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Fターム[2H092KB04]の内容

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Fターム[2H092KB04]に分類される特許

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【課題】多層配線を有してなる表示装置用アレイ基板において、必要な層間の導通が確実に確保される構造を有する表示装置用アレイ基板及びそのような表示装置用アレイ基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】ガラス基板100にゲート電極線142が形成されており、このゲート電極線142にゲート絶縁膜104が形成されている。ゲート絶縁膜104には半導体膜105、オーミックコンタクト層107が順次形成され、オーミックコンタクト層107には一部の位置がゲート電極線142と重なるように、ジャンパー線143が形成されており、このジャンパー線143上にはOC−SiN膜111が形成されている。ゲート電極線142とジャンパー線143とを露出させるようにコンタクトホールが形成され、このコンタクトホールによってゲート電極線142とジャンパー線143との導通がなされる。 (もっと読む)


【課題】ソース・ドレイン電極に、剥離やストレスマイグレーションによるボイドが発生するのを抑制する。
【解決手段】複数の薄膜トランジスタが配列された基板を有する表示装置であって、薄膜トランジスタは、半導体層6と、半導体層6上に形成されるコンタクト層7と、コンタクト層7上に形成されるソース電極10及びドレイン電極9とを有し、ソース電極10およびドレイン電極9は、コンタクト層7の上側に形成される第1の導電層9a,10aと、第1の導電層9a,10aの上側に形成される第2の導電層9b,10bとを有し、第2導電層9b,10bは、第1添加元素と、銅とを含有する銅合金層であり、前記第1添加元素は、ジルコニウム、チタン、銀、インジウム、金、錫、クロム、ケイ素から選ばれた少なくとも1種類の元素である、ことを特徴とする表示装置。 (もっと読む)


【課題】有機ELディスプレイや液晶ディスプレイ等の表示素子パネルに接続する、透明性の高いフレキシブルプリント配線板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】透明ガラス層1と透明プラスチック層2との積層体を基材とし、そのガラス層1を貫通する溝14内に配線3有するフレキシブルプリント配線板10により、上記課題を解決する。このとき、配線の幅Wを1μm〜2mmとし、配線の高さHを5μm〜200μmとすることができる。こうした配線板10は、エッチャントに対して異なる被エッチング能を持つ少なくとも2種の透明層1,2が積層されてなる積層体を準備する工程と、そのエッチャントでエッチングされる側の透明層1を所定パターンでエッチングを行って貫通させる工程と、その貫通した溝14内に導電材3’を形成する工程とを有する方法で製造する。 (もっと読む)


【課題】液晶表示装置等の電気光学装置において、ディスクリネーションを抑制することにより、表示画像の高品位化を図る。
【解決手段】電気光学装置は、基板(10)上に、隣り合う画素間に沿って形成された溝部(12a)を表面に有する下地膜(12)と、端部の少なくとも一部が溝部上に形成されることにより、表面に傾斜部(9a´)を有する画素電極(9a)とを備える。 (もっと読む)


【課題】液晶表示装置等の電気光学装置において、ディスクリネーションを抑制することにより、表示画像の高品位化を図る。
【解決手段】電気光学装置は、基板(10)上に、画素毎に設けられ、垂直配向液晶(50)のプレチルト方向に沿った対角線を有する多角形状を有する画素電極(9a)と、画素電極より層間絶縁膜を介して下層側に形成された第1導電層(17)とを備える。画素電極は、画素電極の頂点のうちプレチルト方向に沿った対角線が通る頂点を含む領域において、層間絶縁膜に開孔されたコンタクトホール(33)に形成された接続部(9a´)を介して、第1導電層に電気的に接続されている。 (もっと読む)


【課題】サブ画素がストライプ配列された表示領域の配列方向の両端で擬色が視認される
のをできるだけ抑制することができるようにした電気光学表示装置を提供すること。
【解決手段】同色のサブ画素が一方向に直線状に配置されたサブ画素列が、他色のサブ画
素列と共にストライプ配列されてなる表示領域を有する電気光学表示装置において、表示
領域のサブ画素列の配列方向の両端に位置するそれぞれ少なくとも1列のサブ画素列の各
サブ画素の開口率を、表示領域の中央部の同色のサブ画素の開口率よりも小さくする。 (もっと読む)


【課題】 画素電極とデータ線との間で発生する寄生容量が均一な薄膜トランジスタ表示板及びこれを含む液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 液晶表示装置は、ゲート電極を有するゲート線、画素電極と重畳して維持容量を形成する維持電極、ゲート線上に形成されているゲート絶縁膜、ゲート絶縁膜上に形成されている半導体層、半導体層上に形成されゲート線と直交するデータ線、ゲート電極上でソース電極とそれぞれ対向しているドレイン電極、半導体層を覆い有機絶縁物質からなる保護膜、ドレイン電極と電気的に接続されている画素電極及び二重に形成されたデータ線を覆い、隣接するそれぞれの画素電極が二重に形成された一側のデータラインをそれぞれ完全に覆って、画素電極とデータ線間の寄生容量の差が工程の各層間の誤整列によって影響を受けないように形成する薄膜トランジスタ基板と、画素電極と対向して液晶容量を形成する対向電極が形成されている基板を有する液晶表示装置である。 (もっと読む)


【課題】遮光層に帯電する静電気による表示の不具合を抑制し、且つバックライトからの
光漏れをも抑制した横電界方式の液晶表示装置を提供する。
【解決手段】液晶43が封入され、周囲がシール材36で貼り合わされた第1基板11及
び第2基板28と、両基板11、28のシール材36で囲まれた内側に形成された表示領
域37及びその周囲に形成された非表示領域38と、第1基板11に形成された下電極2
2及び上電極24と、第2基板28の表示領域37及び非表示領域38に跨って形成され
た遮光層32とを有するノーマリーブラックモードの横電界方式の液晶表示装置10であ
って、遮光層32は、非表示領域38において、表示領域37を囲むように遮光層非形成
領域32aを有し、上電極24は、平面視で遮光層非形成領域32aの全てと重畳する位
置まで延在されている。 (もっと読む)


【課題】シンプルな構成で高画質を実現できる液晶表示装置を得る。
【解決手段】基体上に共通電極、絶縁膜、および複数の画素電極14を順に形成してなる第1の基板と、第1の基板の画素電極14が形成された面と対向して離間配置された第2の基板と、第1および第2の基板の間に配置された液晶層と、液晶層を透過する光を部分的に遮光する遮光体39とを備える。画素電極14は、間隔をおいて並設された複数の帯状部分を有する。遮光体39は、画素電極14における最も外側の帯状部分の少なくとも一部に対応する位置に配置される。このようなシンプルな構成により、フレクソエレクトリック効果に起因するフリッカや焼きつきを低減し、高画質を実現できる。 (もっと読む)


【課題】端子配線間ピッチが小さい場合であっても、検査用薄膜トランジスタの面積及びSD電極と接続配線とを接続するコンタクトホールのための面積を確保することが可能な表示装置を提供することである。
【解決手段】
走査線と映像信号線とに端子配線を介して信号を供給する複数の端子からなる端子群と、第1の方向に配列される複数の検査用薄膜トランジスタ群を、第2の方向に順次配列した複数の検査用薄膜トランジスタからなる点灯検査回路と、検査用薄膜トランジスタの第1のSD電極から同一の層で伸延される配線及びコンタクトホールを介して接続される異なる層に配置される配線により形成される検査配線とを備え、前記端子群に近い側の検査用薄膜トランジスタのSD電極とコンタクトホールとの間隔よりも、前記端子群に遠い側の間隔が大きい表示装置である。 (もっと読む)


【課題】電気光学装置の作製工程においてマスク枚数を追加することなく、反射電極の散乱構造を作製する。
【解決手段】層間膜に感光性樹脂膜を用いる。フォトマスク100の第1の透光部101を通して露光してパターニングしてコンタクトホール103〜106を得る。フォトマスク100の第2の透光部102を通して露光すると、感光性樹脂膜が解像不能となり、感光性樹脂膜の表面に凹凸ができる。これにより一枚のフォトマスクでコンタクトホール形成と層間膜表面に凹凸を有する散乱構造とができる。 (もっと読む)


【課題】電気光学装置において、製造コストの削減を可能ならしめつつ、表示画像のコントラスト比を向上させることにより、画像表示の高品位化を図る。
【解決手段】電気光学装置は、基板(10)上に、画素電極(9)と、導電層(6、7、11、71)と、導電層の端面の少なくとも一部を導電層よりも光反射率の低い遮光性材料で覆うように形成された反射防止膜(80)とを備える。反射防止膜は、基板上で導電層の下地をなす下地面に、接する又は面する先端部並びにこの先端部に繋がる本体部を有し、先端部の膜厚が本体部の膜厚より薄くなるように、且つその表面が導電層の端面に比して湾曲して又は斜めになるように、形成されている。 (もっと読む)


【課題】長時間の成膜や研磨を行なわなくても、凹部の上層側を平坦化することのできる液晶装置、該液晶装置の製造方法、および当該液晶装置を備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】液晶装置100の素子基板10において、シリコン酸化膜からなる絶縁膜160によって絶縁膜160の下層側に形成された凹部5aを埋めて平坦化するにあたって、まず、成膜工程では、絶縁膜160をCVD法により成膜中に凹部5aと重なる領域に発生する空洞160vが絶縁膜160によって密閉されるまで絶縁膜160を成膜する。次に、研磨工程では、空洞160vが絶縁膜160の表面で露出しない範囲で絶縁膜160の表面を研磨する。 (もっと読む)


【課題】接着層の厚さを増加させることなく、銅の下部層との接着性が向上し、銅が下部層に拡散することを防止することができる薄膜形成方法、表示板用金属配線、及びこれを含む薄膜トランジスタ表示板とその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の薄膜形成方法は、基板上にスパッタリング方法により薄膜を形成する方法であって、薄膜は、電力密度が1.5〜3W/cm、非活性気体の圧力が0.2〜0.3Paで形成する。薄膜は、非晶質構造を有することができ、チタニウム、タンタル、又はモリブデンのうちのいずれか一つで形成することができる。 (もっと読む)


【課題】給電配線と対向電極との導通を確保することが可能な給電構造を備えた液晶表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】絶縁基板上に形成された給電配線と、絶縁基板上に形成され給電配線から離間した給電電極と、絶縁基板上に形成され給電配線と給電電極との間を横切る信号配線と、給電配線、給電電極、及び、信号配線を覆うとともに給電配線まで貫通した第1コンタクトホール及び給電電極まで貫通した第2コンタクトホールが形成された絶縁膜と、絶縁膜上に形成され第1コンタクトホールを介して給電配線にコンタクトするとともに第2コンタクトホールを介して給電電極にコンタクトして給電配線と給電電極とを電気的に接続し且つ信号配線の直上において信号配線と交差する方向に延在した少なくとも1つのスリットが形成された接続電極と、給電電極に電気的に接続された給電パッドと、を備えたことを特徴とする液晶表示装置。 (もっと読む)


【課題】周囲が薄暗い環境下でも画像表示が認識できる液晶表示装置を提供することを課題の一とする。また、外光を照明光源とする反射モードと、バックライトを用いる透過モードの両モードでの画像表示を可能とした液晶表示装置を提供することを課題の一とする。
【解決手段】1つの画素において、液晶層を介して入射する光を反射する領域と、透光性を有する領域との双方を有する画素電極を設け、外光を照明光源とする反射モードと、バックライトを用いる透過モードの両モードでの画像表示を可能とする。 (もっと読む)


【課題】第2箇所における配線の欠けを検出せずに、第1箇所における配線の欠けを検出することが可能な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】この液晶表示装置100は、共通電位配線8の欠けを検出しようとする検査対象箇所では、検出配線9は、TFT基板1の端辺1a近傍に配置され、検査対象箇所以外の箇所では、検出配線9は、TFT基板1の端辺1a近傍よりも内側に配置されている。 (もっと読む)


【課題】半導体層の水素終端処理をする際に、銅が用いられたドレイン電極及びソース電極が基板上に露出する場合であっても、ドレイン電極及びソース電極の剥離が生じにくい表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】複数の薄膜トランジスタが配列された基板を有する表示装置の製造方法において、薄膜トランジスタの半導体層上の一部に、単層もしくは複数の導電層を含むソース電極及びドレイン電極を形成する電極形成工程と、ソース電極及びドレイン電極が基板上に露出している状態で、半導体層に水素終端処理をする水素終端工程と、を含み、電極形成工程は、ネオンを含む不活性ガスを導入することにより基板上に銅を付着させる工程を含む、ことを特徴とする表示装置の製造方法。 (もっと読む)


【課題】
同一の材料の積層構造を有するゲート配線及びソース・ドレイン配線を備えた液晶表示装置をより低コストで製造可能な液晶表示装置及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】
同一の材料の積層構造を有するゲート配線及びソース・ドレイン配線を備えた液晶表示装置の製造方法において、該ゲート配線と該ソース・ドレイン配線とをフッ酸と酸化剤とを含むエッチング液でウェットエッチング処理を行うと共に、該エッチング液のフッ酸の濃度が該ゲート配線と該ソース・ドレイン配線とでは異なることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】電気光学装置の製造工程における電極の電蝕の発生を抑制する。
【解決手段】電気光学装置用基板は、基板(10)上に、複数の画素部と、複数の画素部が配列された画素領域(10a)の周辺に位置する周辺領域に設けられ、第1導電性材料を含んでなる複数の第1電極(106)と、周辺領域に設けられ、第1導電性材料とは異なる第2導電性材料を含んでなる複数の第2電極(210)と、周辺領域に形成され、第1導電性材料を含んでなり、複数の第1電極のうち相隣接する第1電極同士を電気的に接続する複数の第1配線(220)と、周辺領域に形成され、複数の第1電極のうち少なくとも一つの第1電極及び複数の第2電極のうち少なくとも一つの第2電極間を電気的に接続する第2配線(231)とを備える。ここで、第2配線の電気抵抗は、複数の第1配線の電気抵抗よりも高い。 (もっと読む)


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