【課題】ドライフィルム作成時の相溶性が良好で、ｉ線、ｈ線の両方のタイプの露光機で露光した場合に同等の感度を示し、かつ解像度、及び密着性に優れ、アルカリ性水溶液によって現像し得る感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）α，β−不飽和カルボキシル基含有単量体を共重合成分として含む、酸当量で１００〜６００、重量平均分子量が５，０００〜５００，０００の熱可塑性共重合体：２０〜９０質量％、（ｂ）少なくとも一つの末端エチレン性不飽和基を有する付加重合性モノマー：５〜７５質量％、（ｃ）トリアリールイミダゾリル二量体を含む光重合開始剤：０．０１〜３０質量％、及び（ｄ）特定のピラゾリン化合物：０．００１〜１０質量％、を含有する感光性樹脂組成物であって、上記（ｂ）少なくとも一つの末端エチレン性不飽和基を有する付加重合性モノマーが、特定の化合物を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】ドライフィルム作成時の相溶性が良好で、ｉ線、ｈ線の両方タイプの露光機した場合に同等の感度を示し、かつ解像度、及び密着性に優れ、アルカリ性水溶液によって現像可能であり、かつ現像時に凝集物を発生しない感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）カルボキシル基含有量が酸当量で１００〜６００であり、共重合成分として特定の化合物を含有かつ、重量平均分子量が５，０００〜５００，０００であるバインダー用樹脂：２０〜９０質量％、（ｂ）少なくとも一つの末端エチレン性不飽和基を有する付加重合性モノマー：５〜７５質量％、（ｃ）トリアリールイミダゾリル二量体を含む光重合開始剤：０．０１〜３０質量％、及び（ｄ）特定のピラゾリン化合物：０．００１〜１０質量％、を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】フォトレジストパターンを溶解し所望のレジストパターンを形成するリフロー処理において、生産効率が向上し、コストを低減することのできる基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板Ｇ上に形成されたフォトレジストパターン２０６を溶解し、新たなフォトレジストパターン２０６を形成する基板処理方法であって、下地膜のエッチングマスクとして使用された前記フォトレジストパターン２０６に対し、３００〜４００ｎｍのいずれかの波長の光線を露光するステップと、前記フォトレジストパターン２０６を溶剤雰囲気に曝して溶解し、所定エリアＴｇをマスクするステップとを実行する。 （もっと読む）

【課題】新規感光性樹脂組成物及びそれから得られる感光性樹脂積層体の提供。
【解決手段】本発明に係る感光性樹脂組成物は、（Ａ）アルカリ可溶性高分子化合物：２０〜８０質量％、（Ｂ）ポリウレタンプレポリマー：１０〜７０質量％、（Ｃ）少なくとも一つの末端エチレン性不飽和基を有する付加重合性モノマー：５〜６０質量％、（Ｄ）光重合開始剤：０．０１〜２０質量％を含有してなる感光性樹脂組成物であって、該（Ｂ）ポリウレタンプレポリマーが、下記一般式（Ｉ）：


｛式中、Ｒ_１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ_２は水素原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基又はハロゲン原子を表し、そしてaとｂはそれぞれ０〜２の整数であり、かつ、０≦ａ＋ｂ≦４である。｝で表される構造を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基材との密着性、光堅牢性、及び耐熱性に優れた金属粒子含有膜を備え、種々の波長に対する遮光性に優れる遮光材料とその作製方法を提供すること。
【解決手段】基材と、該基材に結合した下記一般式（ｉ）で表されるポリマー、及び、該ポリマーに吸着させた金属イオン又は金属塩中の金属イオンを還元してなる金属粒子を含有する金属粒子含有膜と、を有する遮光材料、並びにその作製方法。
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【課題】感光性導体ペースト中の感光性樹脂成分の含有量を少なくしても露光・現像に際して残査の問題のない積層チップ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】感光性導体ペースト２４のうちの未露光部分を洗い流す現像処理に際して、感光性導体ペースト２４の下層が、感光性誘電体ペースト１０が露光硬化された第２誘電体層２０であるため、残査の発生が大幅に抑制されているので、感光性導体ペースト２４の樹脂成分を１０wt％以下に少なくしても、露光・現像に影響がなく、乾燥密度ρ_D が従来の導体ペーストと同様に５ｇ／ｃｍ³ 以上となり十分に得られる。したがって、感光性導体ペースト２４中の感光性樹脂成分の含有量を少なくしても露光・現像に際して残査の問題のない積層型チップ素子の製造方法が得られる。 （もっと読む）

【課題】配線の加工精度を、十分に向上させることが可能な半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】この半導体装置１の製造方法は、半導体基板２上に金属配線層３ａを形成する工程と、金属配線層３ａ上の所定領域にレジストパターン４を形成する工程と、レジストパターン４の一部の耐熱性を向上させることにより、レジストパターン４の少なくとも側壁部に、高耐熱性領域４ａを形成するとともに、高耐熱性領域４ａに挟まれた部分に、レジストパターン４の下面から上面に達するように、高耐熱性領域４ａよりも低い耐熱性を有する非高耐熱性領域４ｂを形成する工程と、レジストパターン４をマスクとして金属配線層３ａをエッチングすることにより、金属配線３を形成する工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】高ドーズ量のイオン注入実施後の硬化層を有するレジスト膜を、半導体基板をほぼ酸化させず、またパーティクルを発生することなく短時間で除去できる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体基板上に有機ポリマーからなるレジスト膜のパターンが形成される。次いで、当該レジスト膜パターンをマスクとして半導体基板に１×１０¹⁴ｃｍ^-2以上のドーズ量で不純物イオンが注入される。イオン注入マスクとして使用されたレジスト膜パターンが酸化工程、膨潤化工程、除去工程を順に経ることにより除去される。酸化工程では、イオン注入によりレジスト膜パターンの表面部に形成された硬化層を酸化する処理が実施される。膨潤化工程では、薬液を用いて硬化層の酸化が実施されたレジスト膜パターンを構成する有機ポリマーを膨潤させる処理が実施される。除去工程では、膨潤したレジスト膜パターンが膨潤化に使用された薬液を用いて除去される。 （もっと読む）

【課題】 ブラックマトリックスのプラズマ処理において、高い親液プラズマ耐性を有するインクジェット法カラーフィルター用ブラックマトリックスを提供する。
【解決手段】 少なくとも色材、バインダー樹脂および溶媒を含むインクジェット法カラーフィルター用ブラックマトリックス形成用組成物であって、該組成物から溶媒を除いた固形分の軟化点が110℃以下であることを特徴とする、インクジェット法カラーフィルター用ブラックマトリックス形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】紫外線照射処理を行わずに、レジストパターンの表面に溶剤蒸気を効率よく付着させて、処理精度の向上を図ると共に、処理時間の短縮を図り、かつ、溶剤成分の装置内外への拡散を抑制すること。
【解決手段】露光処理され現像処理された半導体ウエハＷの表面に形成されたレジストパターンＲの表面に水分子ｍを付着させる。水分子ｍが付着されたレジストパターンＲの表面に対し、水溶性を有するレジストの溶剤蒸気（例えばＮＭＰ）を供給し、水分子ｍに結合する溶剤蒸気によりレジストパターンＲの表面を膨潤させるスムージング処理を行う。スムージング処理されたウエハＷ上のレジストパターンＲに付着する水分子ｍ及び溶剤ｓを乾燥により除去する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、化学増幅型ネガティブフォトレジストとポジティブフォトレジストとの組み合せによる露光及び現像によりパターンピッチが露光装備の解像度の1/2倍であるマスクパターンを形成するマスクパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明に係るマスクパターン形成方法の代表的な構成は、基板の上部にネガティブフォトレジスト(Negative Photo Resist)膜を形成する。ネガティブフォトレジスト膜の一部領域を露光する。ネガティブフォトレジスト膜を現像する。ネガティブトーンワーキングフォトレジスト(negative tone working photo resist)膜を含む基板の上部にポジティブフォトレジスト(Positive Photo Resist)膜を形成する。ネガティブトーンワーキングフォトレジスト膜の境界部のポジティブフォトレジスト膜に水素気体が拡散するように基板をベーキング(Baking)する。ポジティブフォトレジスト膜を現像する。 （もっと読む）

【課題】流路などの微小セル構造を積層形成するための１０μｍ以下の大きさの複数のマイクロパターン部材を有するマイクロパターン複合材であって、各層の位置合わせを容易とし、確実に接着することを可能とするマイクロパターン形成用材料を提供する。
【解決手段】マイクロパターン部材５Ａを形成するためのマイクロパターン形成用材料であって、第１のトリガーが部分的に与えられることにより部分的に硬化し、かつ部分的に硬化した部分以外の部分が除去された後に、第１のトリガーとは異なる第２のトリガーが与えられることにより硬化し、かつ接着性を発現するマイクロパターン形成用材料。 （もっと読む）

【課題】高解像度の露光装置を用いずに微細パターンを形成する。
【解決手段】配線形成用の微細パターン形成では、寸法２ｄのレジスト膜５の両側面に寸法（１／２）ｄの架橋膜６を形成し、レジスト膜５と架橋膜６からなる寸法３ｄのラインパターンと最小寸法ｄのスペースパターンを形成する。レジスト膜５及び架橋膜６をマスクにして第２のハードマスク４に最小寸法ｄの第１の開口部を形成する。第１の開口部に埋め戻し材７を埋め込む。第２のハードマスク４及び埋め込み材７上に、レジスト膜５のパターンに対して寸法２ｄシフトさせた寸法２ｄのレジスト膜８の両側面に寸法（１／２）ｄの架橋膜９を形成し、レジスト膜８と架橋膜９からなる寸法３ｄのラインパターンと最小寸法ｄのスペースパターンを形成する。レジスト膜８及び架橋膜９をマスクにして第２のハードマスク４に最小寸法ｄの第２の開口部を形成する。 （もっと読む）

【課題】工程が簡便で、歩留まりが高く、高精度なアスペクト比の高い微細な構造体の形成を可能にする感光性樹脂製の転写層並びに高アスペクト比の構造体を有する成形体を簡便に作成する方法を確立する。
【解決手段】表面に凹凸の設けられた基板と表面に感光性樹脂層が形成された基材とを該凹凸と感光性樹脂層が内側になるように対向させ、次いで、前記基板と感光性樹脂層を圧着させた後、基材を感光性樹脂層から剥離することにより凹凸の設けられた基板上に感光性樹脂製の転写層を形成する方法において、前記感光性樹脂層が多官能エポキシ樹脂及び光カチオン重合開始剤を含有することを特徴とする前記転写層の形成方法、及びこのようにして得られた転写層にフォトリソグラフィーによるパターニングを施すことにより得られる高アスペクト比の構造体を有する成形体。 （もっと読む）

【課題】高精細なパターンを形成すること、かつ簡便な工程で形成が可能である導電性パターンの製造方法を提供する。
【解決手段】基材１と、基材上にパターン状に形成された光触媒含有層２とを有する光触媒含有層側基板３と、光触媒含有層中の光触媒の作用により特性が変化する特性変化層５を有するパターン形成体用基板６とを、所定の方向からエネルギーを照射することにより、特性変化層表面に特性の変化した特性変化パターンを形成する特性変化パターン形成工程と、前記特性変化パターンが形成されたパターン形成体用基板表面に、金属ペーストを塗布することにより、パターン状に金属ペーストを付着させる金属ペースト塗布工程と、前記特性変化パターンにパターン状に付着した金属ペーストを固化させて導電性パターンとする導電性パターン形成工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク等の遮光材料の製造に好適であり、表面の平滑性が高い金属パターン材料が得られる製造方法、及び、該製造方法により得られた金属パターン材料を提供する。
【解決手段】（Ａ）ガラス基板上に、金属粒子との相互作用を形成しうる官能基、或いは、金属イオン又は金属塩との相互作用を形成しうる官能基を有し、且つ、少なくとも該ガラス基板に片末端で直接化学結合したポリマーからなるポリマー層を形成する工程と、（Ｂ）前記ポリマー層上にレジストパターンを形成し、該レジストパターンの形成領域及び非形成領域のいずれか一方の領域におけるポリマー層に、金属粒子を含有する領域をパターン状に形成する工程と、を有することを特徴とする金属パターン材料の製造方法、及び該製造方法により得られた金属パターン材料。 （もっと読む）

【課題】感度、解像度、および密着性に優れ、ドライフィルム保存時の脱色が起こらず、アルカリ性水溶液によって、現像しうる感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（ａ）カルボキシル基含有単量体を共重合成分として含む、酸当量で１００〜６００、重量平均分子量が５，０００〜５００，０００の熱可塑性共重合体：２０〜９０質量％、（ｂ）少なくとも一つの末端エチレン性不飽和基を有する付加重合性モノマー：５〜７５質量％、（ｃ）光重合開始剤：０．０１〜３０質量％、（ｄ）塩基性染料：０．００１〜０．３質量％及び、（ｅ）下記式（Ｉ）で表される少なくとも一種の化合物：０．０１〜０．８質量％を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
【化１】


（式中、Ｒ_１〜Ｒ_５は、Ｈ又は炭素数１〜１２のアルキル基であり、これらは同一であっても相違してもよい。） （もっと読む）

【課題】本発明は、従来の上記課題を解決するためになされたものであって、電気部品、電子部品等の製造において微細パターンを印刷する印刷用版として、版の凸部へのインク付着が起こらない凹版においてスキージ後の凹版表面のインキ残りを少なくし高精細かつ高品質の印刷物が得られる凹版と、及びインクの転写性に優れた凸版において凸版表面のインク残りを少なくし精度・歩留まり面で大きく改善した凸版のそれぞれの印刷用版、その形成方法、及びこれを用いた印刷物の形成方法を提供することを課題とする。
【解決手段】不活性層上に非画線部もしくは画線部に対応する凸部と画線部もしくは非画線部に対応する凹部とからなる版パターンが設けられて微細パターンを印刷するのに用いる版であって、前記不活性層上の凸部に対応する領域に下地層が形成され、該下地層上に吸着層が形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】アクリル系カラーフィルターの製造ラインを構成する処理槽内に付着した当該カラーフィルター用樹脂組成物からなる樹脂汚れを、それが半硬化状態となっていても容易に除去することのできる水性洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】カラーフィルターの製造ラインを構成する処理槽内に付着した当該カラーフィルター用樹脂組成物からなる樹脂汚れを、該処理槽内から除去するための水性洗浄剤組成物は、成分（Ａ）アルカリ剤０．１〜１０重量％、成分（Ｂ）有機溶剤３０〜５０重量％、成分（Ｃ）キレート剤１〜１０重量％、成分（Ｄ）界面活性剤０．０１〜１重量％、及び成分（Ｅ）水 残部を含有する。 （もっと読む）

【課題】基板上の被処理膜に所定の微細なパターンを効率よく形成する。
【解決手段】ウェハＷ上に被処理膜Ｆ、反射防止膜Ｂ、レジスト膜Ｒを下から順に形成する（図５（ａ））。レジスト膜Ｒと反射防止膜ＢにパターンＲ１、Ｂ１をそれぞれ形成する（図５（ｂ））。パターンＲ１をマスクとして被処理膜Ｆをエッチングし、被処理膜ＦにパターンＦ１を形成する（図５（ｃ））。パターンＢ１の側壁部を溶解して、反射防止膜ＢにパターンＢ２を形成する（図５（ｄ））。パターンＢ２を覆うように犠牲膜Ｇを形成する（図５（ｅ））。パターンＲ１、Ｂ２をそれぞれ除去する（図５（ｆ））。犠牲膜ＧをマスクとしてパターンＦ１をエッチングし、被処理膜ＦにパターンＦ２を形成する（図５（ｇ））。犠牲膜Ｇを除去する（図５（ｈ））。 （もっと読む）