【課題】基板処理装置において処理液に効率良く電荷を誘導し、基板の帯電を効率良く抑制する。
【解決手段】基板処理装置は、基板に向けて洗浄液の液滴を吐出する吐出部３、および、吐出部３の吐出口３１近傍に配置される誘導電極６を備え、誘導電極６は吐出口３１の中心軸３０に対して傾斜する傾斜面６１を有する。基板処理装置では、誘導電極６と吐出部３の洗浄液管３２との間に電位差を付与することにより洗浄液に電荷を誘導し、当該洗浄液の液滴により基板を洗浄することにより洗浄処理による基板の帯電を抑制することができる。誘導電極６では、中心軸３０を含む面による傾斜面６１の任意の断面において、中心軸３０と傾斜面６１との間の距離が吐出口３１に近づくほど長くされる。これにより、吐出口３１に近接した位置における誘導電極６の面積を大きくすることができるため、洗浄液に効率良く電荷を誘導して基板の帯電を効率良く抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】十分なフィルタ寿命を得ることができる浸漬型の洗浄装置およびそれを用いた洗浄方法を提供すること。
【解決手段】ウエハＷに形成されたレジスト膜等を除去する洗浄装置は、レジスト膜等の剥離処理を行うための洗浄液を貯留し、その中にウエハＷを浸漬させて洗浄処理を行う洗浄槽１０１と、フィルタ１１４，１１５が介在され洗浄槽１０１内の洗浄液を循環させる循環ライン１０４と、洗浄槽１０１で洗浄処理を行ったウエハＷに残存しているレジスト膜等を除去液としてのリンス液により除去する除去処理を行う除去処理槽としてのリンス槽１２１とを具備する。 （もっと読む）

【課題】被処理基板から均一にパーティクルを高い除去効率で除去することができる基板洗浄方法を提供する。
【解決手段】基板洗浄方法は、洗浄槽内に貯留される洗浄液内に被処理基板を浸漬する工程と、前記洗浄槽内の洗浄液に超音波を発生させる工程と、を備えている。超音波を発生させる工程の少なくとも一期間、洗浄槽内に洗浄液が供給される。前記洗浄槽内に洗浄液を供給しながら洗浄槽内の洗浄液に超音波を発生させている間、洗浄槽内における洗浄液が供給される垂直方向位置は変化する。 （もっと読む）

【課題】基板に対する処理液のミストの飛散を抑制することができる液処理装置を提供すること。
【解決手段】ウエハＷを水平に保持し、ウエハＷとともに回転可能なウエハ保持部１と、ウエハ保持部１に保持されたウエハＷを囲繞し、ウエハＷとともに回転可能な回転カップ３と、回転カップ３およびウエハ保持部１を一体的に回転させるモータ２と、ウエハＷの表面に処理液を供給する表面処理液供給ノズル４と、回転カップ３から外部へ排気および排液する排気・排液部６と、表面がウエハ表面と略連続するようにウエハの外側に設けられ、保持部材１および回転カップ３とともに回転し、ウエハ表面に供給されてウエハＷから振り切られた処理液をその表面を介して回転カップ３から排気・排液部６へ案内する案内部材３５とを具備する。 （もっと読む）

【課題】銅配線の腐食抑制効果（銅腐食抑制効果）が優れ、かつ接触抵抗に影響を及ぼさない銅配線用洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】銅腐食抑制剤（ＲＥ）及び水（Ｗ）を含有してなり、２５℃でのｐＨが３〜１４であり、かつ式（１）を満たしてなることを特徴とする銅配線用洗浄剤を用いる。

【数１】


｛式中、Ｅは２５℃での酸化還元電位（Ｖ、ｖｓＳＨＥ）、ｐＨは２５℃でのｐＨを表す。｝

また、上記の銅配線用洗浄剤を半導体基板又は半導体素子に連続的又は断続的に供給して、銅配線を有する半導体基板又は半導体素子を洗浄することを特徴とする半導体基板又は半導体素子の洗浄方法を用いる。
なし （もっと読む）

【課題】液体で濡れた基板表面を乾燥させる際に基板表面に形成されたパターンの倒壊が発生するのを防止しながら、基板表面を良好に乾燥させる。
【解決手段】近接ブロック３の対向面３１が基板表面Ｗｆに対して近接配置され、対向面３１と基板表面Ｗｆとに挟まれた間隙空間ＳＰに液密層２３が形成された状態で近接ブロック３が移動方向（−Ｘ）に移動するとともに、液密層２３の上流側端部２３１に向けて液体に溶解して表面張力を低下させる溶剤成分を含む溶剤ガスが供給される。さらに、液密層２３の上流側界面２３１ａまたは該上流側界面２３１ａよりも移動方向の下流側（−Ｘ）において液体を基板表面Ｗｆに向けて供給し、基板表面Ｗｆと接液するリンス液（液体）を追加供給されたフレッシュな液体に置換している。 （もっと読む）

【課題】洗浄溶剤の種類、被洗浄物の材質、超音波強度などの条件を変更することなく、超音波洗浄によっても、寿命が変化しにくい塗布ノズルを提供すること。
【解決手段】誘起部を設けたノズルを超音波洗浄することで、超音波エロージョンが誘起部で発生するようになり、吐出口や位置決めマークに超音波エロージョンが発生することによる塗布ノズルの性能劣化を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】ノズルからの薬液吐出により薬液処理を行った後に同ノズルからのリンス液吐出によりリンス処理を行う際に、薬液やリンス液の逆流が生じるのを未然に防止するとともに、処理に要する時間を短縮する。
【解決手段】洗浄動作が完了すると、時刻ｔ２に薬液用開閉バルブが閉じられて薬液の供給が停止されるとともに、経過時間のカウントが開始される。そして、待機時間Ｔ２が経過すると、時刻ｔ３にリンス液用開閉バルブが開かれて、ノズルへのリンス液の供給が開始され、これによってリンス処理工程が実行されるとともに、経過時間のカウントが開始される。そして、待機時間Ｔ３が経過すると、時刻ｔ４に薬液用サックバックバルブがオフにされ、これによって、薬液用サックバックバルブによる薬液の吸い込み、すなわちサックバック工程が開始される。 （もっと読む）

【課題】 半導体ウェーハの研磨に使用されるウェーハ研磨用プレートの表面を高清浄度かつ高効率的に洗浄する。
【解決手段】 ウェーハ研磨後のウェーハ研磨用プレートＰを洗浄槽１１内のプレート回転用ローラー１２により回転自在に保持し、高圧噴射用ポンプ２１により加圧した洗浄液をノズル１４で噴射洗浄液１５にして、溝部Ｍの形成されたウェーハ保持面１３に噴射させ、付着するワックスあるいは研磨剤固形物を除去する。同時に、プレート表面ブラシ洗浄機構２５によりウェーハ保持面１３を摺擦する。また、プレート側面ブラシ洗浄機構２７およびプレート裏面ブラシ洗浄機構２８を用いて各部位を摺擦し付着物を除去する。上記洗浄液は、洗浄液循環用ポンプ１７により洗浄液循環用タンク１９に還流され、洗浄液加熱用ヒータ２０により適温に加熱され循環供給される。 （もっと読む）

メガソニックプロセス装置および方法は、少なくとも３００ｋＨｚの基本共振周波数で厚さ方向モードで作動する１つ以上の圧電振動子を備える。発生器は、所定のスイープ周波数領域で変動する変動周波数駆動信号で振動子を起動する。発生器は、全振動子の共振周波数を含むスイープ周波数領域中で駆動信号の周波数を繰り返し変動させあるいはスイープする。 （もっと読む）

ここに開示されるのは、板状物品の流体処理用の装置であって、板状物品を保持しかつこれを実質的に垂直方向の回転軸線まわりに回転させるための回転ヘッド；回転ヘッドのまわりの放射状に配列され非接触で回転ヘッドを懸架しかつ駆動するための駆動手段；回転軸線と実質的に同心であり、かつ回転ヘッドと駆動手段との間に配置されそして回転ヘッドと駆動手段との間の間隙に挿入された実質的に円筒状の側壁；回転ヘッドと壁とを互いに昇降させるための持上げ手段を備えた装置である。
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【課題】蒸気による基板処理および処理液による基板処理を同一処理チャンバ（処理ユニット）内で行うことができるようにする。
【解決手段】処理ユニット１１は、基板Ｗを保持して回転させるスピンチャック２１と、基板対向面３６を基板Ｗの表面に接近させることによって基板Ｗ表面付近の空間を制限するとともに、複数の蒸気吹き出し孔３７を有する遮断板３０と、この遮断板３０を上下動させる遮断板昇降駆動機構３１と、遮断板３０に蒸気を供給する蒸気供給源４０と、基板Ｗに処理液を供給する処理液ノズル７５および処理液供給管３５とを備えている。遮断板３０を下降させると、遮断板３０と処理容器６９とによって、基板Ｗを取り囲む実質的な密閉空間が形成される。処理容器６９内の雰囲気は、排気管６２などによって排気される。 （もっと読む）

【課題】リンス処理時における基板の帯電を防止することができる基板処理方法および基板処理装置を提供すること。
【解決手段】基板処理装置は、ウエハＷをほぼ水平に保持して回転させるためのスピンチャック１と、スピンチャック１に保持されて回転されているウエハＷの表面に薬液としてのふっ酸を供給するための薬液ノズル２と、スピンチャック１に保持されて回転されているウエハＷの表面にリンス液としての希塩酸を供給するためのリンス液ノズル３とを備えている。スピンチャック１による回転状態のウエハＷの表面に対して、薬液ノズル２からふっ酸が供給されて、そのふっ酸による処理が施された後、リンス液ノズル３から希塩酸が供給されることにより、ウエハＷの表面に付着しているふっ酸を洗い流すためのリンス処理が行われる。リンス処理後は、ウエハＷを高速回転させて乾燥させるスピンドライ処理が行われる。 （もっと読む）

【課題】基板表面におけるウォーターマークの発生を抑制することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、基板Ｗを保持して回転するためのスピンチャックと、基板Ｗに処理液を供給するための処理液ノズル１５と、基板Ｗの上面に対向する遮断板１０とを備える。遮断板１０および回転軸１２には、開口３１が形成されており、この開口３１に挿通された処理液ノズル１５は、基板Ｗの上面に処理液を供給する。また、遮断板１０のテーパ面２３と処理液ノズル１５の外壁面４２との間には、基板Ｗの上面に窒素ガスを供給するための環状の窒素ガス吐出口２６が設けられている。テーパ面２３は、周方向Ｘ１において不均一な形状にされており、基板Ｗ上の環状の窒素ガス吹付け域２７における窒素ガスの圧力は、周方向Ｘ１において不均一にされている。 （もっと読む）

【課題】ノズルが処理位置と待機位置との間を移動する際にノズルから落下する処理液によって生じる不具合を良好に防止することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】可動バット７０Ａがノズルバット４５の処理空間ＰＳ側上端部に軸支されて可動バット７０Ａのノズルバット４５側端部を回動中心として回動自在となっている。薬液ノズル４が隙間領域ＧＲの直上を移動する際には、ドラム６が上位置Ｐ６２とされ隙間領域ＧＲに移動され、可動バット７０Ａが橋渡姿勢Ｐ７１をとって移動中の薬液ノズル４から落下した薬液を受け止めノズルバット４５に案内する。その一方で、ドラム６がメンテナンス位置Ｐ６３とされ隙間領域ＧＲを越えて上方に移動される際には、ノズルの移動が禁止されるとともに可動バット７０Ａが退避姿勢Ｐ７２をとる。 （もっと読む）

【課題】 枚葉式の回転式基板処理装置において、使用した薬液の回収率を高める。装置価格を引き下げる。振動を抑える。薬液と廃液の雰囲気分離を行う。
【解決手段】 基板１を水平に支持して回転させる回転機構１０の周囲に、基板１から飛散する液体を受けるカップ２０を設ける。カップ２０に、筒状で昇降式の上段液体ガイド３０及び下段液体ガイド４０を組み合わせる。上段液体ガイド３０は、下方の待機位置で下段液体ガイド４０に重なって、両ガイド間に形成される液体導入口を閉じ、待機位置から上方への回収位置へ移動して、基板１から飛散する第１の液体をカップ２０の外へ導く。下段液体ガイド４０は、待機位置から上方への回収位置へ移動して、基板１から飛散する第２の液体をカップ２０内へ導く。 （もっと読む）

【課題】蒸気洗浄装置により被洗浄物を蒸気洗浄する際の設定条件を簡単且つ適切に設定できる蒸気洗浄条件の設定方法を提供すること。
【解決手段】本発明に係る蒸気洗浄条件の設定方法は、基板を準備し、蒸気洗浄装置から吐き出される洗浄用蒸気が吹きかかるように、基板を配置し（ＳＴ２０１）、測定用基板を準備し、蒸気洗浄装置から吐き出される洗浄用蒸気が吹きかからないように、基板から離間して、測定用基板を配置し（ＳＴ２０２）、基板および測定用基板の間を電気的に接続し（ＳＴ２０３）、蒸気洗浄装置により基板に洗浄用蒸気を吹きかけ（ＳＴ２０４）、測定用基板の表面電位を測定する（ＳＴ２０５）。そして、測定用基板の表面電位の測定値に基づいて、例えば洗浄用蒸気の吐出口に取り付けられるノズルの開口径や貫通穴長など、基板を蒸気洗浄する際の設定条件を設定する（ＳＴ２０６）。 （もっと読む）

【課題】大幅なコスト増加を招くことなく、複数の保持ローラの同期回転を保証することができ、これにより、基板のダメージおよび保持ローラの摩耗を低減できる基板保持回転装置を提供する。
【解決手段】第１基板保持回転装置１は、基板Ｗを保持して回転させるための４本の保持ローラ６〜８を備えている。４本の保持ローラ６〜８は、基板Ｗの周端面に沿って互いに所定間隔をあけて配置されている。保持ローラ６は、ベルト３３を介して保持ローラ駆動モータ３２からの駆動力が与えられるただ１つの駆動ローラである。４本の保持ローラ６〜８が基板Ｗを保持した状態で、保持ローラ駆動モータ３２が保持ローラ６を回転させることにより、基板Ｗが回転する。残り３本の保持ローラ７，８は、基板Ｗの回転に伴って、保持ローラ６と同期して従動回転する。また、保持ローラ６〜８は、いずれも、弾性材料であるゴムで形成されている。 （もっと読む）

【課題】基板の裏面の汚染に起因するパターン不良を防止できる基板処理装置を提供することである。
【解決手段】基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４およびインターフェースブロック１５を備える。インターフェースブロック１５に隣接するように露光装置１６が配置される。インターフェースブロック１５は、裏面洗浄処理ユニットＲＳＷを含む。裏面洗浄処理ユニットＲＳＷにおいて、露光処理前に基板Ｗの裏面が洗浄される。 （もっと読む）

本発明は、物体の洗浄用の超音波アクチュエータに関し、当該超音波アクチュエータは超音波用の伝播容積３、４、１３を有し、当該伝播容積に１つ又は複数の超音波振動子５が配置されている。伝播容積３、４、１３は、洗浄される物体１、１２に音響結合する結合面を有する音響放出窓８と、放射された超音波のための１つ又は複数の反射面６、７とによって画定されている。超音波振動子５は、放射された超音波が、反射面６、７における１回又は複数回の反射の後に初めて、放出窓８を介して伝播容積３、４、１３から出るように、伝播容積３、４、１３に配置されている。反射面は、放出窓８において、強度ピークを伴わずに超音波エネルギーの事前設定可能な分散が生じるように設計されている。本発明の超音波アクチュエータによって、洗浄液をわずかに利用して物体を傷めない洗浄が達成される。 （もっと読む）