【課題】基板の処理に使用された処理液のうち、回収すべき処理液と排出すべき処理液とが混ざり合うことを確実に抑えられる技術を提供する。
【解決手段】基板処理装置１は、基板Ｗの現像処理に使用される現像液を吐出するノズル３０と、ノズル３０から吐出された現像液が流下する基板処理槽１０と、基板処理槽１０の内部に廃液口４３１が設けられた配管４３と、配管４３と並列的に設けられ、現像液の回収と再利用とのために基板処理槽１０の内部において回収口４２１が設けられた配管４２と、基板処理槽１０の所定部位に設けられ、揺動軸４４２を中心に揺動することによって、基板処理槽１０内に流下した現像液の流出先を配管４２と配管４３との間で選択的に切り替える揺動部材４４５を有する現像液流路切替部４４と、を備える。 （もっと読む）

【課題】薬液の消費量を抑えながら、基板の処理を均一に行う。
【解決手段】基板１を移動しながら、薬液２が入った薬液タンク２３から、可変出力ポンプ２５及び制御弁８０が設けられた配管２４を介して、薬液ノズル２１へ薬液２を供給し、薬液ノズル２１から基板１へ薬液２を吐出する。薬液ノズル２１から基板１へ吐出した薬液２を回収して薬液タンク２３へ戻し、薬液タンク２３から薬液ノズル２１へ供給する薬液２の濃度を検出し、薬液２の濃度の検出結果に応じ、可変出力ポンプ２５を制御し又は制御弁８０を作動させて、薬液タンク２３から配管２４を介して薬液ノズル２１へ供給する薬液２の量を変更する。 （もっと読む）

【課題】バッチ方式のＵＦ濾過装置を用いた現像液循環方式の現像装置において、ＵＦ停止時も定期的に逆洗浄動作を実施する事により、ＵＦ膜の閉塞防止が可能となり、濾過装置の停止有無に関らず安定的な濾過流量の確保が可能となる機構を有する現像装置を提供する。
【解決手段】バッチ方式のＵＦ濾過装置を用いた現像液循環方式の現像装置であって、少なくとも、現像ユニットと、濾過ユニットと、現像液濃度調整ユニットと、現像液循環ユニットと、から構成される現像装置において、ＵＦ濾過フィルタ毎に逆洗浄する手段は、濾過ユニットと現像ユニット間の全体流量フローが一時停止した時点においても、自動的に定期的なＵＦ濾過フィルタ毎の逆洗浄動作を実施する自動逆洗浄機構を具備している。 （もっと読む）

【課題】バッチ方式のＵＦ濾過装置と現像装置間の全体流量フローが停止する事なく、現像タンクからＵＦ濾過装置への送液動作が一定的に行われる事により、ＵＦ濾過運用時の現像タンク汚染度の安定化と品質事故防止となる機構を有する現像装置を提供する。
【解決手段】バッチ方式のＵＦ濾過装置を用いた現像液循環方式の現像装置であって、少なくとも、現像ユニット１０と、濾過ユニット２０と、現像液濃度調整ユニット３０と、現像液循環ユニット４０と、から構成される現像装置において、濾過ユニット１０は、ＵＦ濾過循環タンク２１の定量ドレイン機構２２に加えて、ＵＦ濾過循環タンクから現像液「古液」を排出する自動廃液機構２３を具備している。 （もっと読む）

【課題】高品質の平版印刷版を安定して作製することができる平版印刷版原版の現像装置及び平版印刷版原版の現像方法を提供する。
【解決手段】支持体と該支持体上に支持されている露光された画像記録層とを有する平版印刷版原版を搬送させて現像を行う平版印刷版原版の現像装置であって、第１の槽を有し、搬送される平版印刷版原版を第１の槽に溜めた現像液に浸漬させて画像記録層を現像する第１の現像部と、第１の現像部に対して平版印刷版原版の搬送方向の下流側に配され、現像液を溜める第２の槽を有する第２の現像部と、第２の槽に新鮮な現像液を補充する補充部と、第２の槽に溜めた現像液を第２の槽から前記第１の槽に送液する送液装置と、を備え、送液装置は、第２の槽に溜められた現像液を第１の槽に送液する。 （もっと読む）

【課題】基体に供給した液体の蒸発によって当該基体の熱が奪われ、これにより基体の温度が雰囲気露点温度より低温状態となり得る場合であっても、当該基体に結露が生じるのを防止して、パターン倒れ等の不具合発生を未然に回避できるようにする。
【解決手段】処理対象となる基体２を保持する保持部１２と、前記保持部１２が保持する前記基体２に対して液体３１の供給を行う液体供給部３０と、前記液体３１の蒸発によって熱が奪われる前記基体２を雰囲気露点温度より高温状態にすべく当該基体２の熱損失を補填するための熱損失補填媒体４１を当該基体２に対して供給する媒体供給部４０と、を備えて流体供給装置１を構成する。 （もっと読む）

【課題】新液の使用量を抑えることができ、且つ、現像液の劣化によるフィルターの目詰まりを起こしずらい大型のカラーフィルタ形成用基板の現像処理装置を提供する。
【解決手段】ワーク８０を、処理面を上にして、搬送方向に直行する方向において水平から傾けた状態で搬送する搬送手段を有し、現像処理槽１０内の搬送方向の各位置においてワークが浴びた現像液４１ａを、ワーク処理面の傾斜に沿い流してワークから垂れ流すもので、現像処理槽１０内、底部と搬送されるワークとの間の位置に、搬送方向の所定の位置範囲においてワークから垂れ流された現像処理後の現像液４１ａを受けて回収し、回収した現像処理後の現像液４１ｂを廃液ラインへと流す、廃液回収手段６１を配している。 （もっと読む）

【課題】現像液を供給するときの基板搬送速度と、現像液を除去するときの基板搬送速度とを制御し、レジストパターンを均一化するレジスト現像装置を提供する。
【解決手段】現像ユニット３０は、露光されたレジスト膜を有する基板Ｓを搬送する第１搬送機構、第１搬送機構で搬送される基板Ｓの表面に現像液を供給する供給ノズル５０を有する現像液供給部３０Ｂ、現像液で表面が覆われた基板Ｓを搬送する第２搬送機構を有する現像部３０Ｃ、気体を吐出して基板Ｓの表面を覆う現像液を吹き切るブローノズル５１、およびそれに向けて基板Ｓを搬送する第３搬送機構を有するブロー部３０Ｄ、現像液が吹き切られた基板Ｓの表面にリンス液を供給するリンス液供給ノズル５３を有するリンス部３０Ｅ、第１搬送機構に搬送される基板Ｓの搬送速度、第３搬送機構に搬送される基板Ｓの搬送速度とが異なるように第１および第３の搬送機構を制御する制御部６０とを備える。 （もっと読む）

【課題】レジスト現像装置などの液体供給装置では、実際に基体に供給される液体の温度変動が、処理の安定性を阻害する要因になっていた。
【解決手段】本発明のレジスト現像装置１は、恒温状態に制御された現像液１１を貯留する密閉型の貯留部４と、この貯留部４に貯留された現像液１１を供給すべき被処理基板６を保持する保持部８と、貯留部４の内部から当該貯留部４の外部へと導出するように配管されるとともに、当該導出部分が保持部８に臨む位置まで配管され、この保持部８に保持された被処理基板６に向けて貯留部内の現像液１１を供給する供給管５と、この供給管５の配管途中に付属して設けられた付属部材としての開閉弁１５とを備え、この開閉弁１５が貯留部４の内部に配置された構成となっている。 （もっと読む）

【課題】ドライフィルムレジストを、均一に薄膜化することが可能なドライレジストの薄膜化処理方法を提供する。
【解決手段】ドライフィルムレジストが貼り付けられた基板５の該ドライフィルムレジストを処理液で処理する工程１、その後に、表面の不用なドライフィルムレジスト分を除去する工程２とからなるドライフィルムレジストの薄膜化処理方法において、処理液で処理する工程がディップ方式７による工程であり、処理液で処理する工程終了から除去する工程開始までの時間が６秒以下であるドライフィルムレジストの薄膜化処理方法。 （もっと読む）

【課題】高純度な処理液を基板に供給することができる処理液供給装置および処理液供給方法を提供する。
【解決手段】処理液供給装置３は、鉛直方向に沿って配置され、下端部の径が小さくなるように形成された円筒状の処理液容器８を備える。処理液容器８の内部には処理液が貯留され、下端部は処理液が吐出される処理液吐出口１２となっている。処理液容器８の上部には、配管１３が接続されており、配管１３を介して負圧源としての真空装置（図示せず）が接続され、配管１３には処理液容器８内に気体（たとえば大気）を導入するための気体導入配管１４が分岐接続されている。処理液容器８に貯留された処理液は、処理液容器８に気体を導入することによって重力落下により基板Ｗに吐出され、処理液容器８への気体の導入を停止することによって処理液の吐出が停止される。 （もっと読む）

【課題】基板裏面に付着したゴミに起因する露光時のミスアライメントを防止し、基板処理面から発生した溶解生成物などや汚れが基板裏面を汚染することを防止する。
【解決手段】基板Ｇを回転可能に保持する回転基台２と、回転基台と共に回転可能で、回転基台に保持された基板の外周部を囲み、基板の表面上から連続する液膜を形成するための助走ステージ３と、基板と一定の隙間を有して対向する平面を有する平面部４と、基板の表面に沿って移動して、基板に対する現像液の供給と吸引を同時に行うノズルヘッド５とを設ける。平面部は、基板裏面と一定の隙間を有して保持され、隙間に液体を供給する複数の液体供給孔４０と、複数の液体供給孔の間に挟まれるように設けられ、液体を吸引排出するための吸引排出孔４１とを備える。液体供給孔及び吸引排出孔に接続される管路４２ａ，４２ｂに介設される流路開閉バルブＶ１，Ｖ２を制御部６５により開閉制御する。 （もっと読む）

【課題】高いスループットが得られる現像装置を提供すること。
【解決手段】処理雰囲気を形成する気密な処理容器と、この処理容器内に搬入された基板の表面に現像液を結露させて液膜を形成するために、当該処理容器内に現像液のミストを供給する雰囲気ガス供給部と、前記液膜による現像を停止するために基板を乾燥する乾燥部と、を備えるように現像装置を構成する。現像液とレジストとの反応を停止させることができるので、洗浄モジュールによる洗浄処理と並行して現像処理を行うことができ、高いスループットが得られる。 （もっと読む）

【課題】基板表面全体に均一性高く現像液の液膜を形成すると共に高いスループットが得られる塗布、現像装置を提供すること。
【解決手段】現像モジュールと、洗浄モジュールと、前記現像モジュールにより現像された基板を前記洗浄モジュールに搬送する搬送機構と、を備え、前記現像モジュールは、処理雰囲気を形成する気密な処理容器と、この処理容器内に設けられ、基板を載置し、冷却するための温調プレートと、前記処理容器内に現像液のミストを含む雰囲気ガスを供給する蒸気供給部と、前記温調プレートを、前記蒸気が基板上に結露する温度に調整するための温度調整部と、を備えるように塗布、現像装置を構成する。現像モジュールと洗浄モジュールとで並行して処理を行えるので、高いスループットが得られる。 （もっと読む）

【課題】印刷版の現像処理時に当該印刷版の表面に不純物が付着するのをさらに抑制することを可能とする。
【解決手段】感光性樹脂版Ａに活性光線を照射して露光部と未露光部とを形成する露光工程と、露光された感光性樹脂版Ａを載置台２０に固定して現像液を供給し、かつ、感光性樹脂版Ａと未露光部除去装置２１とを接触させ、感光性樹脂版Ａに該未露光部除去装置２１を相対的に動作させて未露光部を除去する現像工程と、相対的な動作を継続させたまま未露光部除去装置２１と当該感光性樹脂版Ａとを引き離して非接触状態とする工程と、を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】 品質不具合が起こらず、ランニングコストが低く、プロセス管理が容易な現像装置、現像方法、及び現像液循環方法を提供すること。
【解決手段】 １）現像処理が行われる現像槽と、現像液を収容する現像液循環タンクと、前記現像液循環タンク内の現像液を前記現像槽に送る手段と、前記現像槽において現像処理に使用された後の現像液を前記現像液循環タンクに戻す手段とを備える現像液循環系、２）前記現像液を濾液と濃縮液とに分離する限外濾過フィルタ、及び３）前記現像液循環タンクから一部を取り出された現像液を収容する限外濾過濃縮液タンクと、前記限外濾過濃縮液タンク内の現像液を前記限外濾過フィルタに送る手段と、前記限外濾過フィルタにおいて分離された濃縮液を前記限外濾過濃縮液タンクに戻す手段と、前記限外濾過フィルタにおいて分離された濾液を前記現像液循環系に戻す手段とを備える濾液・濃縮液循環系を具備する現像装置。lang=EN-US> （もっと読む）

【課題】現像液中に分散する感光性樹脂成分を効率的に除去可能な現像装置を提供する。
【解決手段】印刷原版１に現像液５を供給する供給装置３１と、印刷原版１の感光性樹脂組成物層から遊離した感光性樹脂組成物が分散している現像液５が通され、現像液５中に分散している感光性樹脂組成物を凝集させる分散物フィルタ１３と、分散物フィルタ１３を通過した現像液５から、凝集された感光性樹脂組成物を除去する凝集物フィルタ１５と、を備える、現像装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】半導体、液晶などの製造工程に使用される現像液などの薬剤を高濃度の原液を超純水などで希釈し、所望の濃度に調整するにあたり、不純物の混入を防ぐことができ、かつ設備がコンパクトな希釈装置を提供する。
【解決手段】薬剤及び希釈液が導入される希釈タンク１を備えている薬剤の希釈装置であって、希釈タンク１に、希釈タンク１内の液体を撹拌するための磁気浮上ポンプ２を設けるとともに、薬剤の濃度を測定する濃度計３を備え、薬剤の所望の濃度に基づいて、上記測定値を上記所望の濃度に近づけるように薬剤の量と希釈液の量を制御する。 （もっと読む）

【課題】使用する処理液が発泡性を有する場合でも、処理液に発泡を抑える添加剤等を特に加えることなく、発泡を抑制し、安定な運転が可能な水平搬送処理装置を提供することを目的とする。
【解決手段】処理液を貯蔵するタンクと、前記処理液をタンクから導出する供給配管と、この供給配管からの処理液を被処理体に噴霧処理するチャンバーと、このチャンバー内で前記被処理体を搬送する搬送手段と、前記チャンバーで噴霧処理した後の処理液を前記タンクに戻す連絡部とを備え、前記処理液がチャンバーとタンクとを循環する水平搬送処理装置において、前記タンクの液面より上方に、タンク内に貯蔵された処理液の液面に処理液を噴霧する消泡ノズルを配置した水平搬送処理装置。 （もっと読む）

【課題】処理液供給ノズルから基板例えば半導体ウエハへの処理液の供給を行うにあたり、処理液供給ノズル内の処理液の乾燥を防止する。
【解決手段】ノズルユニット４の処理液供給ノズル４Ａ〜４Ｊの先端内部の処理液層の外側に空気層と処理液の溶剤層とを形成する。次いで前記処理液供給ノズル４Ａの前記溶剤層を待機ユニット６の液排出部に排出し、次いでこのノズル４ＡからウエハＷ表面に処理液を供給して塗布処理を行う。この後ノズル４Ａ内に残存する処理液を吸引し、次いでノズルユニット４の各ノズル４Ａ〜４Ｊの先端を、待機ユニット６の溶剤貯留部の溶剤内部に浸漬し、前記一のノズル４Ａを吸引することにより、当該ノズル４Ａの先端内部の処理液層の外側に空気層と溶剤層とを形成する。 （もっと読む）