【課題】ウィスパリングギャラリモード（ＷＧＭ）光共振器を用いた同調可能フィルタを提供すること。
【解決手段】ウィスパリングギャラリモード（ＷＧＭ）光共振器を用いる同調可能光フィルタが記載されている。フィルタのＷＧＭ光共振器は、電気光学効果を示し、従って、制御電気信号を加えて同調できる。 （もっと読む）

【課題】良好な分光特性が得られ、且つ耐光性に優れたカラーフィルタを提供する。
【解決手段】半導体基板１８及び絶縁層１３上に、ブルー（Ｂ）色、グリーン（Ｇ）色、レッド（Ｒ）色カラーフィルタ１４Ｂ，１４Ｇ，１４Ｒを形成する。Ｂ色カラーフィルタ１４Ｂを、バイオレット（Ｖ）色の分光特性を有する誘電体多層膜層２０Ｖと、Ｂ色の着色剤含有組成物層２１Ｂとを積層して形成する。Ｇ色カラーフィルタ１４Ｇを、Ｙ色の分光特性を有する誘電体多層膜層２０Ｙと、Ｇ色の着色剤組成物層２１Ｇとを積層して形成する。Ｒ色カラーフィルタ１４Ｒを、Ｒ色の分光特性を有する着色剤含有組成物層２０Ｒと、Ｙ色の誘電体多層膜層２１Ｙとを積層して形成する。各色カラーフィルタ１４Ｂ，１４Ｇ，１４Ｒは、堅牢性の高い誘電体多層膜層と、分光特性が良好な着色剤含有組成物層とから形成されているので、良好な分光特性が得られ且つ耐光性に優れている。 （もっと読む）

【課題】光の利用効率および合成画像の色再現性を向上できる色分離合成プリズムを提供することにある。
【解決手段】第１プリズム１１と、第１プリズム１１に接合された第２プリズム１２と、第１プリズム１１と第２プリズム１２との接合面１３の異なる領域に形成された光学特性の異なる第１光学膜１４および第２光学膜１５と、を有する。 （もっと読む）

【課題】各種製品の外観色に漆塗り調の深みのある独特の色合いをもたせる光学干渉薄膜を提供する。
【解決手段】下地基板３に金属層Ｌ１を形成し、その上に屈折率ｎが異なる薄膜層Ｌ２〜Ｌ８を積層した干渉薄膜層Ｌｓを設ける。干渉薄膜層Ｌｓの表面に透明な保護層Ｌ９を形成する。干渉薄膜層Ｌｓが反射光に波長依存性のある強度変調を与え、また薄膜層Ｌ２，Ｌ４，Ｌ８がもつ光吸収により反射光量は低く抑えられ、独特の色合いをもった外観色が得られる。屈折率ｎ、消衰係数ｋ，虚数ｉを用いて薄膜層Ｌ２，Ｌ４，Ｌ８の複素屈折率Ｎを「Ｎ＝ｎ−ｉｋ」としたとき、「１．３６≦ｎ≦３．５」、「０．１≦ｋ≦６」が満たされる。 （もっと読む）

【課題】波長選択性が高く、光の入射角の許容範囲が広い波長選択フィルタを提供する。
【解決手段】入射光が入射する面に形成され、Ｘ軸方向に関して矩形波形状の凹凸構造部を有する基板１０１ａと、該凹凸構造部を覆う透明膜１０１ｂとを有し、透明膜１０１ｂの屈折率は、基板１０１ａの屈折率よりも大きい。また、各凸部の＋Ｘ側に隣接する透明膜１０１ｂと、各凸部の−Ｘ側に隣接する透明膜１０１ｂとの間に空気の層を有している。この場合には、波長選択性が高く、かつ光の入射角の許容範囲を従来よりも広くすることが可能となる。 （もっと読む）

【目的】赤色光射出面における固体撮像素子からの戻り光により生じるゴーストやフレアを大幅低減させるとともに、この色分解光学系を搭載するカメラの実用性の低下を防止し得る色分解光学系を提供する。
【解決手段】色分解プリズム部１０の入射プリズム面１１ｃよりも光入射側の光路Ｌ中に、赤外光カットフィルタ２０を備え、赤色分解プリズム１２の赤色光射出面１２ａには、光反射防止膜３０を付設してなる。赤外光カットフィルタ２０の光入射面側に設けた赤外光カット用ダイクロイック膜２２の特性は、少なくとも波長450nm〜630nmの範囲の光を80%以上透過し、波長650nm〜750nmの範囲内に、この範囲内における最大透過率の1/2の透過率となる波長が存在し、750nmより長波長となる所定値以上の波長域において、透過率が5%以下とされてなる、ものである。 （もっと読む）

【課題】 スペクトル純度を改善することができる光学エレメントを提供する。
【解決手段】 本発明は、第１の材料を含む少なくとも第１の層を備えた構造であって、第１の波長の放射に対しては実質的に反射型であり、かつ、第２の波長の放射に対しては実質的に透過型または吸収型であるように構成された構造と、第２の材料を含む第２の層であって、第２の波長の放射に対して実質的に反射型、吸収型または散乱型であるように構成された第２の層と、第１の層と第２の層の間の真空とを備えた光学エレメントであって、第１の層が、第１の波長の放射のスペクトル純度を改善するために、入射する放射の光路内に、第２の層に対して上流側に配置されている。 （もっと読む）

【課題】
波長が互いに異なる３種類以上の光信号の送受信を行える光通信用モジュールに好適なフィルタ素子に、煩雑な実装工程なしで量産可能な新規な構造を与える。
【解決手段】
本発明によるフィルタ素子は、互いに平行な一対の平行な表面を有し且つ当該表面の一方にバンドパスフィルタが設けられたガラス基板と、凹部が形成された主面を有し且つ凹部には当該主面に対して傾斜した傾斜面が当該凹部の開口の半分以上を占める広さで形成された一対の単結晶基板（Ｓｉウェハ）とを備え、上記一対の単結晶基板の上記主面は上記ガラス基板の一対の表面に夫々接合され、上記ガラス基板の一方の主面に接合される単結晶基板に形成された上記凹部は、その開口で上記バンドパスフィルタを囲み且つその傾斜面を当該バンドパスフィルタに対向させるように構成される。フィルタ素子は、斯様に構成されることで、ウェハレベルのプロセスにより確実且つ安価に量産される。 （もっと読む）

【課題】製造時において特に基板間の接合の際にミラー間や電極間が接合してしまうのが防止され、さらに動作時においてもミラー間や電極間が接合してしまうのが防止された光フィルタとその製造方法、光学フィルタ装置モジュールを提供する。
【解決手段】対向面の一部が当接し、残部が離間して配設された第１基板１４及び第２基板１５と、これら基板の対向面側の離間した部位に第１のギャップＧ１を介して配置された一対のミラー２Ａ、２Ｂと、第２のギャップＧ２を介して配置された一対の電極１６Ａ、１６Ｂとを備え、第１基板１４に、電極１６Ａ、１６Ｂ間の静電力によって変位し、第１のギャップＧ１を変化させる可動部１３を有する光フィルタ１である。第１基板１４と第２基板１５との間に、一対のミラー２Ａ、２Ｂが当接するのに干渉し、あるいは一対の電極１６Ａ、１６Ｂが当接するのに干渉する突起２０（２５）が設けられている。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、従来回折格子分光器が実用とならなかった数keVの軟X線領域において装置に入射する軟Ｘ線光に含まれる複数の所望の波長の光を分別し検出器または感光物質面に結像させうる多色計（ポリクロメータ）を提供するものである。
【解決手段】
上記課題を解決するために成された本発明は、回折格子１の格子面を測定を所望する波長数の区画に分割し、そのそれぞれの区画に所望する波長の内の一波長につき、回折格子の式及び拡張Bragg条件を同時に満たすような多層膜を形成する。回折格子１の格子面にはホログラフィック露光用のレーザー干渉系を用いて不等間隔の溝パターンが形成される。 （もっと読む）

【課題】テラヘルツ帯域の光に対して狭波長帯域の波長を良好に選択でき、選択される波長を変化させることができる波長選択フィルタを実現する。
【解決手段】直線偏光状態でテラヘルツ波長帯域の入射光束のうち、所望の狭波長帯域の光を共鳴反射により選択的に反射させる波長選択フィルタであって、第１の平板素子１０Ａと、第２の平板素子１０Ｂと、平板素子１０Ａ、１０Ｂの微小間隔を変化させる間隔可変手段１２Ａ、１２Ｂ、１４、１６とを有し、平板素子１０Ａ、１０Ｂは、入射光束に対して所定の角だけ傾けて配置され、第１の平板素子１０Ａの片面に、多数の溝を所定ピッチで形成された微細溝構造を有し、第１の平板素子１０Ａの側から入射光束を入射され、間隔可変手段により平板素子１０Ａ、１０Ｂの微小間隔：ｔを変化させることにより、共鳴反射される狭波長帯域の反射光の波長を選択する。 （もっと読む）

【課題】駆動電圧を低減しつつ、優れた光学特性を有する光学デバイス、波長可変フィルタ、波長可変フィルタモジュール、および光スペクトラムアナライザを提供すること。
【解決手段】本発明の光学デバイス１は、可動部２１の固定反射膜３５側の面に対し間隔を隔てて対向するように、固定部に固定的に設けられた第１の電極３３と、可動部２１の固定反射膜３５と反対側の面に対し間隔を隔てて対向するように、固定部に対し固定的に設けられた第２の電極４３とを備え、第１の電極３３および第２の電極４３のうち、一方の電極は、可動部２１との間の静電容量を検出するための検出電極として機能し、他方の電極は、可動部２１との間に電位差を生じさせることにより、これらの間に静電引力を生じさせて、可動部２１の位置および／または姿勢を変化させるための駆動電極として機能する。 （もっと読む）

光学素子、この光学素子を使用する色合成器、及びこの色合成器を使用する像投影機を開示する。この光学素子は、光リサイクルスタックと、偏光ビームスプリッタと、色選択性スタックレターデーション偏光フィルタとを含む。偏光ビームスプリッタは、第１の偏光方向に対して調整された第１の反射偏光子を含む。光リサイクルスタックのそれぞれは、第１の偏光方向に対して調整された第２の反射偏光子と、第１の偏光方向に対して４５度に調整された位相差板とを含む。色合成器は、光学素子に連結された、部分的に反射性の光源を含む。異なる色を有する非偏光は光リサイクルスタックを通って色合成器に入ることができ、所望の偏光状態の合成光が合成器を出ることができる。望ましくない偏光状態を有する光を色合成器内で所望の偏光状態にリサイクルすることができるので、光使用効率が増す。像投影機は、合成光の第１の部分が投影素子に向けて方向づけられ、合成光の第２の部分がリサイクルされて色合成器に戻るように画像源に連結された色合成器と投影素子とを含む。 （もっと読む）

【課題】性能の低下を抑制できる光学フィルタ装置を提供する。
【解決手段】光学フィルタ装置は、ギャップを介して対向する一対のミラーを有するエタロン素子を備え、ミラーは、炭素を含有する銀の合金膜を含む。 （もっと読む）

【課題】カルーセルのような回転ドラムを使用した成膜において、カルーセルの回転軸と装置本体の軸受けの非常に微小な偏芯が製品の特性バラツキに影響を及ぼす。
【解決手段】チャンバーであるチャンバー３内に円筒状または多角形状のドラムが回転可能に設けられ、該ドラムの外周面上に基板１０が格納される基板ホルダ９が取り付けられ、該ドラムが垂直な回転軸の周りを回転しながら基板１０に成膜するカルーセル型のスパッタ成膜装置において、チャンバーであるチャンバー３内壁に設けられ基板１０に成膜するターゲット７，８と、基板ホルダ９がターゲット７、８と正面に対向した位置のターゲットと基板１０との距離を測定して回転ドラムの偏芯量を測定する偏芯測定装置１３と、を備え、偏芯測定装置１３からの出力により、各基板ターゲットに対応してターゲット電力を修正する。 （もっと読む）

【課題】分散補償グレーティング（ＤＣＧ）の群遅延リップルを許容できる低いレベルまで低減するシステムおよび方式を提供する。
【解決手段】トリミングデバイスおよびトリミングデバイスの出力によってその長さ方向に沿ってグレーティングのある領域がスキャンされるためのスキャニング組み立て体を含むトリミング機構にグレーティングが取り付けられる。グレーティングはトリミングデバイスの出力に敏感であり、トリミングデバイス出力への曝露がスキャンされる領域の有効屈折率を変化させ、その変化量はスキャニング速度の関数として変化する。トリミングされるべきグレーティングの領域が選択され、その長さ方向に沿って選択されたグレーティング領域の有効屈折率を修正するように計算されるスキャニング速度のプロファイルがスキャニング組立体にプログラムされ、選択されたグレーティング領域の群遅延リップルを滑らかにする。 （もっと読む）

【課題】フィルタ用に改善された技法を有するのは有利であろう。
【解決手段】組合せ透過関数がより単純な透過関数の組の重畳または調整された重畳と近似的に等しく、組が２つ以上のより単純な非均一透過関数を含み、重畳または調整された重畳において、単純な非均一透過関数の少なくとも２つのサブセットの各々が互いに異なり、互いに対して位置決めされ、その結果、フィルタを通り過ぎる１つ以上の経路のうちのいずれかに沿って移動する物体から発出する光子エネルギーの適用範囲内の入力光に応じて、フィルタが、サブセットの関数の各々に従って出力光に時間変化を与える透過／反射フィルタを含む。 （もっと読む）

【課題】小型化、低消費電力化、低コスト化を実現しつつ、伝送路の長距離化を実現する分散補償器となる光分散フィルタを備えた光モジュールを提供する。
【解決手段】光能動素子と、光ファイバと、光能動素子と光ファイバとを結ぶ光軸上に配置される、光ファイバで受ける分散を補償するための透過型の光分散フィルタとを有する。または、光ファイバと、光ファイバで受ける分散を補償するための反射型の光分散フィルタと、光ファイバと光分散フィルタとを結ぶ光軸を避けた位置に配置される、光通信で用いられる光能動素子とを有する。 （もっと読む）

【課題】認証シートの偽造が難しく機械認証だけでなく視覚認証についても確実に認証可能で、かつ作製が容易な認証シート及び認証方法の提供。
【解決手段】２方向以上の観測角の認証を行う認証シートにおいて、構造色を発色せしめるように面上に粒子を規則配列させ、任意の記号或いは文字様に規則配列を破壊することで構造色に欠陥を作製することにより２方向以上の観測角での認証を可能としたことを特徴とする認証シート。 （もっと読む）

光学的劣化の程度を判断するためのＥＵＶミラーの原位置モニタリングの方法を開示する。本方法は、ＥＵＶスペクトル外の波長を有する光でミラーの少なくとも一部を照射する段階／行為と、光がミラーから反射した後に光の少なくとも一部を測定する段階／行為と、測定値及びミラー劣化と光反射率の所定の関係を用いて多層ミラー劣化の程度を推定する段階／行為とを含むことができる。同じく開示するのは、金属質基板を準備する段階と、基板の表面をダイヤモンド切削する段階／行為と、物理蒸着を用いて表面の上に重なる少なくとも１つの中間材料を堆積させる段階／行為と、中間材料の上に重なる多層ミラーコーティングを堆積させる段階／行為とを含むことができる近垂直入射ＥＵＶミラーを調製する方法である。 （もっと読む）