【課題】ＩＭＯＤの非アクティブ領域は、光吸収性であるよう作られることが必要であり、一方所望の光学的応答を向上させるためにＩＭＯＤの或る特定の非アクティブ領域からの反射周辺光の影響を減少させて、光デバイスを覆い隠し又は光デバイス中に光吸収性非アクティブ領域を作ること。
【解決手段】基板と、前記基板上に形成され、膜スタックを包含して光を吸収するように形成された静的光コンポーネントと、前記基板の上の動的光コンポーネントとを有することを特徴とする光デバイス及びその製造方法である。 （もっと読む）

【課題】表面側保護基板を通してデバイス本体のパッドと実装基板の導体パターンとを電気的に接続でき、且つ、デバイス本体に不要な応力がかかるのを抑制しつつ電気的な接続信頼性を高めることが可能なＭＥＭＳデバイスを提供する。
【解決手段】ＳＯＩ基板（半導体基板）１００を用いて形成され複数のパッド１３を一表面側に備えたミラー形成基板（デバイス本体）１、ミラー形成基板１の一表面側に接合された第１のカバー基板（表面側保護基板）２を有するＭＥＭＳチップ４と、ＭＥＭＳチップ４が実装された実装基板５とを備える。第１のカバー基板２は、ミラー形成基板１の各パッド１３それぞれと接合されて電気的に接続されたシリコンからなる複数の導電部２０２が、第１のカバー基板２の厚み寸法内で設けられている。各導電部２０２と実装基板５の各導体パターン５０２とが、両者に跨って形成された半田部６を介して電気的に接続されている。 （もっと読む）

【課題】向上した発光効率を有する、低電力のディスプレイを提供する。
【解決手段】空間光変調器内で使用するための光キャビティ２００は、前部反射面２０２と後部反射面２０４とを含む。前部反射面２０２は、光透過領域２０６のアレイを含み、光透過領域２０６を通して、光２０８は、光キャビティ２００を脱出することが可能である。光２０８は、１つ以上の光源２１０から光キャビティ２００に入る。光２０８は、光透過領域２０６のうちの１つを通して反射されるまで、前部および後部反射面２０２および２０４の間で反射される。 （もっと読む）

【課題】基板に生じる撓みを低減して分解能を向上させた波長可変干渉フィルター、光モジュール、及び光分析装置を提供する。
【解決手段】エタロン５（波長可変干渉フィルター）は、固定基板５１と、固定基板５１に対向する可動基板５２と、固定基板５１に設けられた固定反射膜５６と、可動基板５２に設けられ、固定反射膜５６とギャップを介して対向する可動反射膜５７と、固定基板５１に設けられた固定電極５４１と、可動基板５２に設けられ、固定電極５４１と対向する可動電極５４２と、を備え、可動電極５４２は、圧縮応力を有する圧縮電極層と、引張応力を有する引張電極層と、が積層されて構成された。 （もっと読む）

【課題】 光学膜としての金属膜の特性が、酸化や硫化等によって劣化するのを防止すること。
【解決手段】 光フィルターは、第１基板２０と、第１基板２０に対向する第２基板３０と、第１基板２０に設けられた第１光学膜４０と、第２基板３０に設けられ、第１光学膜４０と対向する第２光学膜５０と、を含み、第１光学膜４０および第２光学膜５０の少なくとも一方は、所望波長帯域の光に対する反射特性および透過特性を有する金属膜４０Ｍを有し、金属膜４０Ｍの表面およびエッジ部は、バリア膜９０としての誘電体膜によって覆われている。金属膜４０Ｍのエッジ部に、傾斜面を設けることもできる。また、金属膜４０Ｍと、その下に形成される他の光学膜としての誘電体膜４０Ｅとの間に階段状の段差を形成することもできる。 （もっと読む）

【課題】支持構造を有するＭＥＭＳデバイス、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】ＭＥＭＳデバイスの実施形態は、導電性の移動可能層を含み、該移動可能層は、ギャップによって導電性の固定層から隔てられ、導電性の移動可能層内のくぼみの上にある剛性の支持構造もしくはリベットによって、または導電性の移動可能層内のくぼみの下にある柱によって支持される。特定の実施形態では、リベット構造の部分は、移動可能層を通って下の層に接触する。他の実施形態では、剛性の支持構造の形成に使用される材料を、ＭＥＭＳデバイスと電気的に接続する不動態化を経ないと曝されるであろうリードを不動態化して、これらのリードを損傷またはその他の干渉から保護するためにも用いることができる。 （もっと読む）

【課題】 波長可変フィルターが、所望波長帯域の全帯域をスキャンするのに要する時間を短縮すること。
【解決手段】 光フィルター３００は、第１波長可変バンドパスフィルター（ＢＰＦ（１））と、第２波長可変バンドパスフィルター（ＢＰＦ（２））と、駆動部１２０と、各光フィルターの各々の分光帯域を可変に制御する制御部６００と、を含み、第１波長可変バンドパスフィルターは、第１波長帯域の光を分光し、かつ、分光帯域として、第１分光帯域と、第２分光帯域と、を少なくとも有し、第２波長可変バンドパスフィルターは、第１波長帯域に隣接する第２波長帯域の光を分光し、かつ、分光帯域として、第３分光帯域と、第４分光帯域とを少なくとも有し、駆動部１２０は、各第１波長可変バンドパスフィルターおよび第２波長可変バンドパスフィルターの各々を共に駆動し、第１分光帯域と、第３分光帯域とにおける、光が分光される期間の少なくとも一部が重複し、かつ、第２分光帯域と、第４分光帯域とにおける、光が分光される期間の少なくとも一部が重複する。 （もっと読む）

【課題】駆動電圧の増大を招くことなく、優れた光学特性を有する波長可変フィルタを提供すること。
【解決手段】第２の基板３は、その厚さ方向での位置が異なる２つの面を可動部２１側に有し、２つの面のうち、一方に駆動電極３３が設けられ、他方に検出電極４０が設けられており、検出電極４０と可動部２１との間の静電容量に基づいて、駆動電極３３と可動部２１の間に電位差を生じさせることにより、これらの間に静電引力を生じさせて、可動部２１を変位させるとともに、固定反射膜３５と可動反射膜２５との間で光反射を繰り返し、干渉を生じさせて、固定反射膜３５と可動反射膜２５との間の距離に応じた波長の光を外部に出射し得るよう構成されている。 （もっと読む）

【課題】 波長可変フィルターの可動範囲を抑制すること。
【解決手段】 光フィルター３００は、第１波長可変バンドパスフィルター可変ＢＰＦ（１）と、第２波長可変バンドパスフィルター可変ＢＰＦ（２）と、駆動部３０１と、各バンドパスフィルターの分光帯域を可変に制御する制御部３０３と、を含み、第１波長可変バンドパスフィルターは、所望波長帯域における第１波長帯域（４００ｎｍ〜４６０ｎｍ）を分光可能とし、かつ、分光帯域として、前記第１波長帯域内の第１波長を中心波長とする第１分光帯域ｂ１と、第１波長帯域内の第２波長を中心波長とする第２分光帯域ｂ２と、を少なくとも有し、第２波長可変バンドパスフィルターは、所望波長帯域における、第１波長帯域に隣接する第２波長帯域（４８０ｎｍ〜５４０ｎｍ）を分光可能とし、かつ、分光帯域として、第２波長帯域内の第３波長を中心波長とする第３分光帯域ｂ５と、第２波長帯域内の第４波長を中心波長とする第４分光帯域ｂ６と、を少なくとも有する。 （もっと読む）

【課題】駆動電圧の増大を招くことなく、優れた光学特性を有する波長可変フィルタを提供すること。
【解決手段】第２の基板３は、その厚さ方向での位置が異なる２つの面を可動部２１側に有し、２つの面のうち、一方に駆動電極３３が設けられ、他方に検出電極４０が設けられており、検出電極４０と可動部２１との間の静電容量に基づいて、駆動電極３３と可動部２１の間に電位差を生じさせることにより、これらの間に静電引力を生じさせて、可動部２１を変位させるとともに、固定反射膜３５と可動反射膜２５との間で光反射を繰り返し、干渉を生じさせて、固定反射膜３５と可動反射膜２５との間の距離に応じた波長の光を外部に出射し得るよう構成されている。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィー工程とエッチング工程の回数を減らし、製造時間の短縮化と低コスト化を図る。
【解決手段】基板と膜の支持構造と光学積層膜と移動可能な反射層と空隙とを含む光干渉変調方式による表示装置の製造方法であって、基板上に支持構造と光学積層膜とを設けた構造に対してフォトレジスト膜を形成する工程と、透過率の異なる複数の領域を具備する多階調フォトマスクを用いて露光及び現像を行う工程と、前記現像後のフォトレジスト膜の上部に反射層を形成する工程と、前記反射層を残してレジスト膜を除去する工程と、を有する表示装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】高分解能で、かつ低コストで製造可能な干渉フィルターを提供する。
【解決手段】エタロン５は、表面研磨された第一反射膜形成面５１３を有する第一基板５１と、第一基板５１に対向配置され、第一反射膜形成面５１３に対向する第二反射膜形成面５２３を有する第二基板５２と、第一反射膜形成面５１３に設けられた第一反射膜５６と、第二反射膜形成面５２３に設けられ、第一反射膜５６に対向する第二反射膜５７と、第一基板５１および第二基板５２を接合するプラズマ重合膜５３と、を具備した。 （もっと読む）

【課題】駆動電圧の増大を招くことなく、優れた光学特性を有する波長可変フィルタを提供すること。
【解決手段】第２の基板３は、その厚さ方向での位置が異なる２つの面を可動部２１側に有し、２つの面のうち、一方に駆動電極３３が設けられ、他方に検出電極４０が設けられており、検出電極４０と可動部２１との間の静電容量に基づいて、駆動電極３３と可動部２１の間に電位差を生じさせることにより、これらの間に静電引力を生じさせて、可動部２１を変位させるとともに、固定反射膜３５と可動反射膜２５との間で光反射を繰り返し、干渉を生じさせて、固定反射膜３５と可動反射膜２５との間の距離に応じた波長の光を外部に出射し得るよう構成されている。 （もっと読む）

【課題】駆動電圧の増大を招くことなく、優れた光学特性を有する波長可変フィルタを提供すること。
【解決手段】第２の基板３は、その厚さ方向での位置が異なる２つの面を可動部２１側に有し、２つの面のうち、一方に駆動電極３３が設けられ、他方に検出電極４０が設けられており、検出電極４０と可動部２１との間の静電容量に基づいて、駆動電極３３と可動部２１の間に電位差を生じさせることにより、これらの間に静電引力を生じさせて、可動部２１を変位させるとともに、固定反射膜３５と可動反射膜２５との間で光反射を繰り返し、干渉を生じさせて、固定反射膜３５と可動反射膜２５との間の距離に応じた波長の光を外部に出射し得るよう構成されている。 （もっと読む）

【課題】ＩＭＯＤの或る特定の非アクティブ領域からの反射周辺光の影響を減少させること。
【解決手段】基板と、前記基板上に形成された第１及び第２の光コンポーネントとを有し、前記第１の光コンポーネントは、２つのモードを有し、該各モードは、前記第１の光コンポーネントに入射した光に対する別々の光学的応答を生じ、前記第２の光コンポーネントは、前記第１のコンポーネントからの周辺光の反射を減少させて光学的応答が周辺光の反射によって劣化させられず、前記第２の光コンポーネントがまた膜スタックを有することを特徴とする光デバイス。 （もっと読む）

【課題】一対の基板の対向する面に設けられた電極の配線を確実に基板の外部に引き出し、接続信頼性を向上させることが可能な光フィルター、光フィルターモジュール、および分析機器を提供すること。
【解決手段】エタロン５は、平面正方形状の板状の光学部材であり、第１基板５１および第２基板５２を備えている。第１基板５１は、第２基板５２に対向しない第１突出部５１３を有しており、この第１突出部５１３に第１電極パッド５４１Ｂが形成されている。また、第２基板５２は、第１基板５１に対向しない第２突出部５２４を有しており、この第２突出部５２４に第２電極パッド５４２Ｂが形成されている。 （もっと読む）

【課題】ギャップが形成される空間の内圧の上昇を抑制し、ギャップの精度を向上させることができる波長可変干渉フィルターの製造方法を提供すること。
【解決手段】波長可変干渉フィルターの製造方法は、第一基板１００のチップ領域１０１に、静電ギャップ形成溝１１１と、静電ギャップ形成溝１１１からチップ領域１０１の外周縁に延びる配線形成溝１１３、１１４と、これらの配線用形成溝と第一基板１００の外部とを連通する空気連通溝１２０、１３０と、を形成する第一基板溝形成工程と、前述の各種溝に固定ミラー１６、第一電極１４１、および第一配線部１４１Ａを形成する第一基板配線形成工程と、可動ミラー、第二電極、および第二配線部と、を備えた第二基板を形成する第二基板形成工程と、第一基板１００および第二基板を貼り合わせる貼合工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】消費電力の低減を図れ、かつ配線信頼性の高い光フィルター素子、光フィルターモジュール、および分析機器を提供する。
【解決手段】光フィルター素子は、第一基板５１と、前記第一基板５１と対向する第二基板５２と、前記第一基板５１に設けられた第一反射膜と、前記第二基板５２に設けられ、前記第一反射膜に対向する第二反射膜５７と、前記第一基板５１に設けられた第一電極と、前記第二基板５２に設けられ、前記第一電極に対向する第二電極５４２と、前記第一基板５１に設けられ、前記第一電極に接続された一対の第一引出電極５４１Ａと、前記第二基板５２に設けられ、前記第二電極５４２に接続された一対の第二引出電極５４２Ａと、を具備した。 （もっと読む）

【課題】耐久性が高く、透過率特性も安定した光アッテネータを得る。
【解決手段】入射光の波長域で透明なガラス基板の表裏の少なくとも一方の面に入射光が回折を生じる大きさの凹凸パターンの繰返しからなる微細構造を備えている。一形態では、その微細構造はピッチが一定であり、ピッチに対する凸部の割合を示すフィリングファクタ（ＦＦ）の異なる領域を複数有する。そして、微細構造に対する入射光の入射位置をフィリングファクタの異なる領域間で移動させることにより入射光量に対する０次回折光の透過光量の割合を変化させる。 （もっと読む）

【課題】静電気動作と解放を備えたアナログ光干渉変調器デバイスを提供する。
【解決手段】微小電気機械システム（ＭＥＭＳ）デバイスは、第一の電極と、第一の電極から電気的に絶縁された第二の電極と、第一の電極と第二の電極とから電気的に絶縁された第三の電極とを有している。ＭＥＭＳデバイスはまた、第一の電極を第二の電極から分離する支持構造と、第一の位置と第二の位置との間に配置され移動可能な反射素子とを有している。反射素子は、第一の位置にあるときにはデバイスの一部に接触しており、第二の位置にあるときにはデバイスの一部に接触していない。反射素子が第一の位置にあるとき、反射素子と一部との間に接着力が生成される。第一の電極と第二の電極と第三の電極とに印加された電圧が接着力を少なくとも部分的に低減または相殺する。 （もっと読む）