【課題】光を面の形の照明光源に結合する装置と方法を提供する。
【解決手段】装置は光の拡散作用を含む線形光源１０２から構成される。また装置はシート１０４の第１の端に沿って線形光源１０２が置かれている。線形光源１０２は光を拡散し、シート１０４の第１の端に沿った光は特定のパターンで発光する。 （もっと読む）

【課題】小型・簡易制御の焦点が可変なミラーにおいて、球面収差の補正と、信頼性向上を図る。
【解決手段】焦点が可変なミラーおよびこれを用いた光ピックアップは、可撓み膜と、前記可撓み膜の片面に形成する反射膜と、前記可撓み膜に前記反射膜を形成する面と反対の面に形成する環状の構造体と、から構成されたミラー素子部と、前記環状の構造体に対して電力で駆動力を印加する駆動手段と、から成る焦点が可変なミラーにおいて、前記環状の構造体は弾性体であり、また前記環状の構造体の可撓み膜との接触面の外形と前記可撓み膜の膜厚方向から見た面の外形は楕円形である。 （もっと読む）

【課題】偏光素子と反射ミラーを備えた光照射装置において、光が照射されない部分や照度が低い部分が生じても、ワークに与える影響をできるだけ小さくすること。
【解決手段】光出射部１０はショートアーク型の放電ランプとリフレクタとを備えた光源部１２を複数並べて構成されており、光出射部１０から出射した光は反射ミラー２０で一方向に集光され偏光素子４５を介して図示しないワークに照射される。反射ミラー２０は複数の反射ミラーを突き当てて並べて構成したものであり、偏光素子４５も複数の平行四辺形状の偏光素子を並べ、その端部を重ね合わせて構成されたものであり、反射ミラー２０と偏光素子４５の境界部分Ｅ１，Ｅ２はワークの進行方向（同図Ｙ方向）に対して斜めになるように、かつ、境界部分Ｅ１，Ｅ２は重ならないように構成されている。このため、境界部分により生ずる照度が低くなる領域がワーク上の特定部分に集中しない。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ集光ミラーを再現性よく位置決めするとともに、ＥＵＶ集光ミラーにおける歪みの発生を抑制する。
【解決手段】基板材と、基板材の第１の面に設けられた反射膜と、基板材の第１の面と異なる第２の面に設けられた複数の突起部とを含むミラーと、複数の突起部をそれぞれ支持する複数の支持部であって、複数の突起部をガイドするための複数の溝がそれぞれ形成された複数の支持部と、複数の突起部を、複数の支持部の溝に向けてそれぞれ押し付ける複数のクランプ部と、を備えていても良い。 （もっと読む）

【課題】位置調整が簡易で製造が容易な光学素子、かかる光学素子を容易に作製できる製造方法、かかる光学素子を用いた組立容易な光アシスト磁気記録ヘッド、及びかかる光アシスト磁気記録ヘッドを用いた製造容易な磁気記録装置を提供する。
【解決手段】外周が曲面である棒状透明体の延在方向に沿って、切断または研磨を２回行って面が略９０度を成す棒状素子を得、得られた当該棒状素子を延在方向に対して垂直な面を形成するように複数回切断または研磨して光学素子を得る。 （もっと読む）

【課題】日中に太陽が存在する側の領域のヘリオスタットを省略すると共に、センターミラーを小型化したビームダウン型太陽集光装置を提供する。
【解決手段】センターミラーは、日中に太陽が存在する南側とは反対側の北側が切欠かれた部分回転楕円形状になっている。そのため、従来よりも小型になり高い位置に設置しやすい。また、ヘリオスタットは主に北側に配置して太陽光を反射する際にロスの多い南側を省略した。ヘリオスタットの数は減るものの、全体のエネルギーのロスはそれほど大きくなく、減った分のヘリオスタットのコスト削減を考慮すると、結果的に太陽光の利用効率及びコストの面で有利な構造となる。 （もっと読む）

【課題】単一のビームから一定の断面を備えたビームを与え得る光学装置を提供する。
【解決手段】以下を包含する光学装置：円錐部分を有するプリズムであって、該円錐部分は、該プリズムの前方末端にある頂点および該プリズムの該頂点を通って伸長している中心軸を備えている；電磁放射光源を含む光学配置であって、該光学配置は、該円錐部分の該中心軸と実質的に整列した方向で、電磁放射線の入射ビームを、該円錐部分の該頂点上へと向けるように適合されている；および 該プリズムの該頂点の後方に設けた反射面；ここで、該プリズムにより屈折した該ビームは、該反射面により、該プリズムを通って後方へ反射されて、電磁放射線の環状ビームとして、該プリズムの該前方末端から投射するようにされる、光学装置。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光源におけるＥＵＶコレクタの反射表面からデブリを除去するための方法および装置を提供する。
【解決手段】電流源（ＤＣ電圧源）２２０は、コレクタミラー１５０、ミラー１５０のための金属製バッキング材（アルミニウムまたはニッケル）に接続されてよい。ミラー１５０は、チャンバ２６の内側を満たす周囲ガス（ヘリウムガス）の温度よりも高い温度に加熱されてよい。デブリ洗浄のもう一つの側面、ＲＦ周波数電圧２３０およびチャンバ２６内の２３２で模式的に示すアンテナからの、ＲＦの導入が組込まれてもよい。ＲＦは、ミラー１５０または金属製バッキング材に接続されてもよく、この場合、適切な導電性材料製で且つアース電位に接続された暗シールドが、コレクタミラー１５０の背面を覆って形成されてよく、これは絶縁体（空気ギャップ）および電圧（ミラー１５０にも接続されたＤＣ電源２２０からのＤＣ）によってミラーから分離される。 （もっと読む）

【課題】ミラーピースの取付け作業及び交換作業が容易なビームダウン型太陽集光装置の二次ミラーを提供する。
【解決手段】ミラーピース５の裏面に予め磁石１１を固着しておき、その磁力によりミラー本体４に取付けため、ミラー本体４に対する取付け作業及び交換作業が容易である。ミラーピース５を取付けるための磁石１１が、サマリウムコバルト磁石又はアルコア磁石であるため、熱的安定性に優れ、高温になってもミラー本体４に対する磁力が低下しない。 （もっと読む）

【課題】可撓性を損なうことがなく、熱、または熱と加圧とによる界面の凹凸形状の変形を抑制することができる光学フィルムを提供する。
【解決手段】本発明に係る光学体は、凹凸形状の界面を内部に有する光学層と、界面に設けられた無機材料を主成分とする中間層とを備える。光学層が、凹凸形状の第１の面を有する第１の光学層と、凹凸形状の第２の面を有する第２の光学層とを備える。界面は、対向配置された第１の面と第２の面とにより形成され、第１の光学層、および第２の光学層の少なくとも一方が、１００℃での貯蔵弾性率が３×１０⁷Ｐａ以上であり、２５℃での貯蔵弾性率が３×１０⁹Ｐａ以下である。 （もっと読む）

【課題】高精細な観察像を観察することが可能な焦点距離の長い高精度のフレネル光学素子及びそれを用いた光学系を提供する。
【解決手段】フレネル光学素子は光を透過屈折又は反射させる複数の斜面を有し、隣接する前記斜面のスロープ角の変化量が一定であることを特徴とする。複数の斜面は以下の式で与えられる回転対称非球面を近似して形成される。Ｚ＝（Ｙ²／Ｒ）／［１＋｛１−（１＋ｋ）Ｙ²／Ｒ²｝^1/2］＋ａＹ⁴＋ｂＹ⁶＋ｃＹ⁸＋ｄＹ¹⁰＋・・・−１＜ｋ＜０ただし、３軸右手直交座標系のＺ軸を中心軸としたＹ−Ｚ平面において、Ｒは近軸曲率半径、ｋは円錐定数（コーニック定数）、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、…はそれぞれ４次、６次、８次、１０次の非球面係数、である。フレネルピッチを変化させることにより、スロープ角の変化量を一定にし、像の不連続性を低減することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】観察者の目の前方に配置するヘッドマウント式表示装置に関し、小型化を可能にする。
【解決手段】表示素子５５から発射されて結像素子５６を通った光が通る第１及び第２の焦点を有する第１の楕円体５１の一部として形成された第１の凹面鏡５３と、第２の焦点と共通の位置に配置される第３の焦点及び第４の焦点を有する第２の楕円体５２の一部として形成された第２の凹面鏡５４とを備え、表示素子から発射された光が第１の焦点の近傍に集光され、第１の焦点を通った光が第１の凹面鏡によって反射されて共通の第２及び第３の焦点に向かって進み、第２及び第３の焦点を通った光が第２の凹面鏡によって反射されて第４の焦点の近傍に集光され、観察者の目が第４の焦点の近傍に配置されるようにした。 （もっと読む）

【課題】高熱負荷状態でのEUV波長域での使用に適した、反射光学素子を提供する。
【解決手段】本発明は、ＥＵＶシステムで用いる反射光学素子（１０）に関するものであり、少なくとも部分的には基板材から製造されるベース体（１）と、当該ベース体内に配置された、冷却媒体（７）が流れる少なくとも１つの冷却チャネル（６）とを備える。本発明では、５０W/mKよりも大きい熱伝導率を有する材料を基板材として備え、反射光学素子は、基板材に適用され、研磨加工可能なアモルファス材料を含む研磨層を備える。 （もっと読む）

【課題】楕円鏡でない反射パネルを利用する場合も、ヘリオスタットの姿勢制御が容易に行える太陽光の集光構造を提供する。
【解決手段】ヘリオスタット１Ａ、２Ａ、３Ａからの太陽光Ｌを平面視における１つの交点Ｐに向けて反射するため、ヘリオスタット１Ａ、２Ａ、３Ａの姿勢制御が容易である。３枚の反射パネル１Ｂ、２Ｂ、３Ｂを三角状に配置し、筒型集光器９をその中心に配置したため、反射パネル１Ｂ、２Ｂ、３Ｂを互いに密接した状態で配置することができる。反射パネル１Ｂ、２Ｂ、３Ｂが密接すれば、筒型集光器９内に入光する太陽光Ｌの角度がなるべく鉛直に近づき、ロスの少ない効率的な集光を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】 拡散入射照明を作り出し、異なる作動距離に対し容易に適用可能であって、使用者がケガをする危険性及び装置に対する損傷の危険性を減少させ、且つ試料に容易に接近可能であって操作が簡単である、顕微鏡用照明装置をもたらすことである。
【解決手段】 少なくとも一つの光源と、拡散照明をもたらすためのリフレクターとを備えて構成され、前記リフレクターが少なくとも部分的に、顕微鏡対物鏡と観察されるべき対象物との間の観察ビーム路を取り囲んでいる、顕微鏡用照明装置において、リフレクターは少なくとも部分的に弾性があって、且つ少なくとも第一空間的形態から少なくとも第二空間的形態へ可逆的に変形可能である、照明装置によって解決される。 （もっと読む）

【課題】反射ユニット及び光源を工夫することにより、小型化及び装置コストの低減を図ることができるとともに、上部光源ユニット及び下部光源ユニットの切り換え効果を発揮させることができる。
【解決手段】仕切り位置ｄｐに仕切りミラー２８を備えているので、上部光源ユニット２９と下部光源ユニット３１から出射された光の照射範囲を従来に比較して明確にすることができる。したがって、光源制御部により、画像信号出力部６５から出力される画像に応じて各光源を切り換えることにより切り換え効果を好適に発揮させることができる。その結果、右眼用画像と左眼用画像が混濁して観察されるクロストークを抑制することができ、立体画像を明確に表示させることができる。 （もっと読む）

【課題】極端紫外（ＥＵＶ）又はＸ線放射光を反射するためのゾーン最適化ミラーを提供する。
【解決手段】極端紫外（ＥＵＶ）又はＸ線放射光１８を反射するためのゾーン最適化ミラーＭＺは、コーティングＣ１、Ｃ２、…Ｃｎを有する二以上のほぼ区分されたゾーンＺ１、Ｚ２、…Ｚｎを有する反射面Ｓを備える。各コーティングは、放射光の入射角のうち所定範囲を最適に反射させる。一以上のゾーン最適化ミラーを有するＥＵＶ光学系１０とＥＵＶリソグラフィ２００も開示されている。 （もっと読む）

前方向にビームを形成するビーム形成装置は、光源から光を受けてこれを後方に反射するように配置された第一反射器、および前記第一反射器から光を受けてこれを前記第一反射器の開孔を通じて前方に反射するように配置された第二反射器を含む。最後部の反射器は双曲面の形状であり、前方反射器は有利なことに楕円形である。この配置は、一定の予測可能な方法で実現される、変動する制御可能な集光の、複数の異なるビームパターンを提供する。
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【課題】高い効果を持ち、比較的安価なリフレクタ設計された照射装置、照明装置および集光装置を提供する。
【解決手段】照射装置は、光源とリフレクタを備える。リフレクタは、光源に隣接する第１光学界面であって、光源から出射され、第１光学界面に入射する光の向きをフレネル反射で変化させる第１光学界面を備える。さらに、リフレクタは、光源に対向する側において第１光学界面に隣接しており、第１光学界面を透過する光を全反射で再び第１光学界面に向けて反射する第２光学界面を備える。また、集光装置はこのようなリフレクタを備える。 （もっと読む）

【課題】小型化と低コスト化を図った輪帯光源装置等を提供する。
【解決手段】環状の集光レンズ８と、集光レンズ８の入射面に沿って環状に配置された、線状の照明光を集光レンズ８の入射面に射出する複数の線状光源装置１００と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）