【課題】基板のずれを防止し、微小輝点の発生率を低減することを目的とする。
【解決手段】液晶表示装置は、第１基板２８と第２基板３６とのギャップを保持するスペーサ８０と、第２配向膜２２側に窪み６６を有する下地層４０と、対向する第１配向膜１８の第１面２０及び第２配向膜２２の第２面２４に挟まれた液晶層２６と、を有し、第１配向膜１８は、スペーサ８０の形状に沿って、第１面２０が突出する第１凸部８２を有し、下地層４０の窪み６６の底面は、凹凸状に形成され、第２配向膜２２の第２面２４には、下地層４０の形状に対応して窪み８４が形成され、第２配向膜２２の窪み８４は、第２配向膜２２の第２面２４よりも低い第２凸部７６と、第２凸部７６よりも低い底面を有する凹部７８とによって凹凸状に形成され、第１配向膜１８の第１凸部８２は、第２配向膜２２の窪み８４に入って第２凸部７６に接触している。 （もっと読む）

【課題】斜方蒸着により無機配向膜が効率よく形成され、安定した光学特性と表示品質とを兼ね備えた液晶装置、液晶装置の製造方法、この液晶装置を備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】本適用例の液晶装置１００は、第１の基板としての素子基板１０と、第２の基板としての対向基板２０と、素子基板１０と対向基板２０とにより挟持された負の誘電異方性を有する液晶分子からなる液晶層５０と、素子基板１０と液晶層５０との間に設けられ、複数の凹部１１ａを有する下地絶縁膜１１と、下地絶縁膜１１と液晶層５０との間に設けられ、下地絶縁膜１１に応じた凹部表面を有する電極としての画素電極１５と、凹部表面に斜方蒸着により形成された無機配向膜としての配向膜１８とを備えた。 （もっと読む）

【課題】画素を透過する光の透過率が高く、光源から発する光を有効に利用可能な電気光学装置および電子機器を提供すること。
【解決手段】本適用例の電気光学装置としての液晶装置は、素子基板１０と、画素に配置された透光性の画素電極１５と、素子基板１０と画素電極１５との間に設けられ、誘電体層１６ｂを介して対向配置された一対の透光性電極を有する蓄積容量１６と、蓄積容量１６と画素電極１５との間に設けられた第３層間絶縁膜１４と、を備え、画素を透過する光の分光分布が、少なくとも赤、緑、青の各波長範囲に対応して透過率のピークを有するように、画素電極１５、一対の透光性電極としての第１電極１６ａおよび第２電極１６ｃ、ならびに第３層間絶縁膜１４のそれぞれの膜厚が設定されている。 （もっと読む）

【課題】表示画像の焼き付きが少なく、高品位な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】液晶表示装置は、少なくとも一方が透明な一対の基板と、一対の基板間に配置された液晶層２４０と、一対の基板の一方の基板２３２に形成され、液晶層２４０に電界を印加するための一対の電極群と、一対の電極群に接続された複数のアクティブ素子と、液晶層２４０に接する面上に形成された配向膜２３７とを有する液晶表示装置であって、一画素の領域において一対の電極群のうちいずれか一方の電極２３３は平板状、他方の電極２３６は櫛歯状に形成されており、一対の電極の間には絶縁膜２７０が配置され、櫛歯状電極の上に配向膜２３７が配置され、絶縁膜２７０の比抵抗ρ_ｐ（Ωｃｍ）および膜厚ｄ_ｐ（ｎｍ）、配向膜２３７の比抵抗ρ_Ａ（Ωｃｍ）および膜厚ｄ_Ａ（ｎｍ）が関係式（ρ_ｐ・ρ_Ａ）／（ρ_ｐ・ｄ_Ａ＋ρ_Ａ・ｄ_ｐ）≧８×１０^１７（Ω）を満たす。 （もっと読む）

【課題】複数の色を分離合成する垂直方向の液晶パネルは、１画素１ライン表示時にディスクリネーション起因の表示不良（以後Ｄ不良と略称）が発生し、印加電圧が高いほど量的に多くなる。液晶分子の分光特性により、ＲＧＢ各色１００％（白表示）にするための電圧が異なり、結果Ｄ不良の度合が色によって異なることで起こる、白を基調とした１画素１ライン表示の画像色づきを抑制する方法を提供する。
【解決手段】液晶パネルのプレチルト角度を、Ｂ＞Ｇ＞Ｒとする。一般的に、１００％（白表示）にするための電圧は、Ｒ＞Ｇ＞Ｂである。また、液晶のプレチルト角度は大きくなるほど１００％（白表示）にするための電圧が小さくなるため、プレチルト角度をＢ＞Ｇ＞Ｒとすることで、１００％（白表示）の電圧を各色略等しくする。これにより、Ｄ不良の程度を各色等しくして、色にじみを無くす。 （もっと読む）

【課題】液晶注入時に外部から持ち込まれる不純物によって液晶層が汚染されることを防止することができる液晶装置を提供する。
【解決手段】第１無機配向膜１６が形成された第１基板１０と、第２無機配向膜２２が形成された第２基板２０と、第１基板１０と第２基板２０との間に挟持された液晶層５０と、液晶層５０の周囲を囲み且つ一部に液晶注入口５１ａが形成されたシール材５１と、液晶注入口５１ａを封止する封止剤５２と、を備え、第１基板１０は、第２基板２０の一端部よりも外側に張り出す張り出し部１０ａを有し、張り出し部１０ａに面する位置に液晶注入口５１ａが配置され、第１基板１０の最表面には、封止剤５２の液晶層側から液晶注入口５１ａを超えて張り出し部１０ａ上に露出した封止剤５２の外側まで連続して第１有機膜５４が形成されている。 （もっと読む）

【課題】信頼性の高い無機配向膜を低コストで形成する。
【解決手段】プラズマ生成領域を挟むように対向配置された２つのターゲット５を備えるスパッタ粒子放出部３と、基板１０を水平方向に搬送する搬送手段６ａを収容する成膜室２と、を備えるスパッタ装置１を用いて、搬送される基板１０にスパッタ粒子２７を入射させて、１０基板に接する下層配向膜１３２と液晶分子３７に接し液晶分子３７の配向を制御する上層配向膜１３１を含む無機配向膜３１を形成する方法であって、スパッタ粒子２７の基板１０に対する入射角の範囲を入射角範囲と定義した場合において、下層配向膜１３２を形成する工程である第１の工程における入射角範囲である第１の入射角範囲が、上層配向膜１３１を形成する工程である第２の工程における入射角範囲である第２の入射角範囲に比べて広いことを特徴とする無機配向膜３１の形成方法。 （もっと読む）

【課題】ドメイン特性が良好で、プレチルト角を小さくできる液晶表示装置を提供する。
【解決手段】液晶表示装置１００の液晶配向制御膜は、共に光透過性の絶縁性金属化合物からなり表面に凹凸を有する下地層２０と、この凹凸の表面に非連続に形成される表面層３０と、で構成され、表面層３０が、下地層２０よりも薄く、且つ下地層２０とは異なる物質からなる。そして、表面層３０による下地層２０の表面被覆率を、基板１０の表面１０ａに対して垂直方向と液晶のチルト方向を含む平面内で基板１０の垂直方向に対し非対称とする。このことにより、液晶の配向制御範囲の拡大、配向制御の規制力を高めることが可能であり、特に、動画ドメインの発生を抑制しつつプレチルト角を小さくできること効果がある。 （もっと読む）

【課題】高品位な表示を得ることができる電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電子機器を提供する。
【解決手段】電気光学装置としての液晶装置は、素子基板と対向基板との間にシール材１４を用いて液晶層１５が挟持されており、素子基板及び対向基板のうち少なくとも一方の基板におけるシール材１４と当接する部分に、パターニングされたシール下地膜７１が設けられている。 （もっと読む）

【課題】製造プロセスを増加することなく、焼き付きを充分に低減できる液晶表示装置及び液晶層形成用組成物を提供する。
【解決手段】一対の基板と、前記一対の基板間に挟持された液晶層とを備える液晶表示装置であって、前記一対の基板の少なくとも一方は、前記液晶層側の表面に、光重合性モノマーを重合することによって形成された光重合体膜を備え、前記光重合体膜は、３つのベンゼン環が縮合した構造を有する第一モノマー単位を含む液晶表示装置である。 （もっと読む）

【課題】駆動電圧を低減させ、より高コントラスト化を可能とするブルー相を示す液晶材料を用いた液晶表示装置を提供することを目的の一とする。
【解決手段】ブルー相を示す液晶層を含む液晶表示装置において、第１の電極層（画素電極層）上に第１の壁状構造体、同様に第２の電極層（共通電極層）上に第２の壁状構造体を設け、これらを誘電体膜で被覆する構成とする。誘電体膜は、第１の壁状構造体及び第２の壁状構造体及び液晶層に用いられる液晶材料の誘電率より高い誘電率を有する絶縁体であり、液晶層に突出するように設けられる。 （もっと読む）

【課題】薄型化及び軽量化が可能であり、しかも、信頼性の高い表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】第１基板と、前記第１基板に対向配置された第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置された光スイッチング機能層と、を備え、前記第１基板及び前記第２基板の各々は、プラスチック基板と、前記プラスチック基板の前記光スイッチング機能層が配置される内面をカバーする第１ガス遮蔽体と、前記プラスチック基板の外面をカバーするとともに前記第１ガス遮蔽体よりもガスバリア性能が低い第２ガス遮蔽体と、を有することを特徴とする表示装置。 （もっと読む）

【課題】通電による焼き付き現象を低減可能な無機配向膜を備えた液晶装置の製造方法を
提供すること。
【解決手段】本適用例の液晶装置の製造方法は、一対の基板のうち少なくとも一方の基板
の液晶層に面する側の表面に少なくとも酸素を含む雰囲気中で紫外線を照射する前処理工
程（ステップＳ２、ステップＳ１２）と、紫外線が照射された表面に無機配向膜を形成す
る無機配向膜形成工程（ステップＳ３、ステップＳ１３）と、を備え、無機配向膜形成工
程の前には、上記前処理工程以外の表面処理工程を行わない。 （もっと読む）

【課題】基板上に形成される無機配向膜を構成する柱状構造物のバラツキを抑制する。
【解決手段】液晶装置（１００）の製造方法は、基板（１０）上に配列された画素電極（
９ａ）上に、絶縁材からなる絶縁膜（１５０）を形成する絶縁膜形成工程と、形成された
絶縁膜に対し、該形成された絶縁膜の表面を成膜終了時よりも粗くする粗面加工を施す粗
面加工工程と、粗面加工が施された絶縁膜の上に、無機材料を含んでなる無機配向膜（１
６）を形成する配向膜形成工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】液晶装置を構成する一対の基板を相互に接着するシール材の接着強度を向上させ
る。
【解決手段】液晶装置の製造方法は、画素領域（１０ａ）の周囲に位置するシール領域に
配置されたシール材（５２）により相互に貼り合わされた一対の基板（１０、２０）を備
えてなる液晶装置（１００）の製造方法である。該製造方法は、一対の基板の一方の基板
の画素領域に対応する領域に配列された複数の画素電極（９ａ）の上に、絶縁材料を含ん
でなる絶縁膜（１５１）を形成する絶縁膜形成工程と、形成された絶縁膜の少なくともシ
ール領域に対応する領域に対して、形成された絶縁膜の表面を成膜終了時よりも粗くする
粗面加工を施す粗面加工工程と、粗面加工が施された絶縁膜の上に、無機材料を含んでな
る無機配向膜（１６）を形成する配向膜形成工程と、一対の基板をシール材により相互に
貼り合わせる貼合工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】液晶装置の一対の基板間における蒸着方位角ズレを、比較的簡便な方法により抑
制する。
【解決手段】液晶装置（１００）の製造方法は、複数の基板（１０、２０）が配列された
第１及び第２大型基板（２１０、２２０）の各々の上に、斜方蒸着法により配向膜（１６
、２２）を形成する配向膜形成工程と、第１大型基板に配列された複数の基板を、その位
置情報を保持して、夫々分割する分割工程と、保持された位置情報に応じて、分割された
複数の基板のうち一の基板と、第２大型基板に配列された基板と、を貼り合わせる貼合工
程とを備える。 （もっと読む）

【課題】耐光性寿命をさらに向上させることができる液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法並びに投射表示装置を提供すること。
【解決手段】液晶層１３を挟持する素子基板１１及び対向基板を備え、素子基板１１が、ＳｉＯ_２を含む第１誘電体層３３と、第１誘電体層３３上に斜方蒸着によって形成され、液晶層１３を構成する液晶分子の配向を規制する第１無機配向膜３４と、を有し、第１誘電体層３３の表面にあるシラノール基が、シラン化合物によって表面処理されている。 （もっと読む）

【課題】電子ペーパー等の表示装置に適用した場合に、その消費電力を小さくでき、歩留まりを向上させることができるアクティブマトリクス型駆動基板及びその製造方法等を提供する。
【解決手段】第１絶縁膜２を表面に有する導電基材１上に設けられた薄膜トランジスタ１０及び保持容量２０と、薄膜トランジスタ１０及び保持容量２０を第２絶縁膜１６，１７を介して覆う画素電極３０を有し、保持容量２０が第１電極２１と誘電体膜２２と薄膜トランジスタ１０のソース・ドレイン電極１４，１５に接続する第２電極２３との積層体であるアクティブマトリクス型駆動基板５０であって、導電基材１と第１電極２１とが第１絶縁膜２の開口部４で接続されているように構成する。第２絶縁膜（１６，１７）が少なくとも層間絶縁膜１７を有し、導電基材１が金属基材であり、第１絶縁膜２が金属基材１の表面粗さを低減する平坦化膜であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 マトリクス状の交叉画素電極を有するモノドメイン配向の垂直配向表示素子において、表示画素のエッジ部分で液晶分子の配向方向が所望の方向からずれる配向異常が発生し、表示の均一性が損なわれる。
【解決手段】 電極構造を積層構造にすることにより発生する斜め電界を利用して、表示画素のエッジ部分で液晶分子の配向をコントロールし、均一な表示を実現する。そのために、透明電極３１の上の、隣接する対向電極３６間のスペースに対向する部位に補助電極３５を設け、この補助電極３６に透明電極３１に印加される駆動信号と同一の駆動信号を印加することとした。 （もっと読む）

【課題】ガラスフィルムに対してデバイス製造関連処理等を行う際の取り扱い性を向上させ、加熱を伴う処理後にガラスフィルムを各種デバイスに組み込む際等には、支持ガラスからガラスフィルムを容易に剥離させることを可能とし、且つ剥離後において粘着剤等がガラスフィルムに残存することを確実に防止できる、清浄なガラスフィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】支持ガラス３の表面に、成膜後の表面粗さＲａが２．０ｎｍ以下となるように無機薄膜４を形成する第１の工程と、前記無機薄膜４の表面に、表面粗さＲａが２．０ｎｍ以下のガラスフィルム２を接触させた状態で積層してガラスフィルム積層体１とする第２の工程と、前記ガラスフィルム積層体１に対して加熱を伴う処理を行う第３の工程と、前記加熱を伴う処理後に前記ガラスフィルム２を前記支持ガラス３から剥離する第４の工程とを有する。 （もっと読む）