【課題】レジスト塗布時に基板の貫通孔に入り込んだレジストを容易に除去する。
【解決手段】貫通孔３を有する基板４の表面にレジストを塗布する方法であって、レジスト吸収部材１により貫通孔３を塞いだ状態で、基板４の表面にレジストを塗布することを特徴とするレジスト塗布方法。 （もっと読む）

【課題】簡便な手段で有機電子デバイスの寿命を劣化させる樹脂凸版からの溶出物を低減し、かつ耐刷性にすぐれた高精細印刷凸版の製造方法および該印刷用凸版を用いた有機電子デバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】感光性樹脂層に対してフォトマスクを介して凸パターン状に露光・現像して凸版を形成する工程と、凸版全体に対して少なくとも、２００〜３００ｎｍの波長領域、及び３００〜４００ｎｍの波長領域、及び４００〜４５０ｎｍの波長領域のそれぞれに１つ以上の輝線スペクトルをもつ光源を用いて露光する第二の露光工程と、有機溶剤を用いて凸版を洗浄する工程と、を有することを特徴とする印刷用凸版の製造方法としたものである。 （もっと読む）

【課題】スルーホールへの充填と露光性がよく、平坦性が得られるソルダ・マスクを得る。
【解決手段】ソルダ・マスクの形成はステンシル印刷ユニット１２を使用して、フォトイメージャブル・インク２が、キャリア・フィルム１Ａに金属ステンシル板１２ｂの上面に沿ってスクレーパ１２ｃによって、ステンシル開口１２ｄを介してフォトイメージャブル・インク２を圧搾し、フォトイメージャブル・インク層を形成し、キャリア・フィルム１Ａに転写することによって行われる。 （もっと読む）

【課題】ガラス強度が高く、フィラー材料の選択の自由度が大きい感光性ペーストを実現する。
【解決手段】コア部３と、該コア部３よりも熱膨張係数の大きな材料で形成されたシェル部４とを有するコアーシェル型のセラミックフィラー２が、シェル部４よりも熱膨張係数の小さいガラスマトリックス１中に含有され、セラミックフィラー２の体積含有率が、１〜３０体積％であり、セラミックフィラー２中のコア部３の体積含有率が、０．１〜７０体積％であり、かつ、セラミックフィラー２の平均粒径が１５ｎｍ〜５０００ｎｍである。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタとして用いたときに様々な原因による信頼性の低下を抑制した表示装置用カラーフィルタを製造する。
【解決手段】プラスチックフィルム上に熱処理してなるカラーフィルタ層を有し、前記カラーフィルタ層を形成するよりも先にカラーフィルタ層形成時の熱処理温度以上の温度で、前記プラスチックフィルムを加熱する表示装置用カラーフィルタの製造方法であり、前記プラスチックフィルムをカラーフィルタ層の形成より先に加熱するに際して、前記加熱を少なくともロール巻き出し装置、加熱炉、ロール巻き取り装置を備える熱処理装置を用いて連続的にロール・ツー・ロールで行う。 （もっと読む）

【課題】高精細印刷、高精度印刷に使用可能な版厚が薄く版厚均一性の良好な印刷版を簡便に製造する方法及び装置を提供する。
【解決手段】フォトマスク又はモールドの上面に粘度が０．２Ｐａ・ｓ以上５０．０Ｐａ・ｓ以下の感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂組成物層が積層されてなる２層積層体を形成する積層工程と、該感光性樹脂組成物層の上にシート状支持体を所定速度でラミネートすることによって、フォトマスク又はモールドと感光性樹脂組成物層とシート状支持体とからなる３層積層体を形成するラミネート工程と、該３層積層体を所定速度で加圧する加圧処理工程と、フォトマスク又はモールド側から該３層積層体に紫外線を照射する露光工程と、フォトマスク又はモールドを露光後の感光性樹脂組成物層から剥離する剥離工程とを含む、シート状支持体上に凹凸形状が形成された印刷版の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光によるリソグラフィ工程において、アウトガスの発生を抑制し、かつ製造コストの低減を図る。
【解決手段】半導体装置の製造方法は、基板１０上に減圧又は真空雰囲気下においてアウトガスを発生する膜１１及び１２を形成する工程と、前記膜上に前記膜が露出しないように、減圧又は真空雰囲気下において前記膜よりも単位面積あたりのアウトガスの発生量が少ないレジスト膜１３を形成する工程と、前記レジスト膜に対してＥＵＶ（Extreme Ultra Violet）光によるパターン光を照射し、前記レジスト膜を露光する工程と、前記レジスト膜を現像する工程と、前記レジスト膜及び前記膜、又は前記膜をマスクとして前記基板を加工する工程と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】樹脂の塗布厚み精度、位置精度に優れた感光性樹脂塗布装置を提供する。
【解決手段】版面に感光性樹脂を塗布する感光性樹脂塗布装置であって、感光性樹脂を収容する樹脂バケット１０と、樹脂バケット１０の一辺に沿って固定され、版面と間隙を有して設けられている樹脂供給バー２０とを有し、樹脂バケット１０は、バケット本体１１と、当該バケット本体の開口面側に配され、かつバケット本体に連結する部材に設けられた支持部３０を基点として回動可能になされているシャッター１２とにより構成されており、シャッター１２の支持部３０を基点とする回動により、シャッター１２と樹脂供給バー２０との接触・非接触状態が切り替えられるようになされており、樹脂供給バー２０は、版面に対向し感光性樹脂を塗布する樹脂塗布部と、樹脂塗布部の両端部に位置し樹脂塗布部の断面径よりも径の大きい樹脂厚制御部とを具備している感光性樹脂塗布装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】現像後のレジストパターンのディフェクトの発生を抑制できるホトレジスト組成物が得られる技術を提供する。また、異物経時特性（保存安定性）に優れるホトレジスト組成物が得られる技術を提供する。そして、さらに好ましくは、処理前後で感度やレジストパターンサイズの変化が起こりにくいホトレジスト組成物が得られる技術を提供する。
【解決手段】樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、有機溶剤（Ｃ）とを含むホトレジスト組成物を、臨界表面張力が７０ｄｙｎｅ／ｃｍ以上の第１の膜を備えた第１のフィルタを通過させる工程を有し、且つ前記第１のフィルタを通過させる工程の前後の一方又は両方に、さらに、該ホトレジスト組成物を、ポリオレフィン樹脂またはフッ素樹脂製の第２の膜を備えた第２のフィルタを通過させる工程を有することを特徴とするホトレジスト組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】感光性組成物の粘度上昇、ゲル化の抑制をより簡便かつ汎用的な手段で可能とする感光性組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸性基を有する樹脂を有する感光性有機成分、（Ｂ）少なくともアルカリ金属またはアルカリ土類金属を有する無機粉末、（Ｃ）有機溶剤を混合して得られる感光性組成物、および（Ｄ）少なくとも１種の油溶性キレート形成化合物を含有することを特徴とする感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】版厚を確実に制御しながら感光性樹脂凸版の連続製版を行う。
【解決手段】第１のフィルム層（カバーフィルム）２４、感光性樹脂層２５、及び第２のフィルム層（ベースフィルム）２６を含む積層体を、下部硬質板１４と上部硬質板１５とにより挟んだ状態で、感光性樹脂層の露光を行うものであり、下記（ａ）工程〜（ｄ）工程を有している感光性樹脂凸版の製造方法を提供する。
（ａ）上部硬質板及び／又は下部硬質板の温度、又は下部硬質板に積層される第１のフィルム層を介した下部硬質板の温度を、直接又は間接に計測する工程。
（ｂ）前記下部硬質板に積層した前記第１のフィルム層の上に、液状感光性樹脂を塗布する工程。
（ｃ）前記液状感光性樹脂の塗布厚みを調節する工程。
（ｄ）下部硬質板と上部硬質板との間隔を調節する工程。 （もっと読む）

【課題】
従来は、一色につき一台づつの現像処理装置であり、Ｒ、Ｇ、Ｂの処理工程のうち一台が停止すると、他の色の基板も処理ができず、稼働時間が低減する、また、上流工程から送られてくる基板におけるレジスト色がＣＩＭからの情報と万一、異なっていたとしてもそれに対処できない。さらに現像液をタイミングよく交換できない、という課題がある。
【解決手段】
本発明は、基板にコートされたレジストの色を検出し、前記検出された色に基づいて現像処理する。また、本発明は、露光等の前処理された基板を、複数の現像処理装置で選択的に処理できる構成とする。さらに、現像・洗浄処理後に残存するレジストの状態を検出するレジスト状態検出し複数有する供給部を選択する。 （もっと読む）

【課題】表面に凹凸形状を得ることができる表面改質方法及び装置、重層塗布方法及び装置、並びに塗布物を提供する。
【解決手段】熱可塑性樹脂を第１溶媒に溶解した高分子溶液を支持体１６に塗布する塗布部１８と、乾燥点まで乾燥した塗膜に第１溶媒よりも分子体積の小さい第２溶媒の蒸気含有熱風を供給して乾燥させる乾燥部２０と、乾燥した塗膜に塗布液を塗布してオーバーコート層を形成する塗布部２２と、を備える。乾燥部２０は、Ｔ：乾燥点における膜温度［℃］、Ｃ：溶媒蒸気量［ｇ／ｍ^３］、Ｐ_Ｔ：膜面温度Ｔにおける飽和水蒸気量［Ｐａ］、Ｒ：気体定数、Ｍ：第２溶媒の分子量として、１．０≦Ｃ×Ｒ（２７３．１５＋Ｔ）／（Ｍ×Ｐ_Ｔ）≦１．８、で示される式を満たす条件で乾燥処理を行う。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィー法によるレジストパターン形成方法において、凸部パターンと凸部パターン上の複数の微小窪みを同時に形成する方法を提供すること。
【解決手段】 少なくとも、
１．基材の表面に紫外線吸収層を形成する工程と、
２．フォトマスクと該紫外線吸収層との間に、ネガ型感光性レジスト層を形成する工程と、
３．フォトマスクを介して、平行光の紫外線で露光する工程と、
４．フォトマスクと該ネガ型感光性レジストとを引き剥がし、現像する工程と、
を経て、凸型レリーフパターンと、該凸型レリーフ頂面上に少なくとも一つ以上の微小窪みを同時に形成することを特徴とするネガ型感光性レジストのパターン形成方法であって、
該紫外線吸収層の厚みが１．０μｍ以上１００．０μｍ以下であり、
該ネガ型感光性レジスト層の厚みが１０μｍ以上５００μｍ以下であり、
該フォトマスクが、
少なくとも１つ以上の凸型レリーフ形成用遮光部と、
少なくとも１つ以上の４μｍ^２以上１６００μｍ^２以下の面積を有する窪み形成用微細遮光部と、
該凸型レリーフ形成用遮光部と窪み形成用微細遮光部以外の光透過部と、から構成されることを特徴とするネガ型感光性レジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】被処理基板を支持するピンの基板への転写を防止することのできる基板処理装置を提供する。
【解決手段】被処理基板Ｇを収容するチャンバ１０６と、チャンバ１０６内を減圧する減圧手段１４２と、チャンバ１０６内に配列され、被処理基板Ｇを下方から支持する複数のリフトピン１２８と、リフトピン１２８の複数本をグループ単位として、各グループ内のリフトピン１２８をそれぞれ独立に昇降させるリフトピン昇降手段１２６と、減圧乾燥処理に伴い変化する基板Ｇの温度を、所定の温度範囲に区切って検出する基板温度範囲検出手段１３３と、前記グループ内のリフトピン１２８毎に、当該ピンにおける基板Ｇとの接触部を前記基板温度範囲検出手段１３３により検出された温度範囲に含まれる所定温度に設定するリフトピン温調手段１３１、１３２と、リフトピン昇降手段１２６の駆動制御を行う制御手段１３３とを備える。 （もっと読む）

【課題】原画フィルムを必要としないでシャープな凸状のレリーフ像を形成することが可能で、印刷品位の優れた水現像可能なフレキソ印刷版の製造方法を提供すること。
【解決手段】少なくとも、順次、支持体、親水性重合体を含有する感光層、マスク層を有する感光性印刷版原版において、画像マスクを通して、波長３１０ｎｍ〜４００ｎｍの紫外光で露光、波長２００ｎｍ〜３００ｎｍの紫外光で露光、現像をこの順で行うことを特徴とする感光性印刷版の製造方法。 （もっと読む）

【課題】スペーサー形成時に発生する揮発成分量が極めて少なく、さらにスリットダイ塗布法による高速塗布にも対応できる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】上記感放射線性樹脂組成物は、［Ａ］カルボキシル基およびカルボン酸無水物基よりなる群から選択される少なくとも１種の基、ならびにペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）に代表される特定の多価チオール化合物に由来する基を有し、且つゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）とポリスチレン換算数平均分子量（Ｍｎ）の比（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．０〜２．８である重合体、［Ｂ］重合性不飽和化合物ならびに［Ｃ］感放射線性重合開始剤を含有する。 （もっと読む）

【課題】ショアＡ硬度２５度を下回る樹脂版硬度において、実用印刷操作に耐え得る機械強度を実現し得るフレキソ印刷版用感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】主鎖末端がメタクリル基で修飾された不飽和ポリウレタンプレポリマー：１００質量部、エチレン性不飽和モノマー：１０〜１５０質量部、光重合開始剤：０．０１〜１０質量部、を含み、前記不飽和ポリウレタンプレポリマーの下記式（１）で求められるメタクリル基指数の範囲が１．５０〜１．８５であるフレキソ印刷版用感光性樹脂組成物。
メタクリル基指数 ＝ Ｘ／（８５００／Ｙ） 式（１）
（式中、Ｘは前記不飽和ポリウレタンプレポリマー中のメタクリル基含有率（％）を表し、Ｙは前記不飽和ポリウレタンプレポリマーの数平均分子量を表す。） （もっと読む）

【課題】本発明は、フォトレジストの膜厚を略均一にすることで、良好なパターン形状を円筒状の外表面に形成することができる円筒外表面の加工方法およびパターンシートの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ワーク３の円筒状の外表面３ａに凹凸パターンを形成する円筒外表面の加工方法であって、液槽２内の塗布液１中にワーク３を浸漬させる浸漬工程と、ワーク３を中心軸ＣＡ回りに回転させながら引き上げる取出工程と、ワーク３の外表面３ａに塗布された塗布液１を乾燥させてフォトレジスト層５を形成する乾燥工程と、フォトレジスト層５に光を照射することで凹部パターンを形成する光照射工程とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】彫刻感度が高く、レーザー彫刻により直接製版が可能なレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、及び該レリーフ印刷版原版を用いたレリーフ印刷版の製造方法、並びにそれにより得られたレリーフ印刷版を提供すること。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される部分構造及び下記一般式（ＩＩ）で表される部分構造の少なくとも１種を有するバインダーポリマーを少なくとも含有するレーザー彫刻用樹脂組成物である。Ｑは、−Ｑ−Ｈとなったときの酸解離定数（ｐＫａ）が０以上２０以下である部分構造を表し、Ｒ^１〜Ｒ^３はそれぞれ独立に水素原子又は１価の有機基を表し、Ａ及びＢはそれぞれ独立に２価の有機連結基を表す。
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