本発明により、光リソグラフィを中心としたナノファブリケーションのための高分子素材として好適なハイパーブランチポリマーを提供する。本発明のハイパーブランチポリマーは、クロロメチルスチレン等のリビングラジカル重合により形成されるコア部に結合した、ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシスチレン等の酸分解性基をポリマー分子末端に有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】常温で液状であり、取り扱いが容易である（メタ）アクリレートの提供、さらには溶剤に対する溶解性が向上した（メタ）アクリレート（共）重合体を提供することを目的とする。
【解決手段】下記一般式（１）で表されるノルボルナンラクトン系（メタ）アクリレート。
【化１】


（上式において、Ｒ₁は炭素数２〜４のアルキレン基、ｎは１〜３の整数、Ｒ₂は水素原子またはメチル基を表す。）
また、一般式（１）で表されるノルボルナンラクトン系（メタ）アクリレートを含む単量体混合物を重合することによって得られる（共）重合体。
本発明の好ましい態様として、一般式（１）で表される化合物の少なくとも１種と、共重合可能な化合物の少なくとも１種を含む単量体混合物を重合することによって得られる共重合体であって重量平均分子量（Ｍｗ）が２０００〜２０００００である共重合体。 （もっと読む）

官能基の濃度が高く充分な官能基の特性を得ることができ、幅広い波長領域で高い透明性を有する含フッ素化合物、含フッ素ポリマーおよびその製造方法を提供する 下記式（１）で表される含フッ素ジエンを提供する。 ＣＦ_２＝ＣＦＣＨ_２ＣＨ（Ｃ（Ｒ^１）（Ｒ^２）（ＯＨ））ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２ （１） ただし、Ｒ^１とＲ^２は、それぞれ独立にフッ素原子、あるいは炭素数５以下のフルオロアルキル基を表す。 （もっと読む）

本発明は、ターポリマーである化合物を提供し、これは、（ａ）フッ素原子少なくとも1つが共有結合したエチレン性不飽和線状又は分岐化合物少なくとも１種と、（ｂ）前記ターポリマーにおいて、環状又は多環式脱結晶化モノマーを形成する、フッ素原子少なくとも1つが共有結合した環状又は多環式化合物のエチレン性不飽和前駆体少なくとも１種と、（ｃ）前記ターポリマー中のモノマーとして、酸又は塩基に曝されると、溶解度を変えるエチレン性不飽和官能化合物少なくとも1種とのターポリマーである化合物である。そのような化合物の製法及びフォトリソグラフィでの使用法も記載する。 （もっと読む）

【課題】 １９３ｎｍ以下の波長にて改善された透明性を有し、像ぼやけを最小にする、レジスト組成物及びフォトリソグラフィ・プロセスに有用な改善されたシルセスキオキサン・ポリマー構造を提供すること。
【解決手段】 本発明は、シルセスキオキサン・ポリマーと、こうしたシルセスキオキサン・ポリマーを含有するレジスト組成物を提供するものであり、このシルセスキオキサン・ポリマーの少なくとも一部はフッ素化部分を有し、このシルセスキオキサン・ポリマーの少なくとも一部は、酸触媒による開裂反応のための活性化エネルギーが低く、光学密度の高い部分の存在を最小化又は回避する、溶解抑制型ペンダント酸不安定部分を有する。本発明のポリマーはまた、水性アルカリ溶液中でのレジストのアルカリ溶解を促進するペンダント極性部分を有する。本発明のポリマーは、ポジ型レジスト組成物に特に有用である。本発明は、基板にパターン形成された構造体を形成する際にこうしたレジスト組成物を用いる方法、特に多層（例えば二層）フォトリソグラフィ方法を包含し、この方法は１９３ｎｍ及び１５７ｎｍのような波長にて高解像度の像を生成できる。 （もっと読む）

新規なポジティブ・ワーキング・フォトレジスト組成物が開示されている。該レジストの原樹脂のモノマーは、ポリマンタン系においてアダマンタンよりも高級なダイヤモンド状核含有側基、例えば、ジアマンタン、トリアマンタン、テトラマンタン、ペンタマンタン、ヘキサマンタン等を含有している。該ダイヤモンド状核含有側基は、水酸基のような親水性増進置換基を有することが出来、ラクトン基を含有することが出来る。本組成物の利点には、改良された解像度、感度、及び基体への接着性が含まれる。
（もっと読む）

本発明は、光画像形成およびフォトレジスト組成物に有用な低多分散性コポリマーに、ならびにこれらの組成物を使用する光画像形成方法に関する。本発明の低多分散性コポリマーは、ＲＡＦＴ（可逆付加開裂連鎖移動）重合のような、制御ラジカル重合（ＣＲＰ）技術を用いて製造される。 （もっと読む）

本発明は、光画像形成およびフォトレジスト組成物に有用な低多分散性アクリルポリマーに、ならびにこれらの組成物を使用する光画像形成方法に関する。本発明の低多分散性ポリマーは、ＲＡＦＴ（可逆付加開裂連鎖移動）重合のような、制御ラジカル重合（ＣＲＰ）技術を用いて製造される。 （もっと読む）

構造（Ｉ）のモノマーの重合により形成されたモノマー単位を有するポリマーとコポリマー（ここで、Ｒ¹はエチレン性不飽和の重合性基を含む部分構造であり、Ｒ²はＣ₁〜Ｃ₃のアルキレン基であり、Ｒ³は、Ｃ₁〜₁₀の線状若しくは環状アルキル基、Ｃ₆〜₁₀の芳香族若しくは置換芳香族基、Ｃ₁〜₈のアルコキシメチル基、又はＣ₁〜₈のアルコキシエチル基である）は、感光性組成物のバインダー樹脂として、また、半導体デバイスや材料の製造におけるフォトリソグラフィープロセスに有用である。
【化１】

（もっと読む）

（ａ）成膜性樹脂；
（ｂ）次式
【化１】


［式中、Ｒ₁は、C_1-20アルキル基、C_6-20アリール基またはC_6-20アラルキル基であり、この際、前記のC_1-20アルキル基、C_6-20アリール基またはC_6-20アラルキル基は、置換されていないか、またはハロゲン、C_1-20アルキル、C_1-8パーフルオロアルキル、C_1-20アルコキシ、シアノ、ヒドロキシルもしくはニトロから選択される一つもしくはそれ以上の基によって置換されており； Ｒ₂及びＲ₃は、それぞれ独立して、水素、C_1-8アルキル、C_1-8パーフルオロアルキル、C_1-8アルコキシ、ニトロ、ハロゲン、カルボキシル、ヒドロキシル及びスルフェートから選択され； ｍ及びｎはそれぞれ独立して０または正の整数であり； そしてＸ^-は酸の非求核性アニオンである］
で表される化合物；
（ｃ）場合によっては、光学的、機械的及び成膜特性を調節するための添加剤；
（ｄ）場合によっては、塩基または感放射線性塩基； 及び
（ｅ）溶剤、
を含む、ｉ線（３６５ｎｍ）でフォトレジスト層を形成するのに有用な組成物。
（もっと読む）

本発明は、リビングフリーラジカル重合技法によるフォトレジストポリマーの調製に関する。立体的にかさ高いエステルモノマーは、重合成分として利用される。連鎖移動剤の使用は重合処理条件に含まれる。ヘテロ原子を含むポリマー末端基の開裂について述べる。本発明のフォトレジスト組成物は、光酸発生剤と、式［Ａ］_ｘ［Ｂ］_ｙ［Ｃ］_ｚ（式中、Ａ、ＢおよびＣはそれぞれ個別に以下の構造の１つであり、式中、Ｂ≠Ｃという条件で、ｘは両方の数値を含めて約０〜約２００であり、ｙは両方の数値を含めて約１〜約２００、ｚは両方の数値を含めて約１〜約２００である）を含むポリマー樹脂を含む。
（もっと読む）

高い酸強度、低揮発性および低拡散率を有する光酸を提供する、光活性部分と過フッ素化多官能性アニオン部分（または初期アニオン部分）とを含む光酸発生剤（ＰＡＧ）が開示される。本発明はさらに、マイクロリソグラフィのためのフォトレジストおよび光重合などの用途のための光開始または酸触媒方法において用いられるような光酸発生剤に関する。 （もっと読む）

本発明は、深紫外線領域の放射線に感度を示す新規のフォトレジスト組成物、特に１００〜３００ｎｍの範囲に感度を示すポジ型フォトレジスト、並びにそれを使用する方法に関する。このフォトレジスト組成物は、ａ）水性アルカリ性溶液中に不溶性でかつ少なくとも一つの酸感応性基を含むポリマーであって、更に、少なくとも一種の脂環式炭化水素単位、少なくとも一種の環状酸無水物、構造式１を有する少なくとも一種のアクリレート単位、及び構造式２を有する少なくとも一種のアクリレート単位を含む上記ポリマー；


［式中、
Ｒ’及びＲは、独立してＨまたは(C₁-C₄)アルキルであり、
Ｒ₁は、環状ラクトン側鎖基であり、そして
Ｒ₂は、非ラクトン系脂肪族炭化水素側鎖部である］
ｂ）露光時に酸を生成することができる化合物またはこのような化合物の混合物を含む。本発明は更に、バレロラクトンを含む溶剤を感光性材料の溶剤として使用することにも関する。好ましくは、溶剤はガンマバレロラクトンである。この溶剤は、一種または二種以上の他のフォトレジスト溶剤との混合物でもよい。
（もっと読む）

本発明は、フォトレジスト組成物の調合に使用することができる新規の光活性化合物に関する。 （もっと読む）

多環式オレフィンモノマー、及び所望によりアリル的又はオレフィン的モノマーのオリゴマー、並びに多環式オレフィンモノマーを、Ｎｉ又はＰｄを含有する触媒の存在中で、或いはアリル的モノマーの場合、フリーラジカル開始剤の存在中で反応させることを含むこのようなオリゴマーを製造する方法。オリゴマーは、フォトレジスト組成物中に溶解速度調整剤として含めることができる。フォトレジスト組成物は、更にポリマーの結合樹脂、光酸発生剤、及び溶媒を含むことができる。 （もっと読む）

【課題】高感度、高解像度、寸法制御性等の諸性能に優れたアルカリ水溶液を用いて現像するポジ型パタン形成材料およびそれを遮光膜として機能させる露光用マスクの製造方法を提供する。
【解決手段】放射線照射により酸を生じる化合物およびカルボキシル基および／またはフェノール性水酸基を有するバインダ樹脂、１分子中に少なくとも２個以上のビニルエーテル基を有する化合物、および窒素含有樹脂結合剤を酸触媒付加反応させて得られる組成物を少なくとも含むパタン形成材料を用いる。 （もっと読む）

【課題】 半導体装置の表面にさらに微細なパターンを形成することができる微細レジストパターン、微細パターンの形成方法及び半導体装置を提供する。
【解決手段】 基板６上に、特定の元素を含む特定のガスに接触して特定の元素と結合し所定のエッチングガスに対する耐性が強化される性質を有するレジスト層９を形成する工程と、レジスト層９に第一の露光１０を行い、第一の露光領域９ｂと第一の非露光領域９ａとを形成する工程と、第一の露光領域９ｂに対して第二の露光１１を行い、第二の露光領域９ｃと第三の露光領域９ｄとを形成する工程と、レジスト層９を特定のガスにさらして第三の露光領域９ｄのみを特定の元素と結合させる工程と、第二の露光領域９ｃと第一の非露光領域９ａとをエッチングにより除去し第三の露光領域９ｅからなるレジストパターンを形成する工程とを備えた。 （もっと読む）

【課題】 放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等に優れ、露光後の加熱時の温度依存性が小さい感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）（メタ）アクリル酸５−ｔ−ブトキシカルボニルノルボルニル、（メタ）アクリル酸８−ｔ−ブトキシカルボニルテトラシクロドデカン等で代表される酸解離性基含有脂環族構造を有する（メタ）アクリル酸エステル類と、下記式（１）の化合物等で代表されるラクトン基含有複素環構造を有する（メタ）アクリル酸エステル類との共重合体からなる樹脂、および（Ｂ）１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシ−１−ナフチル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート等で代表される感放射線性酸発生剤を含有する。
【化１】 （もっと読む）

【課題】 電子線リソグラフィーを用いて、良好な形状を有する数十ナノメートル径のホールパターンを形成する。
【解決手段】 下地表面上に、ポジ型の電子線レジストを含有するレジスト層を形成し、前記レジスト層に電子線を照射した後、現像することにより、前記レジスト層にホールを形成する工程を有し、前記ホールの平均径をＷ（単位：nm）とし、Ｗが８０のときの最適な電子線照射量をＤ₈₀としたとき、４０≦Ｗ≦７０であるホールを形成する際に、電子線照射量Ｄ_Wが０．８５×６０／（Ｗ−２０）≦Ｄ_W／Ｄ₈₀≦１．１×６０／（Ｗ−２０）
を満足するように電子線を照射するレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】 経時によるビス（トリハロメチル）−ｓ−トリアジン化合物の凝集がなく、保存安定性に優れる感光性組成物、及び該感光性組成物を用いた感光性平版印刷版を提供する。
【解決手段】 エステル結合を含む置換基を有するフェニル基を置換基として少なくとも有するか、水酸基で置換された置換基をｏ−位又はｍ−位に有するフェニル基を置換基として少なくとも有し、且つ、水不溶性及びアルカリ不溶性であるビス（トリハロメチル）−ｓ−トリアジン化合物を含有する感光性組成物、並びに、支持体表面に該感光性組成物からなる層が形成されてなる感光性平版印刷版。 （もっと読む）