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Fターム[2H141MA04]の内容

機械的光制御・光スイッチ (28,541) | 制御パラメータ、機能 (2,947) | 強度 (843) | 段階的 (309) | オン、オフ (267)

Fターム[2H141MA04]に分類される特許

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【課題】ドレインアバランシェ効果を抑圧し、信頼性を向上させることが可能となるラッチ回路を提供する。
【解決手段】ゲートに前記走査電圧が入力されたときに、「0」あるいは「1」のデータに対応する電圧を取り込む入力トランジスタと、他端に容量制御信号が入力されるとともに、一端が前記入力トランジスタの第2電極に接続され、前記入力トランジスタで取り込まれた電圧を保持する保持容量と、ゲートが前記入力トランジスタの第2電極に接続され、第2電極が第1出力端子に接続されるとともに、第1電極に第1ラッチ制御信号が入力される第1導電型の第1トランジスタと、ゲートが前記第1トランジスタの第2電極に接続され、第2電極が第2出力端子に接続されるとともに、第1電極に第2ラッチ制御信号が入力される第2導電型の第2トランジスタとを備える。 (もっと読む)


【課題】駆動開口と固定開口がどれだけずれているかを検出することができる構造を提供する。
【解決手段】遮光膜12は、表示領域に複数の固定開口を有する。遮光膜12は、周辺領域では、周辺領域のシャッタ40の一部との重複を避けるように形成されたダミー開口24を有する。ダミー開口24の縁は、固定開口の規則性を以て周辺領域に配置すると仮想した固定開口の縁の一部からなるエッジを含む。表示領域のシャッタ40は、第1位置P1で駆動開口42と固定開口が連通して光を通過させ、第2位置P2で駆動開口42と固定開口がずれるように配置されて光を遮断する。複数のシャッタ40が第2位置P2にあるとき、周辺領域の駆動開口42とエッジとの距離dと、表示領域の駆動開口42と固定開口の縁の一部との距離Dとが相間関係を有する。 (もっと読む)


【課題】機械的な干渉、過度の湿気、及び損傷を及ぼす可能性がある物質からインターフェロメトリックモジュレータを保護するバックプレートを備えたインターフェロメトリックモジュレータアレイを提供する。
【解決手段】MEMSを基本にしたディスプレイデバイス600であり、インターフェロメトリックモジュレータアレイ604が透明基板を通じて光を反射させるように構成されている。透明基板は、シール606を介してバックプレート608に取り付けられており、バックプレートは、インターフェロメトリックモジュレータアレイを制御するための電子回路を内蔵することができる。バックプレートは、ディスプレイの状態を制御するために使用することができるデバイス構成要素(例えば電子構成要素、等)に関する物理的支持物となることができる。さらに、バックプレートは、デバイスに関する構造上の主支持物として利用することもできる。 (もっと読む)


【課題】応力関連の変形を最小限に抑えるように構成された支持構造を有するMEMSデバイス、およびその製造方法。
【解決手段】MEMSデバイスの実施形態は、上位の支持構造によって支持される移動可能層を含み、更に、下位の支持構造を含むことができる。1つの実施形態では、上位の支持構造内の残留応力と、移動可能層内の残留応力とが、実質的に等しい。別の実施形態では、上位の支持構造内の残留応力と、下位の支持構造内の残留応力とが、実質的に等しい。特定の実施形態では、実質的に等しい残留応力は、同じ厚さを有する同じ材料で形成される層の使用を通じて得られる。更なる実施形態では、実質的に等しい残留応力は、互いの鏡像である支持構造および/または移動可能層の使用を通じて得られる。 (もっと読む)


【課題】高速、かつ低電圧で駆動されることが可能な、透明基板上に構築された直視型ディスプレイを提供する。
【解決手段】少なくとも二つの位置を有する遮光素子のアレイと、少なくとも一つの光源と、遮光素子の位置を制御するとともに、少なくとも一つの光源の照明を制御し、画像フレームに対応する複数のサブフレームデータセットをメモリから取得し、サブフレームデータセットに示されている位置に遮光素子を移動させるために、出力シーケンスに従ってサブフレームデータセットを処理し、サブフレームデータセットに従って画像を形成するために、少なくとも一つの光源を駆動するコントローラと、画像を変えるために出力シーケンスの変更を決定するためのシーケンスパラメータ計算モジュールと、を備えるように構成する。 (もっと読む)


【課題】本発明の分野は、微小電気機械システム(MEMS)に関し、より具体的には、MEMSを備えるディスプレイに関する。
【解決手段】映像ディスプレイにピクセルを形成するのに適した光デバイス800。光デバイス800は、第1の屈折率を有する第1の層802と、第1の屈折率よりも低い第2の屈折率を有する、第1の層802の上の第2の層804と、第2の屈折率よりも高い第3の屈折率を有する、第2の層804の上の第3の層806と、少なくとも部分的に光吸収性である第4の層810とを含み、光スタック808および第4の層810は、デバイスが第1の状態のときは互いから第1の距離にあり、デバイスが第2の状態のときは互いから第2の距離にあり、第1の距離は第2の距離とは異なる。 (もっと読む)


【課題】幅広く変化する電流負荷の全てにわたって調整された電圧で電流を効率良く供給するように構成された電源を提供する。
【解決手段】電力効率の良い電源レギュレータ回路が開示される。前記回路は、電流負荷に従って、それらのオーバヘッド電流を変更するように構成される。これは、電流負荷が幅広く変化する表示装置において使用するのに特に有利である。そのような表示装置は、例えば干渉変調器表示装置、液晶表示装置、及びDMD表示装置のような双安定表示装置を含む。 (もっと読む)


【課題】高速画像形成のために高エネルギ光源を利用する単一通過の画像形成システムを提供する。
【解決手段】予め決められたスキャンライン画像データに応答して、略一次元スキャンライン画像を1200dpi以上で発生する。略均一な二次元均質光場119Aは空間光変調器120を用いて、変調された光が二次元変調光場119Bを形成するように、予め決められたスキャンライン画像データに従って変調される。変調された光場は、次に、略一次元スキャンライン画像を形成するようにアナモルフィックに画像化されかつ集中される。光変調素子125−11〜125−43は、個々に変調「オン」状態と変調「オフ」状態との間で調整可能であって、これにより、変調「オン」状態において各変調素子がその受け入れた光部分をアナモルフィック光学系の対応する領域上へ方向づけ、かつ「オフ」状態において光部分を阻止または迂回させるように配置される。 (もっと読む)


【課題】レーザー光を遮蔽する遮光部材の強度を向上することが容易なレーザー光出射装置、および画像形成装置を提供する。
【解決手段】レーザー光出射装置104は、レーザー光を出射する出射部2と、出射部2を収容し、出射部2から出射されたレーザー光が外部へ通り抜けるように形成された開口部45を有するハウジング43と、軸方向と直交する方向に貫通する貫通孔32が設けられた円柱形の円筒シャッター3とを備え、円筒シャッター3は、軸方向がレーザー光と交差する方向に向けられ、開口部45を塞ぐように配設され、かつ軸回りに回動自在にされるようにした。 (もっと読む)


【課題】 従来のディスプレイは液晶やブラウン管を用いて、画素の色を変化させることは出来たが、画素の材質感、および表面の材質感を変化させることは出来なかった。
【解決手段】 白黒のパターンの回転や液晶によって、個別に制御することのできる「高速点滅する面」を画素としてディスプレイを作る。それは認知効果によってその画素の材質感が変化したように我々に感じさせ、その集合であるディスプレイの表面の材質感を変化させることが出来る。 (もっと読む)


【課題】充填された液体16に生じた気泡48を確認しやすくすることを目的とする。
【解決手段】表示装置は、間隔を有して対向配置された一対の光透過性基板10,12と、一対の光透過性基板10,12を貼り合わせて、一対の光透過性基板10,12の間に封止空間を区画するシール材14と、画像を光学的に表示するために封止空間に配置された複数のシャッタ22と、封止空間に充填された光学等方性を有する液体16と、一対の光透過性基板10,12の少なくとも一方と液体16との間に配置された光学膜46と、を有し、光学膜46の屈折率は、一対の光透過性基板10,12の屈折率とは異なる。 (もっと読む)


【課題】TFTの信頼性向上を図りつつ、良好なコントラスト特性を得ることのできる表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の表示装置は、透光性基板と、前記透光性基板の一部に形成された不純物ドープ層と、前記不純物ドープ層及び前記透光性基板上に形成された絶縁膜と、前記絶縁膜上に形成された複数のTFTを含むTFT回路と、前記TFT回路により駆動される複数のシャッターを有するシャッターアレイと、を備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高速かつ精細に光が透過する開口を調節できる開口調節素子を提供する。
【解決手段】本発明に係る開口調節素子は、流体が流動する空間を構成するチャンバと、当該チャンバ内に設けられるものであって、互いに混合されない性質を持ち、一つは透光性の、他の一つは遮光性または吸光性の物質で形成された第1流体及び第2流体と、チャンバの内側面に設けられるものであって、チャンバ内に電場を形成するために電圧が印加される一つ以上の電極がアレイされた第1電極部と、を備え、電場による第1流体と第2流体間の界面位置変化により光が透過される開口が調節される。 (もっと読む)


【課題】耐衝撃性を向上させることができる表示装置を提供すること。
【解決手段】第一の基板20と、第二の基板30と、複数の画素PIXと、複数の画素PIXの各々に形成されたシャッタ機構部32と、第一の基板20と第二の基板30との間に封入された流体Lと、第一の基板20または第二の基板30の一方の基板の流体Lとは反対側に形成された緩衝部40とを有する表示装置1であって、シャッタ機構部32は第二の基板30に形成され、且つ、可動すると共に画素PIXの光透過率を制御するシャッタ部31を有し、緩衝部40は、一方の基板の流体Lとは反対側に対向する第三の基板41と、一方の基板と第三の基板41とを貼り合せるシール部42と、一方の基板と第三の基板41とシール部42との間に形成された所定の間隙とを有する。 (もっと読む)


【課題】画像品質の改良と、電力消費の削減とのために、高速に、かつ低電圧で駆動されることが可能な、機械的に作動させられるディスプレイを提供する。
【解決手段】シャッタベースの光変調器を組み込んだディスプレイ装置が、そのような装置を製造する方法とともに開示される。本方法は、当業界で周知の薄膜製造プロセスと互換性があり、より低い消費電力を有するディスプレイをもたらす。 (もっと読む)


【課題】改良された画像品質と、低減された消費電力の直視型MEMSディスプレイを提供する。
【解決手段】MEMS光変調器のアレイ702と、ドライバ708、710、714とアレイ内の各光変調器の状態を制御するためのコントローラ704とを含む。コントローラ704は、表示のために画像フレームを符号化した画像データを受信し、画像データから、複数のサブフレームデータセットを導き出し、サブフレームデータセット内で示された状態にするために、出力シーケンスに従って複数のサブフレームデータセットをドライバ708、710、714に出力する。ドライバ708、710、714は、データおよび作動電圧をアレイ702に伝える。 (もっと読む)


【課題】赤外線をチョッピングし得る領域を十分に広くする。
【解決手段】支持基板20と、赤外線透過薄膜積層体23と、基板20の厚み方向で積層体23に対向配置されて「機構側支持部」によって支持された赤外線透過薄膜積層体25とを有し、導電性材料でそれぞれ形成された両積層体23,25の間に電圧が印加された状態において両積層体23,25が光学的に一体化して厚み方向に赤外線IRを透過させ、かつ、電圧が印加されない状態において両積層体23,25の間にギャップ28が形成されて赤外線IRを反射すると共に、「機構側支持部」が、積層体25の外縁領域に設けられた支持枠24aと、積層体25の内側領域に設けられた支柱24bとを備え、電圧が印加された状態において、積層体25の「機構側支持部」によって支持されていない部位が積層体23に接して両積層体23,25が光学的に一体化する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、マスクレス加工装置に関する。
【解決手段】本発明のマスクレス加工装置は、基板に照射される光を提供する照明光学系と、多数の光変換素子で構成され、前記照明光学系から照射された光を加工パターンに応じて選択的に反射または透過するように当該光変換素子を調節して光量を変換する空間光変調器と、前記多数の光変換素子が前記基板の一つのピクセルに対応して集光するように配列され、前記空間光変調器により変換された光が入射されると、当該ピクセルに前記多数の当該光変換素子によって提供された高エネルギーの光を投射する投射光学系と、前記加工パターンの入力を受け、入力された加工パターンに応じて、前記光源から照射された光を前記多数の光変換素子によって選択的に変換されるように前記空間光変調器を制御する制御部と、を含み、デジタルマスクを用いることにより、マスク使用によるコストが低減し、加工しようとする対象のスケール変形に対する能動的な対応が容易であるだけでなく、前記装置の活用度及び利用度が拡大される。 (もっと読む)


【課題】MEMSによるシャッタ組立体Mにおける歪みの発生を抑えた表示装置を提供する。
【解決手段】板状に形成されるシャッタ板SHと、アクチュエータ部ACと、を有する複数の画素を備えた表示装置であって、アクチュエータ部ACは、シャッタ板SHに接続される梁部Bと、電圧が印加されることにより、梁部Bを湾曲させてシャッタ板SHを駆動する駆動電極Eと、駆動電極Eを支持し、基板B1上に固定される第1支持部S1と、梁部Bを支持し、基板上に固定される第2支持部と、を有し、第1支持部S1および第2支持部の少なくとも一方は、基板から離れた平面部分Spと、平面部分Spから窪み、基板に接続する凹部Scと、を有し、凹部Scは、平面部分からほぼ垂直に傾斜して形成される垂直形成部分Svと、垂直形成部分Svから開始して、基板B1側に進むに従って傾斜が緩くなるように形成される部分Sgを有する、ことを特徴とする。 (もっと読む)


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