洞内の電子ビーム１を、高周波空洞３４の移動又は電子ビーム１の軌道長の変更により、高周波電場４の位相に同調させる。 （もっと読む）

【課題】電子線の進行を妨げることなくマイクロ波を遮断する構造により分離された複数の加速部を備える加速管や、単一の加速管に他の加速手段を同軸一体に設けた構成の装置に、複数のマイクロ波源またはマイクロ波パルスを選択的に接続することにより同一または異なる性質の電子線の発生を可能にする加速装置および加速装置を用いたＸ線発生装置を提供する。
【解決手段】本発明によるＸ線発生装置は、電子銃１５、加速管１６、第１のマイクロ波源１２、第２のマイクロ波源１３、マイクロ波スイッチ１４、制御回路１１を含む加速装置により、Ｘ線ターゲット１７を励起してＸ線を発生させる。 （もっと読む）

【課題】従来の製品より小形でありながら、しかも高エネルギーでより小径なスポットのＸ線を発射することが可能なＸ線源を得る。
【解決手段】Ｘ線源は、電子線を発射する電子線源と、この電子線源から発射された電子線を高周波電場で加速する加速管と、この加速管で加速された高エネルギの電子を衝突させてＸ線を放出するターゲットとを有する。加速管はターゲットに向けて発射される電子線のスポット径を１ｍｍ以下とし、ターゲットはＸ線案内孔を有するコリメータを備え、このコリメータのＸ線案内孔の孔径を０．６ｍｍ以下としている。より具体的には、電子線源から加速管に向けて発射される電子線のスポット径を１ｍｍ以下とし、加速管でこの電子線を加速し、前記のターゲットに衝突させる。 （もっと読む）

【課題】治療用放射線の線量をより高精度に制御すること。
【解決手段】高周波源５に対して移動可能に支持される支持体１４、８１と、支持体１４、８１に対して移動可能に支持される治療用放射線照射装置１６と、高周波源５から治療用放射線照射装置１６に高周波を伝送する導波管８とを備えている。治療用放射線照射装置１６は、その高周波を用いて治療用放射線２３を生成する。導波管８は、支持体１４、８１に固定される第１固定導波管７３と、治療用放射線照射装置１６に固定される第２固定導波管８５と、第１固定導波管７３と第２固定導波管８５との間に介設されるフレキシブル導波管８６、８７とを備えている。フレキシブル導波管８６、８７は、ロータリージョイントに比較して、伝送損失と反射影響が十分に小さく、放射線治療システム１は、その高周波の伝送効率の変動を小さくし、治療用放射線２３のエネルギーの変動を低減することができる。 （もっと読む）

【課題】放射線の線量をより高精度に制御すること。
【解決手段】高周波源５から加速管６４に高周波を伝送する導波路の一部を変形する自由導波管７４、７５、８６、８７と、導波路のうちの加速管６４と自由導波管７４、７５、８６、８７との間に介設される非可逆回路素子７７とを備えている。加速管６４は、高周波を用いて治療用放射線２３を生成するための荷電粒子５７を加速する。本発明による放射線治療システム１は、非可逆回路素子７７が導波路を高周波源５から加速管６４に向かって進行する高周波進行分に比較して導波路を加速管６４から高周波源５に向かって進行する高周波反射分を減衰させるときに、その高周波の打ち消しあいおよび波形歪みの発生を防止し、その伝送効率の変動を低減させることができ、治療用放射線２３の線量をより高精度に制御することができる。 （もっと読む）

【課題】放射線の線量をより高精度に制御すること。
【解決手段】高周波源５から加速管６４に高周波を伝送する導波路の状態を出力する装置２、６と、高周波を用いて加速管６４に所定電力が供給されるように、その状態に基づいて高周波源５を制御する制御装置７とを備えている。加速管６４は、高周波を用いて治療用放射線２３を生成するための荷電粒子５７を加速する。本発明による放射線治療システム１は、導波路の状態により導波管８が高周波を伝送する伝送効率が変化するときに、加速管６４により生成される荷電粒子５７のエネルギーの変動を小さくすることができ、治療用放射線２３のエネルギー（エネルギー分布）の変動を小さくすることができる。その結果、放射線治療システム１は、治療用放射線２３の線量をより高精度に制御することができる。 （もっと読む）

【課題】放電管の内部表面でのプラズマ損失を低減できるプラズマ源，それを用いた高周波イオン源，負イオン源，イオンビーム処理装置，核融合用中性粒子ビーム入射装置を提供することにある。
【解決手段】絶縁物で構成された放電管５と、放電管５の周囲に配置されたコイル３とを有する。コイル３に高周波を印加することで、放電管５の内部にプラズマを生成する。導体であるファラデーシールド４は、放電管５とコイル３の間に設置されるとともに、複数のスリット４Ｓを有する。複数の永久磁石６は、複数のスリットの間であって、ファラデーシールド４の外側に設置され、放電管５の内部に多極磁場Ｂを生成する。 （もっと読む）

【課題】 エネルギーが同じである中性化ビームを発生する中性粒子ビーム発生装置を提供する。
【解決手段】 本発明の中性粒子ビーム発生装置は、プラズマを生成し、イオン粒子を放出するイオン源と、イオンビームをパルス化するパルス化手段と前記イオンビームから多価イオン粒子を除去する多価イオン粒子除去手段と、イオン粒子を中性化して中性粒子を生成する中性粒子生成手段と、前記中性粒子生成手段により生成された中性粒子に含まれる他の粒子を除去する除去手段と、前記他の粒子が除去された中性粒子ビームが照射される処理手段とを備える。 （もっと読む）

同じエネルギーの線形加速器と比べて、より小型で、より効率的で、より安価な小型電子加速器を備えた、マルチエネルギーを用いた貨物検査システムである。このシステムは、コンテナの元素含有量を認識する性能を強化したものであり、隠された爆発物や核分裂性物質を見つけるために使用することができる。 （もっと読む）

【課題】光源サイズが数μｍの、コンパクトで低コストな高輝度のX線を得る円形加速装置、電磁波発生装置、及び電磁波撮像システムの提供。
【解決手段】高電圧電源から供給されるパルス状電圧を印加することにより電子をパルス的に発生する電子発生手段１と、電子発生手段１で発生した電子を入射し、この入射した電子を加速する電子加速手段１３、及び入射した電子を偏向させるための電子偏向手段１４を有する円形加速器とからなる円形加速装置２において、前記高電圧電源は、電子発生手段１に印加する前記パルス状電圧の立ち上がり時間波形及び立ち下がり時間波形の少なくとも一方を鈍らせる回路要素を備えた。 （もっと読む）

【課題】液体金属を貯蔵するターゲット容器高温部を低温にする作用ばかりではなく、ターゲット容器における低温部分を温度上昇させることにより、高温となる陽子ビーム入射窓部と容器の低温部分との温度差を是正し熱応力を低減すると共に、構造における強度健全性を熱負荷に対して確保することのできる金属ターゲットを提供する。
【解決手段】陽子ビームをターゲット容器内に貯蔵された液体金属に照射して核破砕反応により中性子を発生させると共に、液体金属を熱媒体として循環流動させる中性子発生装置用液体金属ターゲットにおいて、ターゲット容器は、陽子ビームの照射部と、照射部分を挟んで液体金属の流入側と、その流出側とを有し、ターゲット容器壁の陽子ビームの照射部近傍で流出側にのみ、ターゲット容器の高温状態にある照射部と照射部近傍の流出側との温度差を低下させる調整手段を設けたことを特徴とする。 （もっと読む）