ＳＬＭ装置の製造のために、基板（３）に近接して位置付けられるようになっている空間光変調器（ＳＬＭ）（２）の主材料と同じ材料の基板（３）に（ＳＬＭ）（２）を実装する。特に、シリコンベースのＳＬＭ装置の製造方法（２）がシリコン基板（３）に実装されている。このことは、ＳＬＭ（２）の位置及び平面性に対して高精度を保つＳＬＭ（２）のアレイに繋がる。平面性を更に改善するように、はんだ接続（２０）のセルフアライメント効果を用いて、はんだ付けにより基板（３）にＳＬＭ（２）を実装することは好適である。
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【課題】 画素数が多く、画素間隔が狭い、高密度の空間光変調器を実現できるようにすること、効率よく画素の磁化方向を制御できるようにすること、発熱量を抑え、動作の安定性の向上を図ることなどである。
【解決手段】 磁気光学材料からなる磁性膜を具備し、ファラデー効果により偏光方向を回転させる画素１４が、多数、互いに離間した状態でＸ方向及びＹ方向に２次元的に配列され、各画素に沿って配線したＸ側の駆動ライン４０及びＹ側の駆動ライン４２を流れる駆動電流によって発生する合成磁界により各画素の磁化方向が個別に制御される。Ｘ側及びＹ側の駆動ラインの全部もしくは一部が画素と画素の間隙部に配線され、その間隙部に配線された駆動ラインを隣接する画素で共用するように構成する。 （もっと読む）

光フェーズドマトリックスアレイの上に入力光信号を投射する光入力ポートと、複数の個別にアドレス指定可能なピクセルをその上に含み、各該ピクセルが規定されたレベルの範囲内で導出可能な、光フェーズドマトリックスアレイと、該光フェーズドマトリックスアレイから受信される該光信号の所定の部分を収集する光出力ポートと、を含む光学システムにおいて、位相歪みを補償する方法であって、（ａ）各該ピクセルの該レベルを、各該ピクセルがその上に入射する該入力光信号からの光に対して導入する位相変動と関連づける、複数の伝達関数を決定するステップと、（ｂ）該出力ポートで受信される該部分的な信号が位相において変更されて、該光フェーズドマトリックスアレイから生ずる光位相歪みを実質的に補償するように、対応する伝達関数に応じて該ピクセルのうちの選択されたもののレベルを制御するステップとを含む、方法。
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【課題】 高価な位置合わせ装置を用いることなく、また機械的な可動部の振動による位置制御の低下をなくすることにより、安価な装置で高い位置決め精度を有し、かつ高い光利用効率で形状加工を行うレーザ加工装置を提供すること。
【解決手段】レーザ光源１１と、
該レーザ光源１１から出射されるレーザ光１２の位相を変調する空間位相変調手段１３と、
所定の加工形状に対応する加工ホログラムデータに、該所定の加工形状の像を加工面の所定の加工位置に再生する位置移動ホログラムデータを付加することにより、合成データを生成し、該合成データを上記空間位相変調手段１３へ入力するデータ入力手段１６,１７と、
上記空間位相変調手段１３により位相変調を受けた上記レーザ光１２のホログラム像を上記加工面に再生させる結像手段１４と、を有するレーザ加工装置。 （もっと読む）

本発明は、入力データと１つまたは複数の基準データセットの相関をとるためのパターン認識相関器および方法に関する。例えば振幅変調されたデジタル光データであり得る入力データが、光信号を変調するために使用され、位相変調された光信号を形成する。次いで、この位相変調された一時的な光信号は、好ましくは光遅延を使用することによって並列光位相信号に変換され、光位相変調器によって変調される。入力データと基準データの間に相関があるとき、出現する波面は平面であり、検出器に強く結合され得る。相関がないと、出現する波面は平面でなく、したがって、検出器にそれほど強くは結合されない。したがって、検出器の出力が相関の指標として使用され得る。
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【課題】極めて能率よく短時間に加工対象物質の内部に、平面形状や立体形状のレーザー加工する。レーザー加工の精度を極めて高くし、高精細な加工を実現する。
【解決手段】レーザー加工方法は、極超短パルスレーザーを集光して加工対象物質５に照射し、該極超短パルスレーザーのエネルギーで前記加工対象物質５に加工を行う。このレーザー加工方法は、該極超短パルスレーザーを空間光変調素子４に通すことにより、極超短パルスレーザーを加工対象物質５の内部に分布する複数の集光スポット６に分割して照射し、該集光スポット６に集光するレーザーのエネルギーで、該加工対象物質５の内部をレーザー加工する。 （もっと読む）

【課題】空間光変調器とイメージセンサとのピクセルレベルの位置ずれを自動的に補正すること。
【解決手段】イメージセンサ１７の解像度が空間光変調器１０の２倍であり、空間光変調器１０に表示されたマッチングパターンにより変調された信号光をイメージセンサ１７によりオーバーサンプリングして受光する。その際、図４（Ａ）に対して図４（Ｂ）に示すように、空間光変調器１０とイメージセンサ１７の位置がピクセルレベルで正しく合っていない場合には、イメージセンサ１７の受光量が減少して受光信号が山形になり、これを評価関数により評価してその総和が最大になるようにイメージセンサ１７の位置を移動させることにより、空間光変調器１０とイメージセンサ１７とのピクセルレベルの位置ずれを自動的に補正することができる。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、電極配線の本数および電極配線の抵抗を低下させることによって、画素が高密度でかつ消費電力の少ない空間光変調器を提供することにある。さらには、当該空間光変調器に用いる駆動回路、並びに当該駆動回路を用いた空間光変調器の駆動方法を提供することに関する。
【解決手段】 本発明にかかる空間光変調器５０は、マトリックス状に配設された複数の光磁気効果素子１と、隣接する前記光磁気効果素子１の間に配設される下部電極配線２と上部電極配線３と、前記下部電極配線２と上部電極配線３各々に流れる電流の向きを設定する駆動回路とを備えた空間光変調器５０において、下部電極配線２と上部電極配線３が前記各光磁気効果素子の間に１本となるように配設されている。また下部電極配線２と上部電極配線３の一端は各々共通配線４に接続され、かつ他端が前記駆動回路に接続されている。 （もっと読む）

【課題】マトリクス光スイッチ作製時に発生する誤差によって回路特性が変動する場合において、回路の組み合わせにより作製誤差によらない十分な消光比を備えたマトリクス光スイッチを提供する。
【解決手段】互いに交差する１本の入力光導波路１１ａ−１１ｂおよび１本の出力光導波路１２ａ−１２ｂ、さらに前記入出力光導波路１１ａ−１１ｂ，１２ａ−１２ｂを接続するバイパス光導波路１３ａ−１３ｂからなり、前記バイパス光導波路１３ａ−１３ｂと前記入力光導波路１１ａ−１１ｂとの間で１×２光スイッチ１８ａと、前記バイパス光導波路１３ａ−１３ｂと前記出力光導波路１２ａ−１２ｂとの間で２×１光スイッチ１８ｂと、前記１×２光スイッチ１８ａおよび前記２×１光スイッチ１８ｂ間に１×１光ゲートスイッチ１８ｃを備えていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 優れた表示品質を有する画像表示装置を提供する。
【解決手段】 入力された画像データに応じた画像を表示する画像表示装置であって、複数の色の画像を表示する複数の空間変調部２１０、２２０、２３０と、光源１１０からの照明光を複数の空間変調部で変調した複数の投影光を光学的に合成する光路合成部３１０と、空間変調部の変調タイミングに同期して、光路合成部で合成された各投影光の光線のシフト制御を投影光の偏光方向に基づいて行う光線シフト部４００とを備え、光線シフト部は、投影光の色に応じて投影光の光線のシフト制御を行う。 （もっと読む）

不規則に偏向された光を提供するランプと、該ランプからの光を誘導する結合器であって、前記ランプからの光を、前記結合器の軸に沿って誘導する結合器と、該結合器の一端に設置されたワイヤグリッド偏光器と、を有する偏向光源が提供される。この偏向光源は、ランプで形成された非所望の偏向を有する光の一部を回収する。また、光の偏向を所望の方向に戻す偏向光源を含む液晶オンシリコン（ＬＣＯＳ）式光エンジンが提供される。
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１つの誘導領域及び該誘導領域内で伝達される放射線の閉じ込めを強化するための一つまたは複数の境界領域を含む導波管、及び該導波管のインフルエンサ反応属性を強化するために該導波管の中に配置される複数の構成物質を有するトランスポートのための装置、方法、コンピュータプログラム製品、及び伝播信号。トランスポートを操作する方法は、（ａ）１つの誘導領域と、該誘導領域内で伝達される放射線の閉じ込めを強化するための一つまたは複数の境界領域を含む導波管を通して放射線を伝達し、該放射線が一つまたは複数の長距離通信属性及びインフルエンサを含むことと、（ｂ）該導波管内に配置される複数の構成物質を使用して該導波管に対する影響を適用するインフルエンサに対する該伝達された放射線の反応を強化することとを含む。さらに、教示されているのはこのような導波管を製造するための方法のための方法、コンピュータプログラム製品及び伝播信号である。
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インフルエンサ構造のための装置及び方法。該装置は１つの誘導領域及び１つまたは複数の境界領域を有する導波管の１つまたは複数の放射線を伝播する誘電体構造内に配置され、該導波管振幅を制御特性に影響を及ぼすためにインフルエンサ信号に応える導電素子と、該導電素子に該インフルエンサ信号を通信するための結合システムとを含む。インフルエンサを操作する方法は、ａ）１つの誘導領域と１つまたは複数境界領域とを有する導波管の１つまたは複数の放射線伝播誘電体構造内に配置される導電素子にインフルエンサ信号を通信することと、ｂ）該インフルエンサ信号に応えて、該導波管の振幅制御特性に影響を及ぼすこととを含む。
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基板により支持されるディスプレイシステムのための装置及び方法。該装置は半導体基板を含み、該基板は、各導波管構造が１つの誘導チャネルと、入力から出力へ放射線信号を伝播するための１つまたは複数の境界領域とを含む複数の統合された導波管構造と、制御に反応し、該出力での該放射線信号の振幅を自立して制御するために該導波管構造に結合されるインフルエンサシステムとを支える。操作方法は、ａ）各導波管構造が１つの誘導チャネルと、入力から出力に放射線信号を伝播するための１つまたは複数の境界領域を含む、基板内で支えられ、プレゼンテーションマトリックスの中に配列される複数の導波管構造のそれぞれを通して放射線信号を伝播することと、ｂ）該対応する導波管構造の該出力でそれぞれの該放射線信号の振幅を自立して制御することと、ｃ）一連の振幅が制御された放射線信号からディスプレイシステムを集合的に定義するために該複数の導波管構造のために該放射線信号振幅制御を調整することとを含む。
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単一ディスプレイシステムのための装置及び方法。該単一ディスプレイシステムは第1の複数の導波管チャネル内で複数の入力ｗａｖｅ＿ｃｏｍｐｏｎｅｎｔｓを生成するための照明システムと、第２の複数の導波管チャネル内で複数の入力ｗａｖｅ＿ｃｏｍｐｏｎｅｎｔｓを受信し、連続画像セットを集合的に形成する複数の出力ｗａｖｅ＿ｃｏｍｐｏｎｅｎｔｓを生成するための、該照明システムと統合された変調システムとを含む。
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トランスポートのための装置及び方法。該トランスポートは、１つの誘導領域と、該誘導領域内で伝達された放射線の封じ込めを強化するための１つまたは複数の境界領域とを含み、入力領域と出力を含む導波管と、該導波管のインフルエンサ反応属性を強化するために該導波管内に配置される複数の成分と、該導波管の該インフルエンサ反応属性を増強するために、該誘導領域に結合される励磁システムとを含む。
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空間光変調器（１１０）は、帯域幅を低減して画像を基板（１５０）上にフォトリソグラフィ転写するように構成される。空間光変調器（１１０）は、データを記憶し相互間でデータを移動させるように構成された複数のメモリ素子（９０２）を備える。光変調素子（２１０）は、メモリ素子（９０２）のそれぞれと通信し、各メモリ素子（９０２）に記憶されているデータに応答して変化するように動作可能である。メモリ素子（９０２）は、データをメモリ素子（９０２）間で双方向にシフトするシフトレジスタとして構成することができる。各メモリ素子（９０２）はフィードバック素子（９２０）をさらに備えることができ、フィードバック素子は、光電流効果を最小化するように電圧を維持する一助とするために利用される「弱」フィードバック素子である。

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複数の波長チャネルを含む光信号を入力するための少なくとも一つの第１の光入力ポートと；光信号の波長チャネルを角分散された波長信号に角分散するための第１の波長分散エレメントと；角分散のディメンションにおいて角分散された波長信号を細長に空間分離された波長帯のシリーズへ収束するための光パワーエレメントと；空間的に操作された波長帯を生成するために、空間的に分離された波長帯の空間特性を選択的に操作するための空間操作エレメントとを備える、波長選択的操作装置および方法。
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光制御装置８の画素１０には、現フレームの輝度値を記憶する第一の記憶素子１８と、次のフレームの輝度値を記憶する第二の記憶素子１６と、第二の記憶素子１６に記憶された輝度値を第一の記憶素子１８に転送して画素１０の輝度値を変更するスイッチ素子である第一のトランジスタ１４と、がそれぞれ設けられる。制御部６０は、複数の画素１０が第一の記憶素子１８に保持された輝度値に応じて発光している間に、各画素１０の第二のトランジスタ１２を順次オンとして第二の記憶素子１６に次のフレームの輝度値の書き込みを行う。 （もっと読む）

光制御装置８は、基板３２と、絶縁膜３８と、第一のトランジスタ１４と、絶縁膜３８上に設けられた反射膜４４と、反射膜４４上に設けられた光変調膜４６と、光変調膜４６に配して二次元に配置された複数の電極対４８および４９と、第一の電極４８の上に設けられた偏光板５２とを有する。ここで、光変調膜４６は、印加された電界の大きさにより屈折率が変化する材料により構成される。このような材料として、Ｐｂ、Ｚｒ、ＴｉおよびＬａを構成元素として含むＰＬＺＴを用いることができる。 （もっと読む）